本申请提供一种雷射修补设备及光罩生产系统，涉及光罩加工技术领域。该雷射修补设备包括：基座、设置在基座上的承载台、激光源和吸附组件，承载台用于固定光罩，激光源用于向光罩上的异物出射激光，吸附组件用于吸附激光源轰击异物产生的残渣。该雷射修补...

一种清洗结构及光罩清洗机，涉及光罩加工技术领域。该清洗结构包括机台、设置在机台上的液源组件、管路和控制器，以及设置在管路上的脏污感应器，液源组件用于存放和输送清洗液，管路的入口端与液源组件连接，出口端用于向待清洗产品喷洒清洗液，脏污感应...

本发明公开了一种灰尘固定方法及装置，涉及半导体技术领域。该灰尘固定方法包括：采用激光透过光罩的光学膜照射灰尘，以将灰尘固定在光罩的遮光层上。本发明提供的灰尘固定方法能够方便快捷的完成对光罩内部灰尘的有效处理，不影响光罩的正常使用。不影响...

本实用新型的实施例提供了一种夹持装置，涉及半导体技术领域。该夹持装置包括夹持体、第一夹持件、第二夹持件以及推动件。第一夹持件可移动地连接于夹持体，第一夹持件设置有第一夹持柱，第一夹持柱用于卡入防护膜一侧的第一卡孔内。第二夹持件可移动地连...

本发明的实施例提供了一种光罩微粒去除装置及其方法，涉及半导体技术领域。光罩微粒去除装置包括承载台、扫描电子显微镜、纳米针和竖直驱动机构，承载台用于承载待去微粒的光罩；扫描电子显微镜用于扫描光罩，确定光罩上微粒的位置；纳米针的表面设置有粘...

本申请公开了一种显影液温控系统，半导体匀胶显影技术领域。该显影液温控系统包括温控箱以及与温控箱连接的循环水管，温控箱内用于容置冷却水，循环水管的进水端和出水端均伸入温控箱，循环水管伸出温控箱的管段用于对显影液冷却恒温，在温控箱内设置有电...

本申请公开了一种显微镜载物平台及光罩检测装置，涉及光罩检测技术领域。该显微镜载物平台包括安装架以及滑动设置在安装架上的光罩放置架，安装架上设置有连杆，连杆与安装架的安装平面平行，光罩放置架沿连杆的延伸方向做往复直线运动，以使光罩放置架沿...

本发明的实施例提供了一种一站式多功能光罩和基板转移设备和方法，涉及半导体技术领域。一站式多功能光罩转移设备包括密闭室、五片盒和视觉手臂组，五片盒放置在密闭室中，五片盒的卡槽内安装有重力感应器，重力感应器用于在基板装入卡槽后发出位置及可载...

本申请提供一种电子束维修设备和光罩生产系统，涉及半导体制程技术领域，包括气体侦测器和具有腔室的主机，主机包括接入腔室的气体管路以及位于腔室的机台和电子束维修器，电子束维修器用于产生电子束，气体侦测器设置于腔室用于采集腔室的气体成分，以此...

本申请提供一种曝光控制方法及装置，方法包括：对待刻蚀掩模板上的光刻胶层进行曝光；对目标图形上的光刻胶层进行继续曝光，所述目标图形是从所述亚分辨率辅助图形中筛选出的，以利用所述目标图形辅助提高刻蚀完毕后得到的掩模板中所述可曝光图形成像的图...

本申请提供一种智能电子工单设备及半导体工单管理系统，涉及半导体技术领域。本申请通过在工单承载板的相对的两侧分别安装与该工单承载板连接在一起的卡挂组件和限位组件，由卡挂组件将工单承载板卡挂在半导体治具的射频识别标签的标签外壳上，并由限位组...

本申请公开了一种掩膜版缺陷的修复方法、掩膜版的制备方法及掩膜版，涉及半导体制造技术领域，本申请的掩膜版缺陷的修复方法，包括依据预设图案对掩膜版的遮光层进行缺陷识别，得到遮光层上的遮光缺陷区；对遮光缺陷区制冷处理；采用激光镭射遮光缺陷区，...

本发明的实施例提供了一种光罩缺陷修补方法、光罩制备方法和光罩，涉及光罩技术领域，该方法首先依据预设图案检测光罩衬底上的光阻层，以确定断线区域，然后在断线区域沉积修复层，在形成修复层后，再在断线区域沉积保护层，并使得保护层包覆在修复层的表...

本申请提供一种掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法，涉及掩模版保护技术领域。本申请将残胶清除组件经升降机构安装在承载基座上，使残胶清除组件可在升降机构的带动作用下相对于承载基座进行升降运动，接着将清理平台安装在承载基座上，使清理平台可...

本申请提供一种贴膜吸附结构、掩模版贴膜结构及系统，涉及掩模版保护技术领域。本申请通过贴附基座的顶端表面与安装有保护膜的贴膜框固定连接，并通过该贴附基座的底端表面与目标掩模版表面接触，该贴附基座的底端表面开设有凹槽，而后在贴附基座的侧壁外...

本申请实施例公开了一种芯片的制作方法，该方法包括：提供一光罩；将所述光罩的第一表面划分为多个尺寸和形状均相同的预设区域；根据各个预设区域中的预设图形的数量，获取所述多个预设区域中各个预设区域的图形密度；根据所述预设区域的图形密度，得到修...

本申请提供一种掩模版修补方法及装置、掩模版修补控制设备和存储介质，涉及半导体制程技术领域。本申请在获取到存在相移材料残留物的目标相位移掩模版当前映射出的特征尺寸线宽数值后，会在检测到特征尺寸线宽数值小于合格器件线宽范围的线宽下限值的情况...

本申请实施例公开了一种抑制静电释放的光罩及其制作方法，该光罩包括：基板；第一导电层，所述第一导电层位于基板第一表面，并被刻蚀成特定图形；第二导电层，所述第二导电层覆盖所述第一导电层以及所述基板第一表面，使得第一导电层中相邻且不相连的线路...

本发明公开一种掩模防护膜分离机构，包括支座和两个撬臂组件，该支座上具有两个沿第一方向平行设置的第一导轨，两个撬臂组件沿第一方向间隔设置在两个第一导轨上，且每个撬臂组件配置为：包括两个第一滑块和可绕支点转动的撬臂；两个第一滑块可分别沿两个...

本发明公开了一种相位移光罩的修补方法、修补装置以及相位移光罩，所述修补方法包括：提供一待修补的相位移光罩，所述相位移光罩具有透明基底，所述透明基底具有第一表面，所述第一表面上具有不透光线条；获取所述不透光线条的图形结构，以确定所述相位移...