本发明涉及一种减少遮蔽构件的更换频度的溅射装置。溅射装置具备：靶材，其向基板飞散溅射粒子；以及遮蔽构件，其位于所述基板与所述靶材之间，在成膜时限制相对于所述基板的溅射粒子的飞散范围，其中，所述遮蔽构件是具有外周面的旋转体，通过所述旋转体...

本发明提供能够实现在成膜面上具有凹凸的基板的膜厚的均匀化的溅射装置。所述溅射装置具备：移动机构，其移动基板；靶材，其使溅射粒子朝向所述基板飞散；磁铁，其以使来自所述靶材的溅射粒子的主飞散方向成为从所述基板的法线方向倾斜的斜入射方向的方式...

本发明提供提高相对于成膜室的基板的输送精度的动作设定装置、动作设定方法及电子器件的制造方法。动作设定装置设定具有支承基板的机械手并向成膜室输送基板的机器人的动作，其中，具备：夹具，其代替所述基板支承于所述机械手，搭载有测量部件；控制部件...

本发明提供能够抑制蒸镀材料粘附的蒸镀用坩埚及蒸镀装置。一种蒸镀用坩埚，其特征在于，该蒸镀用坩埚具备：第一坩埚；以及第二坩埚，设置在所述第一坩埚的内侧，收容蒸镀材料，所述第二坩埚的材料的热传导率大于所述第一坩埚的材料的热传导率。一种蒸镀用...

本发明提供将作为膜厚的测量对象的基板的形状维持为恒定的成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法。成膜装置对基板进行成膜。测量部件测量形成于基板的膜的厚度。静电卡盘利用静电力吸附基于测量部件测量的测量对象的基板。移动部件使静电卡盘移动...

本发明提供一种成膜装置、膜厚测量方法以及电子器件的制造方法，在进行基板的膜厚测量的装置中抑制装置的大型化。成膜装置对基板进行成膜。测量头测量形成于基板的膜的厚度。移动部件使测量头移动。动部件使测量头移动。动部件使测量头移动。

本发明提供用于提高在基板与掩模的对准中的标记的检测可能性的技术。本发明涉及的对准装置具备：对准机构，其进行被成膜对象的基板与掩模的对准；检测机构，其根据通过对设置于基板的对准标记及设置于掩模的对准标记中的至少任一个进行拍摄而得到的图像数...

本发明提供能够提高生产率的成膜量测定装置、成膜装置、成膜量测定方法、成膜方法以及电子器件的制造方法。在第一期间，进行使用第一石英振子的成膜量的测定，在从所述第一期间结束起到第二期间开始为止的期间，暂停基于所述第一石英振子的成膜量的测定，...

本发明涉及反射率测定装置、成膜装置。用于防止反射率的测定精度降低。反射率测定装置具备：光源；投受光头，所述投受光头具备投光部、反射光输入部及修正光输入部，所述投光部向被测定物照射被输入到投受光头的来自光源的光所包含的第一光和第二光中的第...

本发明的成膜装置包含基板保持单元和静电吸盘，所述基板保持单元包含用于支承基板的周缘部的支承部，所述静电吸盘设置于所述支承部的上方并用于吸附基板，所述支承部包含设置于第一方向的第一支承部件和以与所述第一支承部件相对的方式设置于所述第一方向...

本发明提供在基板搬送装置中高精度地取得基板的边缘图像的基板搬送装置和成膜装置。基板搬送装置具备：搬送部件，搬送基板；拍摄部件，在将基板对准搬送部件时，使用来自光源的照明光进行基板的边缘图像的拍摄；调整部件，在基板的边缘图像的拍摄中产生不...

本发明涉及成膜装置，用于提高测定成膜后的基板的膜厚时的便利性。本发明的成膜装置具备：成膜室，所述成膜室设置有对基板进行成膜的成膜单元；输送构件，所述输送构件一边将基板保持在下侧，一边在基板的成膜位置与基板的接收位置之间输送基板；以及测定...

本发明提供一种能够抑制基板的破损发生地保持基板的基板支架。基板支架(30)使基板(2)的被处理区域(21a)露出地保持基板(2)，其特征在于，具备：夹持部(310、320)，所述夹持部(310、320)与基板(2)的角部(24)不接触地...

本发明提供一种能够减少由按压构件产生的按压力的偏差的基板按压装置及成膜装置。一种向铅垂方向下方按压基板(200)的基板按压装置(600)，其中，具备：按压基板(200)的按压构件(610)；以及在基板(200)与按压构件(610)分离的...

本发明涉及对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。抑制由对准照相机的光轴的倾斜引起的对准精度的降低。对准装置具有：移动构件，所述移动构件使基板和掩模中的至少一方沿着与基板的成膜面交叉的移动方向移动；测定构件，所述测...

本发明涉及成膜装置，能够应对基板的大型化。本发明的成膜装置具备：第一输送构件，所述第一输送构件输送基板；成膜室，所述成膜室对所述基板进行成膜；以及第二输送构件，所述第二输送构件从所述第一输送构件接收所述基板，并将接收到的所述基板向所述成...

本发明提供一种能够应对基板的大型化的成膜装置、基板传送装置、基板传送方法及电子器件的制造方法。成膜装置具备：对基板进行成膜的成膜室；传送基板的第一传送机构；以及将在第一位置从第一传送机构接收的基板向第二位置传送的第二传送机构。第二传送机...

本发明涉及成膜装置，能够提高生产率。本发明的成膜装置具备：输送构件，所述输送构件输送基板；成膜室，所述成膜室进行所述基板的成膜；以及保持构件，所述保持构件从所述输送构件接收所述基板，在所述基板的成膜中保持所述基板，所述输送构件具备从所述...

本发明提供一种成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。进行使用了多个蒸发源的高效的成膜处理。成膜装置具备蒸发源单元，所述蒸发源单元包括具有放出蒸镀物质的第一放出部的第一蒸发源及具有放出蒸镀物质的第二放出部的第二蒸发源，一边移动一边在基板...

本发明提供一种对准装置，抑制成膜中的基板与掩模的对准时的位置偏离，提高对准精度。该对准装置具备：在沿着基板的被成膜面的平面内进行基板与掩模的相对位置调整的对准机构、在与平面交叉的交叉方向上使基板相对于掩模的相对位置移动的移动机构、以及测...