本发明专利技术的成膜装置包含基板保持单元和静电吸盘，所述基板保持单元包含用于支承基板的周缘部的支承部，所述静电吸盘设置于所述支承部的上方并用于吸附基板，所述支承部包含设置于第一方向的第一支承部件和以与所述第一支承部件相对的方式设置于所述第一方向的第二支承部件，所述第一支承部件和所述第二支承部件分别能够在各自的基板支承面支承基板的方向上位移。向上位移。向上位移。
【技术实现步骤摘要】
成膜装置及使用其的有机EL显示装置的制造方法
[0001]本申请是申请日为2018年7月27日、申请号为201810845796.9、专利技术名称为“成膜装置及使用其的有机EL显示装置的制造方法”的专利技术专利申请的分案。
[0002]本专利技术涉及一种成膜装置，特别是涉及用于使基板平坦地附着于静电吸盘的基板支承部。
技术介绍
[0003]最近，作为平板显示装置，有机EL显示装置受到关注。有机EL显示装置是自发光显示器，响应速度、视角、薄型化等特性优于液晶面板显示器，在监视器、电视、以智能手机为代表的各种便携式终端等中以较快的速度代替以往的液晶面板显示器。另外，其应用领域正在扩展到汽车用显示器等中。
[0004]有机EL显示装置的元件具有在两个相对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有引起发光的有机物层的基本构造。有机EL显示装置元件的有机物层及电极层通过将蒸镀材料经由形成有像素图案的掩模蒸镀到放置于真空腔室上部的基板(的下表面)而形成，所述蒸镀材料通过对设置于成膜装置的真空腔室的下部的蒸镀源进行加热而蒸发。
[0005]在这样的上方向蒸镀方式的成膜装置的真空腔室内，基板由基板保持架保持，基板的下表面的周缘被基板保持架的支承部支承，从而不对形成于基板(的下表面)的有机物层/电极层造成损伤。在该情况下，随着基板的尺寸变大，没有被基板保持架的支承部支承的基板的中央部由于基板的自重而挠曲，成为蒸镀精度下降的重要原因。
[0006]作为用于降低由基板的自重引起的挠曲的方法，正在研究使用静电吸盘的技术。即，通过在基板的上部设置静电吸盘，利用静电吸盘吸附由基板保持架的支承部支承的基板的上表面，从而基板的中央部被静电吸盘的静电引力拉拽，能够降低基板的挠曲。
技术实现思路
[0007][本专利技术要解决的课题][0008]但是，构成以往的基板保持架的支承部的支承部件以其基板支承面成为相同高度的方式设置，放置于这样的支承部上的基板由于自重而导致基板的中央部挠曲，因此由基板保持架的支承部支承的基板以基板的周缘部相比于基板的中央部靠近静电吸盘的状态被支承。在该状态下，若使平板形状的静电吸盘朝向基板下降，则由基板保持架的支承部支承的基板的周缘部几乎同时从静电吸盘受到静电引力而被静电吸盘吸附，基板的中央部最慢地受到静电引力。
[0009]即，基板向静电吸盘的吸附从基板的周缘部朝向基板的中央部推进，因此即使静电吸盘与基板充分接近，基板也不会平坦地吸附于静电吸盘，在基板的中央部残留有基板与静电吸盘的间隙。即，在以往的成膜装置中，即使使用静电吸盘，基板的中央部与静电吸盘的间隙依然残留，存在无法充分平坦地保持基板的问题。另外，由于基板的下表面的周缘
部由基板保持架的支承部以最强的支承力支承，即，静电引力最强地作用，因此，不能够使最晚受到静电吸盘的静电引力的基板的中央部的挠曲朝向基板的周缘部充分伸展，从而残留褶皱。
[0010]本专利技术的目的在于提供一种能够利用静电吸盘以平坦的形状吸附基板的成膜装置以及使用这样的成膜装置制造电子器件的方法。
[0011][解决问题的手段][0012]本专利技术的第一方式的成膜装置包含基板保持单元和静电吸盘，所述基板保持单元包含用于支承基板的周缘部的支承部，所述静电吸盘设置于所述支承部的上方并用于吸附基板，所述支承部包含设置于第一方向的第一支承部件和以与所述第一支承部件相对的方式设置于所述第一方向的第二支承部件，所述第一支承部件和所述第二支承部件分别能够在各自的基板支承面支承基板的方向上位移。
[0013]本专利技术的第二方式的成膜方法包含：向本专利技术的第一方式的成膜装置内搬入基板而将基板放置于基板保持单元的支承部的工序、利用静电吸盘来吸附放置于所述基板保持单元的所述支承部上的基板的上表面的工序、以及经由掩模在基板上堆积蒸镀材料的成膜工序。
[0014]本专利技术的第三方式的有机EL显示装置的制造方法使用本专利技术的第二方式的成膜方法制造有机EL显示装置。
[0015][专利技术的效果][0016]根据本专利技术，通过将用于支承基板的下表面的周缘部的基板保持单元的支承部件设置为具有彼此高度不同的基板支承面，在由基板保持单元的支承部件支承的基板被静电吸盘吸附时，基板的相对的两边不会同时被静电吸盘吸附，在基板的相对的两边中，被基板支承面的高的支承部件支承的边侧先被静电吸盘吸附，之后，朝向其他边侧基板依次被静电吸盘吸附。由此，能够使基板的中央部的挠曲朝向基板的周缘部的其他边侧伸展，即使在基板的中央部，基板与静电吸盘也无间隙地紧贴，整体上基板平坦地无褶皱地紧贴于静电吸盘。
附图说明
[0017]图1是有机EL显示装置的生产线的一部分的示意图。
[0018]图2是本专利技术的成膜装置的示意图。
[0019]图3是表示本专利技术的一实施方式的成膜装置中使用的基板保持单元的支承部的示意图。
[0020]图4是表示本专利技术的其他实施方式的成膜装置中使用的基板保持单元的支承部的示意图。
[0021]图5是表示本专利技术的其他实施方式的基板保持单元的支承部的结构的示意图。
[0022]图6是表示有机EL显示装置的结构的示意图。
具体实施方式
[0023]以下，参照附图说明本专利技术的优选实施方式和实施例。但是，以下的实施方式及实施例仅是例示性地表示本专利技术的优选结构，本专利技术的范围并不限定于这些结构。另外，以下
的说明中的装置的硬件结构以及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等，并不用于限定本专利技术的范围，除非有特定的记载。
