射束检测器、多带电粒子束照射装置以及射束检测器的调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种射束检测器、多带电粒子束照射装置以及射束检测器的调整方法，使两级孔径的孔高精度地对位。本实施方式的射束检测器具备：第1孔径基板，形成有比多带电粒子束的射束间间距小的第1通过孔；第2孔径基板，形成有通过上述第1通过孔后的1根检测对象射束能够通过的第2通过孔；以及传感器，检测通过上述第2通过孔后的上述检测对象射束的射束电流。上述第2孔径基板包含对光具有透射性的导电性的材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及射束检测器、多带电粒子束照射装置以及射束检测器的调整方法。

技术介绍

1、随着lsi的高集成化，半导体设备的电路线宽进一步微细化。作为形成用于向这些半导体设备形成电路图案的曝光用掩模(在步进器、扫描仪中使用的也称作中间掩模。)的方法，使用具有优异的析像度的电子束描绘技术。

2、作为电子束描绘装置，正在进行使用了多射束的描绘装置的开发。与用一个电子束描绘的情况相比，通过使用多射束，能够照射较多的射束，因此，能够大幅度提高处理量。在多射束方式的描绘装置中，例如，使从电子枪发射的电子束通过具有多个孔的孔径部件而形成多射束，通过消隐孔径阵列进行各射束的消隐控制，未被遮挡的射束由光学系统缩小，向载置在可移动的工作台上的基板照射。

3、为了高精度地保持基板上的多射束的照射位置，重要的是高精度地掌握构成多射束的各射束在基板上的位置。射束根数较少，例如为几根左右，在射束间间距足够宽的构成中，在工作台上配置与各射束用的射束根数相同数量的标记，通过用各射束在对应的标记上扫描，能够测定各射束的位置(例如，参照日本特开2009-9882号公报本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种射束检测器，具备：

2.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

3.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

4.根据权利要求3所述的射束检测器，其中，

5.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

6.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

7.一种多带电粒子束照射装置，具备：

8.根据权利要求7所述的多带电粒子束照射装置，其中，

9.根据权利要求7所述的多带电粒子束照射装置，其中，

10.根据权利要求9所述的多带电粒子束照射装置，其中，

11.根据权利要求7所述...

【技术特征摘要】

1.一种射束检测器，具备：

2.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

3.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

4.根据权利要求3所述的射束检测器，其中，

5.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

6.根据权利要求1所述的射束检测器，其中，

7.一种多带电粒子束照射装置，具备：

8.根据权利要求7所述的多带电粒子束照射装置，其中，

9.根据权利要求7所述的多带电粒子束照射装置，其中，

10.根据权利要求9所述的多带电粒子束照...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤保尚，明野公信，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：