提供一种能够高精度地计测载台位置并防止描绘精度降低的带电粒子射束描绘装置、带电粒子射束描绘方法及相位差板的调整方法。带电粒子射束描绘装置具备：测长部，使用第一频率及第二频率的激光来计测载台的位置；壁面位移测定部，使用第一频率及第二频率的...

本发明提供一种射束检测器、多带电粒子束照射装置以及射束检测器的调整方法，使两级孔径的孔高精度地对位。本实施方式的射束检测器具备：第1孔径基板，形成有比多带电粒子束的射束间间距小的第1通过孔；第2孔径基板，形成有通过上述第1通过孔后的1根...

本发明的一个方案的多带电粒子束描绘装置，其特征在于，具备：计算处理部，执行因向与射束阵列区域对应的处理区域内的各网格区域照射射束而产生的热被提供给作为多个网格区域之一的关注网格区域而引起的上升温度的计算处理，上述计算处理通过使用了每个上...

提供消隐孔径阵列系统以及多带电粒子束描绘装置，抑制因散射电子、制动辐射X射线而引起的电路元件的动作不良。消隐孔径阵列系统具备：消隐孔径阵列基板，形成有供多带电粒子束的各射束从上游侧向下游侧通过的多个射束通过孔，与各射束通过孔对应地分别设...

本发明提供能够抑制由在控制电路中流动的电流引起的磁场对射束产生的影响的安装基板、消隐孔径阵列芯片、消隐孔径阵列系统及多带电粒子射束照射装置。本发明的一个方式的安装基板搭载于多带电粒子射束照射装置，安装消隐孔径阵列芯片，该消隐孔径阵列芯片...

提供一种能够提高描绘精度的多带电粒子束的评价方法、多带电粒子束描绘方法、检查方法及记录介质。该多带电粒子束的评价方法为，对通过设置于孔径阵列基板的多个开口部后的多带电粒子束中的多个单独射束的轨道进行评价，其中，将上述多带电粒子束的成像面...

一种能够削减像素覆盖率的计算量及存储器使用量的覆盖率计算方法、带电粒子束描绘方法、覆盖率计算装置及带电粒子束描绘装置及程序制品。覆盖率计算方法计算将被照射带电粒子束来描绘图案的描绘区域以规定尺寸分割后的每个像素区域的图案的覆盖率。在覆盖...

本发明提供带电粒子束描绘方法、带电粒子束描绘装置以及计算机可读取的存储介质，能够减小射束照射位置的偏差。本实施方式的带电粒子束描绘方法通过偏转器使带电粒子束偏转，向形成有抗蚀剂膜的基板照射上述带电粒子束来描绘图案。该方法为，以第1照射量...

提供一种多带电粒子束装置的光学系统调整方法以及计算机可读取的存储介质，能够有效地使多带电粒子束照明系统像差减小。在将多带电粒子束依次经由包含多个要素的照明光学系统以及物镜照射到载置在工作台上的基板的多带电粒子束装置的光学系统调整方法中，...

提供一种多电子束描绘装置以及多电子束描绘方法，能够提高形成电子束的光电面的各区域的受光量的均匀性。本发明的一个方案的多电子束描绘装置具备：阵列光源，具有多个光源，产生多个第1光；多透镜阵列，具有多个透镜，多个第1光的各第1光对多个透镜中...

提供一种电子枪的阴极寿命预测方法以及电子线描绘装置，能够高精度预测电子枪的阴极寿命。本发明的一个方案的电子枪的阴极寿命预测方法将与电子束相关的参数的值下的发射电子束的电子枪的阴极的每单位上升温度的变化量与阴极的使用时间相关联地记录，将多...

本发明提供能够降低碳化硅层中的晶体缺陷密度的气相生长方法及气相生长装置。实施方式的气相生长方法向碳化硅基板上以第1气体条件供给第1工艺气体，以第1生长速度形成具有第1掺杂浓度的第1碳化硅层，在形成第1碳化硅层之后，以第2气体条件供给第2...

提供一种检查装置以及焦点位置调整方法，能够减少自动对焦的追随延迟。根据实施方式，检查装置包括：工作台；照明光学系统；成像光学系统，包括检测焦点位置的传感器；检测电路，基于传感器接收到的光，检测光的焦点位置信号；设定电路，根据使基于对试样...

本发明提供一种能够使可得到期望的亮度分布的阴极的寿命延长的电子枪的阴极机构以及电子枪的阴极机构的制造方法。本发明的一个方式的电子枪的阴极机构具备：晶体，具有上部和下部，所述上部为柱状、圆锥台状或它们的组合，且具有通过加热而发射出热电子的...

提供一种能够抑制消隐期间中的泄漏束给描绘处理带来的影响的描绘装置以及描绘装置的控制方法。本实施方式的描绘装置是将多带电粒子束向照射对象的规定位置照射而在照射对象上描绘规定图案的描绘装置，具备：生成多带电粒子束的束生成机构；对所生成的多带...

提供一种电子束检查装置，能够抑制施加了减速电压的基板与支承销之间的空间的电场的集中，进行高精度的检查。本发明的一个方式的电子束检查装置具备：光学系统，向基板上照射1次电子束；射束分离器，将因上述1次电子束照射到上述基板而发射的2次电子束...

提供一种能够不使处理量下降而抑制依存于时间的图案描绘位置偏差的带电粒子束描绘方法及带电粒子束描绘装置。在本实施方式的带电粒子束描绘方法中，一边将带电粒子束描绘装置的描绘室和输送基板的输送机构分别维持在规定的温度，一边用上述输送机构将基板...

本发明提供一种数据生成方法、带电粒子束照射装置以及计算机可读取的记录介质，能够高速且准确地进行包含曲线的图形的像素覆盖率计算。本发明的一个方式的数据生成方法将表现描绘图案的形状且由在规定方向上依次配置的多个控制点定义的参数曲线在极值以及...

提供多带电粒子束描绘方法以及多带电粒子束描绘装置，能够在抑制阵列畸变的增加的同时解决由二次电子的空间滞留和偏转器电极带电产生的射束位置的变动。本实施方式的多带电粒子束描绘方法具备：形成向描绘对象的基板照射的多带电粒子束的工序；使上述多带...

本发明的光电面电子源(1)包含：玻璃基板(40)，其接收自基板背面(44)入射的光(101)，自基板主面(43)出射激光(101)；光电面(50)，其设置于基板主面(43)，且接收激光(101)而放出光电子(102)；透镜阵列(41S)...