[0024]本专利技术可以优选应用于在基板的表面通过真空蒸镀形成图案的薄膜(材料层)的装置。作为基板的材料，可以选择玻璃、高分子材料的膜、金属等任意的材料，另外，作为蒸镀材料，也可以选择有机材料、金属性材料(金属、金属氧化物等)等任意的材料。本专利技术的技术具体能够应用于有机电子器件(例如有机EL显示装置、薄膜太阳能电池)、光学部件等的制造装置。其中，在有机EL显示装置的制造装置中，由于使蒸镀材料蒸发而形成有机EL显示元件，因此是本专利技术的优选应用例之一。
[0025]<电子器件生产线>
[0026]图1是示意性地表示电子器件的生产线的结构的一部分的俯视图。图1的生产线例如用于智能手机用的有机EL显示装置的显示面板的制造。在智能手机用的显示面板的情况下，例如在约1800mm
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约1500mm的尺寸的基板上进行有机EL的成膜，之后，对该基板进行切割而制作成多个小尺寸的面板。
[0027]如图1所示，电子器件的生产线通常具有多个成膜室11、12和搬送室13。在搬送室13内设置有保持并搬送基板10的搬送机器人14。搬送机器人14例如是具有在多关节臂上安装有保持基板的机器手的构造的机器人，进行基板10向各成膜室的搬入/搬出。
[0028]在各成膜室11、12中分别设置有成膜装置(也称为蒸镀装置)。通过成膜装置自动地进行与搬送机器人14交接基板10、基板10与掩本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上进行成膜，其中，包含：基板保持单元，所述基板保持单元包含支承所述基板的第一边的周缘部的第一支承部件、和支承所述基板的与所述第一边相对的第二边的周缘部的第二支承部件；以及静电吸盘，所述静电吸盘设置在所述基板的上方，用于吸附所述基板，所述第一支承部件与所述第二支承部件的各自的基板支承面在与所述静电吸盘的吸附面交叉的方向上弹性地位移。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，所述第一支承部件及所述第二支承部件的各自的所述基板支承面的高度变化。3.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，所述第一支承部件及所述第二支承部件的每一个，包含用于支承基板的基板支承面部及以能够弹性位移的方式支承所述基板支承面部的弹性体部。4.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，所述弹性体部由于来自所述静电吸盘的压力而在所述方向上弹性位移。5.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，所述基板支承面部的位移轴与所述弹性体部的弹性位移轴互相偏离。6.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，所述第一支承部件及所述第二支承部件的每一个，进一步包含有引导所述基板支承面部的位移的引导部，以使所述基板支承面部的位移方向与所述弹性体部的位移方向互相平行。7.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，所述弹性体部包含螺旋弹簧。8.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，所述第一支承部件的所述弹性体部的长度比所述第二支承部件的所述弹性体部的长度长。9.根据权利要求3所述的成膜装置，其中，所述第一支承部件的所述弹性体部的弹性模量比所述第二支承部件的所述弹性体部的弹性模量大。10.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，所述第一支承部件包含沿着所述第一边排列的多个支承部件，所述第二支承部件包含沿着所述第二边排列的多个支承部件。11.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，所述支承部还包含支承所述基板的与所述第一边及所述第二边交叉的第三边的周缘部的第三支承部件、和支承所述基板的与所述第三边相对的第四边的周缘部的第四支承部件，所述第三支承部件及所述第四支承部件的各自的基板支承面能够在所述方向上位移。12.根据权利要求11所述的成膜装置，其中，所述第三支承部件包含沿着所述第三边排列的多个支承部件，所述第四支承部件包含沿着所述第四边排列的多个支承部件。
13.根据权利要求12所述的成膜装置，其中，所述第三支承部件及所述第四支承部件的所述弹性体部的弹性模量与所述第二支承部件的所述弹性体部相比弹性模量大，与所述第一支承部件的所述弹性体部相比弹性模量小。14.根据权利要求12所述的成膜装置，其中，所述第三支承部件及所述第四支承部件的所述弹性体部的长度比所述第二支承部件的所述弹性体部的长度长，比所述第一支承部件的所述弹性体部的长度短。15.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，所述掩模为金属制，所述成膜装置还包含：掩模台，所述掩模台为了保持所述掩模而设置在所述基板保持单元的下方；以及磁铁，所述磁铁设置在所述静电吸盘的上方，对所述掩模施加磁力而使所述基板与所述掩模紧贴。16.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，所述第一支承部件及所述第二支承部件的各自的所述基板支承面通过螺旋弹簧、或者板簧、或者硅橡胶的弹性变形进行位移。17.一种成膜装置，用于经由掩模在基板上进行成膜，其中，包含：基板保持单元，所述基板保持单元包含支承所述基板的第...
【专利技术属性】
技术研发人员：石井博，柏仓一史，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：
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