对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。抑制由对准照相机的光轴的倾斜引起的对准精度的降低。对准装置具有：移动构件，所述移动构件使基板和掩模中的至少一方沿着与基板的成膜面交叉的移动方向移动；测定构件，所述测定构件使用光学拍摄构件来测定沿着基板的成膜面的方向上的基板与掩模的相对位置关系；对准构件，所述对准构件基于测定构件的测定结果来调整基板与掩模的相对位置关系；调整构件，所述调整构件对拍摄构件的光轴和基于移动构件的移动方向中的至少任一个的倾斜进行调整；以及控制构件，所述控制构件根据与拍摄构件的光轴和基于移动构件的移动方向的相对倾斜相关的信息来控制调整构件。控制调整构件。控制调整构件。

【技术实现步骤摘要】
对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。

技术介绍

[0002]在有机EL显示器的制造工序中，使用经由以规定的图案形成有开口的掩模在基板上形成规定的图案的膜的掩模成膜法。在掩模成膜法中，在进行掩模与基板的对准之后，使掩模与基板紧贴而进行成膜。为了通过掩模成膜法高精度地成膜，重要的是高精度地进行掩模与基板的对准。
[0003]在掩模与基板的对准完成后，有时会因升降动作等装置的动作而产生掩模与基板的位置偏移。在专利文献1中记载了如下技术：在使完成了对准的基板与掩模紧贴之后，利用对准用照相机再次拍摄对准标记，基于拍摄图像来测量位置偏移量，将其作为偏置量进行存储，使偏置量反映到对准中的目标位置，由此抑制由机械动作引起的位置偏移。
[0004]拍摄对准标记的照相机光学系统的光轴有时相对于掩模或基板的基于升降机构的移动方向相对地倾斜。在该情况下，拍摄图像中的对准标记之间的位置偏移量与使基板和掩模紧贴的状态下的实际的对准标记之间的位置偏移量不一致。因此，无法高精度地进行基于拍摄图像的对准。在专利文献2中记载了如下技术：预先测定光轴的倾斜，基于光轴的倾斜对从拍摄图像得到的对准标记之间的位置偏移量进行修正，基于修正后的位置偏移量来进行掩模与基板的对准。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2020
‑
105629号公报
[0008]专利文献2：日本特开2021
‑
080563号公报

