掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法技术

本申请提供一种掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法，涉及掩模版保护技术领域。本申请将残胶清除组件经升降机构安装在承载基座上，使残胶清除组件可在升降机构的带动作用下相对于承载基座进行升降运动，接着将清理平台安装在承载基座上，使清理平台可带动自身盛放的带残胶掩模版相对于承载基座在水平面上移动或转动，进而通过使清理平台在残胶清除组件与带残胶掩模版的带残胶表面接触的情况下带动带残胶掩模版移动或转动来完成残胶擦除操作，从而通过对应掩模版残胶清理设备避免人工擦拭除胶所导致的人体损伤，并对单次掩模版除胶效果进行工艺标准化，降低掩模版在残胶去除过程中被污染的风险。去除过程中被污染的风险。去除过程中被污染的风险。

【技术实现步骤摘要】
掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法


[0001]本申请涉及掩模版保护
，具体而言，涉及一种掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法。

技术介绍

[0002]在半导体器件制成过程中，需要通过曝光、显影等手段将掩模版的掩模图案映射到基板上形成对应的曝光图形来制成期望的半导体器件，而在掩模版的使用过程中，通常需要将安装有保护膜的贴膜框贴装在该掩模版上以对该掩模版进行防尘保护。
[0003]目前，业界主流是通过底胶(例如，硅胶、亚克力胶等)将贴膜框粘连在掩模版上来实现对掩模版的保护，但底胶在被曝光过程中的大量镭射光照射后的针对掩模版表面的键结力会大幅度增加，导致后续拆除贴膜框时存在大量底胶残留在掩模版上，此时便需对掩模版上的残胶进行去除。但值得注意的是，现有去除掩模版残胶的方案需要使用有机溶剂进行人工擦拭，单次残胶去除效果往往会因人而异，在多次残胶去除过程中极易出现掩模版被有机溶剂污染的现象，同时也极易造成人体损伤。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请的目的在于提供一种掩模版残胶清理设备及掩模版残胶清理方法，能够在有效避免人工擦拭除胶所导致的人体损伤的同时，对单次掩模版除胶效果进行工艺标准化，降低掩模版在残胶去除过程中被污染的风险。
[0005]为了实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案如下：
[0006]第一方面，本申请提供一种掩模版残胶清理设备，所述清理设备包括承载基座、升降机构、残胶清除组件及清理平台；
[0007]所述残胶清除组件经所述升降机构安装在所述承载基座上，并可在所述升降机构的带动作用下相对于所述承载基座进行升降运动，其中所述残胶清除组件用于清除残胶；
[0008]所述清理平台安装在所述承载基座上，并可相对于所述承载基座在水平面上移动或转动，用于带动所述清理平台上盛放的带残胶掩模版进行移动或转动，其中所述清理平台可在所述残胶清除组件与所述带残胶掩模版的带残胶表面接触的情况下带动所述带残胶掩模版移动或转动，以完成残胶擦除动作。
[0009]在可选的实施方式中，所述升降机构包括悬臂及升降支架；
[0010]所述升降支架的固定支架结构与所述承载基座固定连接，所述悬臂与所述升降支架的可移动支架结构固定连接，所述残胶清除组件安装在所述悬臂上，其中所述可移动支架结构可相对于所述固定支架结构在竖直方向上移动。
[0011]在可选的实施方式中，所述残胶清除组件包括擦拭布供给轮、擦拭布收纳轮、擦拭抵接头及除胶剂喷头，其中所述擦拭布收纳轮用于从所述擦拭布供给轮处抽取擦拭布进行收纳；
[0012]所述除胶剂喷头设置在所述擦拭布供给轮与所述擦拭布收纳轮之间，用于向从所
述擦拭布供给轮处抽取的擦拭布喷涂除胶剂；
[0013]所述擦拭抵接头设置在所述擦拭布供给轮与所述擦拭布收纳轮之间，所述擦拭抵接头的抵接头部与浸润有除胶剂的擦拭布相互抵接，其中所述擦拭抵接头用于在所述残胶清除组件靠近所述带残胶掩模版时将浸润有除胶剂的擦拭布抵在所述带残胶掩模版的带残胶表面上。
[0014]在可选的实施方式中，所述擦拭布供给轮和所述擦拭布收纳轮各自的设置高度相互齐平，所述擦拭抵接头的抵接头部高度均低于擦拭布供给轮和所述擦拭布收纳轮各自的设置高度。
[0015]在可选的实施方式中，所述清理设备还包括第一平移旋钮、第二平移旋钮及平台传动组件；
[0016]所述平台传动组件容置在所述承载基座内，并与所述清理平台的远离所述残胶清除组件的表面固定连接；
[0017]所述第一平移旋钮及所述第二平移旋钮安装在所述承载基座外侧表面上，并分别与所述平台传动组件固定连接，其中所述第一平移旋钮在旋动时通过所述平台传动组件的传动作用带动所述清理平台在水平面的第一方向上进行移动，所述第二平移旋钮在旋动时通过所述平台传动组件的传动作用带动所述清理平台在水平面的第二方向上进行移动。
