检查装置以及焦点位置调整方法制造方法及图纸

提供一种检查装置以及焦点位置调整方法，能够减少自动对焦的追随延迟。根据实施方式，检查装置包括：工作台；照明光学系统；成像光学系统，包括检测焦点位置的传感器；检测电路，基于传感器接收到的光，检测光的焦点位置信号；设定电路，根据使基于对试样被假想分割成的多个条纹状的区域的第1区域进行光扫描而得的结果生成的第1焦点位置数据的坐标数据朝工作台的行进方向位移的结果，设定第1区域的第1聚焦偏移值；以及控制电路，基于焦点位置信号和第1聚焦偏移值，对工作台高度位置进行控制。对工作台高度位置进行控制。对工作台高度位置进行控制。

【技术实现步骤摘要】
检查装置以及焦点位置调整方法
[0001]本申请以日本专利申请2021
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177889(申请日：2021年10月29日)为基础，享受该申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包含该基础申请的全部内容。


[0002]本专利技术的实施方式涉及用于检查形成在试样上的图案的检查装置以及焦点位置调整方法。

技术介绍

[0003]在半导体设备的制造工序中，通过使用了曝光装置(也被称作“步进器”或者“扫描仪”)的缩小曝光，电路图案被转印到半导体基板上。在曝光装置中，使用形成有原画图案(以下，也简记为“图案”)的掩模(也被称作“中间掩模”)。
[0004]在半导体设备的制造中，作为使成品率降低的主要原因之一，有掩模的图案缺陷。
[0005]例如，在最尖端的设备中，要求几nm的线宽的图案的形成。伴随图案的微细化，掩模中的图案的缺陷也微细化。因而，要求掩模的检查装置提高微细的缺陷的检测精度。
[0006]在掩模的检查装置中，掩模载置在工作台上。然后，通过工作台移动，经由光学系统照射的光在掩模上进行扫描。透射掩模或者本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种检查装置，具备：工作台，载置试样；照明光学系统，照射用于上述试样的光扫描的光；成像光学系统，包括检测焦点位置的传感器，使照射到上述试样的上述光在上述传感器上成像；检测电路，基于上述传感器接收到的上述光，检测上述光的焦点位置信号；设定电路，根据使基于对上述试样在与上述工作台的行进方向正交的方向上被假想分割成的多个条纹状的区域的第1区域进行光扫描而得的结果生成的第1焦点位置数据的坐标数据朝上述工作台的上述行进方向位移的结果，设定上述第1区域的第1聚焦偏移值；以及控制电路，基于上述焦点位置信号和上述第1聚焦偏移值，对工作台高度位置进行控制。2.根据权利要求1所述的检查装置，其中，当朝第1方向进行光扫描时，上述工作台朝与上述第1方向相向的第2方向移动，上述设定电路基于使上述第1焦点位置数据的上述坐标数据朝上述第2方向位移的结果，设定上述第1区域的上述第1聚焦偏移值。3.根据权利要求1所述的检查装置，其中，还具备生成上述第1焦点位置数据的生成电路，上述生成电路基于对上述试样进行光扫描而得的结果，生成基于移动平均的上述工作台高度位置的近似数据。4.根据权利要求1所述的检查装置，其中，在朝第1方向对上述多个条纹状的区域的第n个区域进行光扫描的情况下，上述设定电路基于朝上述第1方向对上述多个条纹状的区域的第(n
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2)个区域进行光扫描而得的结果，设定第n个聚焦偏移值，其中，n为3以上的自然数。5.根据权利要求1所述的检查装置，其中，上述多个条纹状的区域包括与上述第1区域相邻的第2区域，在朝第1方向对上述第1区域进行光扫描的情况下，上述第2区域被朝与上述第1方向相向的第2方向进行光扫描。6.根据权利要求1所述的检查装置，其中，上述检查装置还具备比较电路，该比较电路对上述试样的基于上述光扫描的光学图像与参照图像进行比较。7.根据权利要求6所述的检查装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：武田雅矢，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：