技术实现思路

[0009]专利技术要解决的课题
[0010]作为提高对准精度的方法，也可以考虑以光轴相对于基于升降机构的移动方向的倾斜变小的方式调整对准用照相机的光轴的方法。例如，作为成膜装置的初始设定，能够使用测定用的基板以及掩模来测定光轴的倾斜，并根据测定出的光轴的倾斜来调整对准用照相机的光轴。
[0011]但是，有时在一个成膜装置中使用开口图案不同的多种掩模来进行成膜，若掩模的种类不同，则升降机构的移动方向、对准标记附近的基板、掩模的倾斜发生变化，因此，光轴的倾斜也发生变化。在作为成膜装置的初始设定而调整光轴的倾斜的方法中，无法应对与掩模的种类相应的光轴的倾斜的变化。
[0012]本专利技术的目的在于抑制由对准照相机的光轴的倾斜引起的对准精度的降低。
[0013]用于解决课题的方案
[0014]本专利技术的对准装置的特征在于，具有：
[0015]移动构件，所述移动构件使基板和掩模中的至少一方沿着与基板的成膜面交叉的移动方向移动；
[0016]测定构件，所述测定构件使用光学拍摄构件来测定沿着所述基板的成膜面的方向上的所述基板与所述掩模的相对位置关系；
[0017]对准构件，所述对准构件基于所述测定构件的测定结果来调整所述基板与所述掩模的相对位置关系；
[0018]调整构件，所述调整构件对所述拍摄构件的光轴和基于所述移动构件的所述移动方向中的至少任一个的倾斜进行调整；以及
[0019]控制构件，所述控制构件根据与所述拍摄构件的光轴和基于所述移动构件的所述移动方向的相对倾斜相关的信息来控制所述调整构件。
[0020]本专利技术的对准方法具有：
[0021]测定工序，在所述测定工序中，使用光学拍摄构件来测定沿着基板的成膜面的方向上的基板与掩模的相对位置关系；
[0022]对准工序，在所述对准工序中，基于所述测定工序的测定结果来调整所述基板与所述掩模的相对位置关系；以及
[0023]移动工序，在所述对准工序之后，在所述移动工序中，以使所述基板与所述掩模接近的方式使所述基板和所述掩模中的至少一方移动，
[0024]所述对准方法的特征在于，
[0025]所述对准方法具有控制工序，在所述控制工序中，根据与所述拍摄构件的光轴和基于所述移动工序的移动方向的相对倾斜相关的信息，进行调整所述拍摄构件的光轴和所述移动工序中的移动方向中的至少任一个的倾斜的控制。
[0026]专利技术效果
[0027]根据本专利技术，能够抑制由对准照相机的光轴的倾斜引起的对准精度的降低。
附图说明
[0028]图1是示意性地表示实施方式的电子器件的制造装置的结构的图。
[0029]图2是表示实施方式的对准装置的结构的图。
[0030]图3是示意性地表示实施方式的照相机调整机构的结构的图。
[0031]图4(A)～(C)是表示实施方式的基板标记以及掩模标记的结构的图。
[0032]图5是表示实施方式的对准装置中的载体以及掩模的支承结构的图。
[0033]图6是表示实施方式的对准照相机的光轴偏移的图。
[0034]图7(A)～(D)是说明取得实施方式的对准照相机的光轴偏移的方法的图。
[0035]图8(A)、(B)是表示实施方式的对准照相机的光轴偏移的变化的图。
[0036]图9是表示实施方式的对准处理的流程图的图。
[0037]图10(A)、(B)是表示实施方式的有机EL显示装置的结构的图。
[0038]附图标记说明
[0039]10：基板、12：掩模、16：掩模支承单元、24：升降滑块、26：对准台、28：致动器部、30：控制部、31：对准照相机、35：照相机调整机构
具体实施方式
[0040]以下，参照附图，例示性地说明用于实施本专利技术的方式。但是，关于构成部件的尺寸、材质、形状、其相对配置等，只要没有特别记载，其主旨并非将本专利技术的范围仅限定于此。
[0041]对本专利技术的实施方式的对准装置、对准方法、成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法进行说明。本实施方式的成膜装置是在基板的表面经由掩模堆积成膜材料而形成薄膜的装置。作为成膜方法，能够例示真空蒸镀、溅射。通过使基板与掩模对位而进行成膜，从而在基板上形成与掩模的开口图案相应的图案的薄膜。在基板上形成多层的情况下，有时也包含直至前一个工序为止已形成的层而称为“基板”。本实施方式的对准装置为了高精度地进行经由掩模的薄膜形成，进行调整基板与掩模的相对位置的对准。需要说明的是，本专利技术能够应用于对基板与掩模进行对位的一般对准装置，应用对象并不限于成膜装置。
[0042]作为基板的材料，能够例示玻璃、硅等半导体、高分子材料的膜、金属等。另外，作为基板，能够例示硅片、在基板上层叠有聚酰亚胺等膜的基板。作为成膜材料，能够例示有机材料、无机材料(金属、金属氧化物)等。作为掩模，能够例示具有与形成于基板的薄膜图案对应的开口图案的金属掩模。作为利用本实施方式的制造方法制造的电子器件，能够例示半导体器件、磁器件、电子部件等各种电子器件、光学部件、发光元件、光电转换元件、触摸面板、具备发光元件的显示装置(例如有机EL显示装置)、照明装置(例如有机EL照明装置)、具备光电转换元件的传感器(例如有机CMOS图像本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种对准装置，其特征在于，所述对准装置具有：移动构件，所述移动构件使基板和掩模中的至少一方沿着与基板的成膜面交叉的移动方向移动；测定构件，所述测定构件使用光学拍摄构件来测定沿着所述基板的成膜面的方向上的所述基板与所述掩模的相对位置关系；对准构件，所述对准构件基于所述测定构件的测定结果来调整所述基板与所述掩模的相对位置关系；调整构件，所述调整构件对所述拍摄构件的光轴和基于所述移动构件的所述移动方向中的至少任一个的倾斜进行调整；以及控制构件，所述控制构件根据与所述拍摄构件的光轴和基于所述移动构件的所述移动方向的相对倾斜相关的信息来控制所述调整构件。2.如权利要求1所述的对准装置，其特征在于，所述控制构件控制所述调整构件，以使所述相对倾斜变小。3.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，与所述相对倾斜相关的信息包含所述调整构件的动作量的信息。4.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置具有存储构件，所述存储构件将掩模的种类和与使用了该种类的掩模的情况下的所述相对倾斜相关的信息相关联地进行存储，所述控制构件基于根据在所述对准装置中使用的掩模的种类的信息而选择的、与对应于所述掩模的种类的所述相对倾斜相关的信息来控制所述调整构件。5.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述对准装置具有测定所述相对倾斜的倾斜测定构件，所述控制构件基于从所述倾斜测定构件的测定结果得到的与所述相对倾斜相关的信息来控制所述调整构件。6.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述调整构件具有调整所述拍摄构件的位置和角度的致动器。7.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述调整构件具有调整所述移动构件的位置和角度的致动器。8.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述测定构件基于对设置于所述基板的基板标记和设置于所述掩模的掩模标记进行拍摄而得到的拍摄图像，来测定所述基板与所述掩模的相对位置关系。9.如权利要求1或2所述的对准装置，其特征在于，所述移动构件在通过所述对准构件使所述基板与所述掩模的相对位置关系满足规定的目标之后，将所述基板载置于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：三村拓平，柴田匠，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：