[0018]在可选的实施方式中，所述清理设备还包括转动旋钮；
[0019]所述转动旋钮安装在所述承载基座外侧表面上，并与所述平台传动组件固定连接，其中所述转动旋钮在旋动时通过所述平台传动组件的传动作用带动所述清理平台在水平面内进行转动。
[0020]在可选的实施方式中，所述清理设备还包括微观采集摄像装置；
[0021]所述微观采集摄像装置靠近所述残胶清除组件设置，用于对所述残胶清除组件清除所述带残胶表面上的残胶的微观残胶去除结果进行图像采集。
[0022]在可选的实施方式中，所述清理设备还包括视觉辅助显示器；
[0023]所述视觉辅助显示器与所述微观采集摄像装置电性连接，用于将所述微观采集摄像装置采集到的微观残胶去除结果图像进行显示。
[0024]在可选的实施方式中，所述清理设备还包括通信单元；
[0025]所述通信单元与远程控制终端通信连接，用于接收来自所述远程控制终端的针对所述升降机构和/或所述残胶清除组件和/或所述清理平台的运行状况的运行控制指令。
[0026]第二方面，本申请提供一种掩模版残胶清理方法，应用前述实施方式中任意一项所述的掩模版残胶清理设备，所述清理方法包括：
[0027]驱动清理平台将带残胶掩模版的待清除残胶区域移动到残胶清除组件下方；
[0028]驱动升降机构带动所述残胶清除组件靠近所述待清除残胶区域，使所述残胶清除组件与所述待清除残胶区域的带残胶表面相互抵接；
[0029]驱动所述清理平台带动所述带残胶掩模版相对于接触的所述残胶清除组件进行移动或转动，以实现对所述待清除残胶区域的残胶擦除动作。
[0030]在此情况下，本申请实施例的有益效果包括以下内容：
[0031]本申请将残胶清除组件经升降机构安装在承载基座上，使残胶清除组件可在升降机构的带动作用下相对于承载基座进行升降运动，接着将清理平台安装在承载基座上，使
清理平台可带动自身盛放的带残胶掩模版相对于承载基座在水平面上移动或转动，进而通过使清理平台在残胶清除组件与带残胶掩模版的带残胶表面接触的情况下带动带残胶掩模版移动或转动来完成残胶擦除操作，从而通过对应掩模版残胶清理设备避免人工擦拭除胶所导致的人体损伤，并对单次掩模版除胶效果进行工艺标准化，降低掩模版在残胶去除过程中被污染的风险。
[0032]为使本申请的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
[0033]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0034]图1为本申请实施例提供的掩模版残胶清理设备的组成示意图之一；
[0035]图2为图1所示的掩模版残胶清理设备的侧面展示示意图；
[0036]图3为本申请实施例提供的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模版残胶清理设备，其特征在于，所述清理设备包括承载基座、升降机构、残胶清除组件及清理平台；所述残胶清除组件经所述升降机构安装在所述承载基座上，并可在所述升降机构的带动作用下相对于所述承载基座进行升降运动，其中所述残胶清除组件用于清除残胶；所述清理平台安装在所述承载基座上，并可相对于所述承载基座在水平面上移动或转动，用于带动所述清理平台上盛放的带残胶掩模版进行移动或转动，其中所述清理平台可在所述残胶清除组件与所述带残胶掩模版的带残胶表面接触的情况下带动所述带残胶掩模版移动或转动，以完成残胶擦除动作。2.根据权利要求1所述的清理设备，其特征在于，所述升降机构包括悬臂及升降支架；所述升降支架的固定支架结构与所述承载基座固定连接，所述悬臂与所述升降支架的可移动支架结构固定连接，所述残胶清除组件安装在所述悬臂上，其中所述可移动支架结构可相对于所述固定支架结构在竖直方向上移动。3.根据权利要求1所述的清理设备，其特征在于，所述残胶清除组件包括擦拭布供给轮、擦拭布收纳轮、擦拭抵接头及除胶剂喷头，其中所述擦拭布收纳轮用于从所述擦拭布供给轮处抽取擦拭布进行收纳；所述除胶剂喷头设置在所述擦拭布供给轮与所述擦拭布收纳轮之间，用于向从所述擦拭布供给轮处抽取的擦拭布喷涂除胶剂；所述擦拭抵接头设置在所述擦拭布供给轮与所述擦拭布收纳轮之间，所述擦拭抵接头的抵接头部与浸润有除胶剂的擦拭布相互抵接，其中所述擦拭抵接头用于在所述残胶清除组件靠近所述带残胶掩模版时将浸润有除胶剂的擦拭布抵在所述带残胶掩模版的带残胶表面上。4.根据权利要求3所述的清理设备，其特征在于，所述擦拭布供给轮和所述擦拭布收纳轮各自的设置高度相互齐平，所述擦拭抵接头的抵接头部高度均低于擦拭布供给轮和所述擦拭布收纳轮各自的设置高度。5.根据权利要求1所述的清理设备，其特征在于，所述清理设备还包括第一平移旋钮、第二平移旋钮及平台传动组件；所述平台传动组件容置在所述承载基座内，并与所述清理平台的远离所述残胶清除组件的表面固定连接；所述第一平移...

【专利技术属性】
技术研发人员：林锦鸿，谢发政，吴仕伟，
申请(专利权)人：泉意光罩光电科技济南有限公司，
类型：发明
国别省市：