一种空气过滤系统包含光催化反应器及所述光催化反应器的上游的第一空气过滤器。所述光催化反应器包含光催化剂组合物及经配置以照射所述光催化剂组合物的灯。所述光催化剂组合物经配置以分解空气中的一或多种挥发性有机化合物。所述第一空气过滤器经配置以...

一种握柄包含力矩限制装置。所述力矩限制装置包含多个从动部件及多个驱动部件。所述多个驱动部件经配置以在第一方向上驱动所述多个从动部件以转动阀。响应于转动所述阀，所述多个驱动部件在达到力矩阈值时与所述多个从动部件脱离。当所述力矩限制装置达到...

本发明提供一种氧卤化物前驱物。本发明提供一种制备钼和钨氧卤化物化合物的方法，所述氧卤化物化合物适用于将含有钼和钨的薄膜沉积于微电子装置的各个表面上。在本发明方法中，在固态介质中或在包含有包含碱金属盐和/或碱土金属盐的共晶掺合物的熔融相反...

本申请涉及一种导电聚合物层，其位于静电卡盘上。所述导电聚合物层包括导电聚合物及光敏聚合物。所述导电聚合物的导电性促进通过所述导电聚合物层进行的电荷消散，而所述光敏聚合物的光敏性允许所述导电聚合物层的表面被光图案化。所述导电聚合物层导电及...

本发明提供适用于CMP后清洁操作、特别是那些含有经暴露铜表面的衬底中的组合物。本发明的组合物提供这些衬底的极佳清洁，同时显示存在于所述衬底的表面的二氧化硅和有机材料的缺陷较少。还提供一种使用这些组合物清洁微电子装置衬底的方法和在两个或更...

本技术描述高压过滤器设备，其在外壳部件与末端部件之间具有密封表面，其特征在于，所述高压过滤器设备包括：所述外壳部件，其包括第一锥形接头表面，过滤腔室，以及流体流开口，其连接到所述过滤腔室；过滤器，其位于所述过滤腔室中，所述末端部件，其包...

本发明描述了高压过滤设备，所述高压过滤设备包含沿着主体的周界具有焊缝的第一和第二部件及放置在所述焊缝周围且环绕所述焊缝的套管。

总的来说，本发明提供一种将氮化硅膜沉积到微电子器件衬底上的方法。所述方法使用选自卤代硅烷化合物、式R<subgt;2</subgt;NH化合物、氨基硅烷和氢气的前体和共反应物。如此形成的氮化硅膜具有增加的硅的比例，同时提供均...

公开一种可暴露于例如钼蒸气、钨蒸气或其任何组合的化学蒸气的装置，所述装置具有覆盖其至少一部分的涂层。所述涂层减少或抑制所述装置的外表面暴露于蒸气时的质量改变。在某些情形中，所述质量改变为质量增加，且所述涂层减少或抑制等于或小于1x 10...

本申请涉及智能封装。本申请描述一种流体供应封装，所述流体供应封装包含流体存储与施配容器，及耦合到所述容器且经配置以达成在施配条件下从所述容器排放流体的流体施配组合件，其中所述流体供应封装在其上包含信息扩充装置，例如，快速读取QR码及RF...

本发明描述气体处理系统及相关方法，所述气体处理系统包含介质器皿及预热器，其用于通过使气体流动以接触容纳于所述介质器皿中的例如催化剂或吸附材料的介质而处理所述气体。

本发明公开一种用于流体容器的无菌封闭组合件，其包含可连接到所述流体容器的开口的盖及可连接到所述盖的所述外壳的外表面的流体施配器。所述流体施配器包含主体及设置在所述主体内的流体管线、设置在所述主体周围的壳体及可连接到所述主体的第二端的插入...

本公开提供一种系统。所述系统包含具有至少两个清洗模块的衬底容器。所述至少两个清洗模块中的每一清洗模块包含流量控制装置。每一清洗模块的所述流量控制装置被配置为经驱动用于使清洗流体排出。提供一种驱动衬底容器的清洗模块的流量控制装置的方法。所...

本发明的一些实施例涉及前驱物(包括中间前驱物)和其相关方法。为制备中间前驱物，将双(芳烃)金属络合物的混合物与第一芳烃组合。加热所述双(芳烃)金属络合物的混合物及所述第一芳烃并随后冷却。一经冷却，双(第一芳烃)金属络合物即从溶液沉淀以获...

描述缠绕‑褶式过滤器及制备及使用这些过滤器的方法。

本发明提供一种包含用无氧钌前体进行选择性钌晶种层沉积、接着大量沉积含金属前体、如含钨、钼、钴、钌和/或铜前体的方法。所述钌晶种层沉积对于微电子装置衬底的导电部分具有高度选择性，同时最大限度地减少沉积至所述微电子装置衬底的绝缘表面上。在某...

本发明描述通过在微孔碳吸附剂上吸附二硼烷来存储所述二硼烷的系统和方法，其中所述微孔碳吸附剂包含在石墨层(片材)之间在石墨层间距处的狭缝孔，此相对于非吸附气态二硼烷的降解活化能，增加二硼烷降解所需的活化能。

本公开描述自动化玻璃制造设备，且具体来说涉及被称为“取出固持器”的装置，以及使用所述取出固持器的系统及制造并使用所述取出固持器的方法。

描述用于在处理工件的步骤期间支撑所述工件的静电卡盘，所述静电卡盘包含在绝缘层上的电荷消散线的图案，所述线具有第一导电层及第二导电层且经布置以在所述线之间定义所述绝缘层的封闭场。

本发明描述用于从容器中选择性施配作为试剂气体的锗烷(GeH<subgt;4</subgt;)的存储及施配系统及相关方法，在所述容器中所述锗烷与包含沸石咪唑酸盐骨架的固体吸附剂介质保持吸附关系。