【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及空气过滤系统。更具体来说，本公开涉及产生经过滤空气用于半导体制造中的空气过滤系统。
技术介绍
1、在半导体制造中可采用空气过滤系统来将经过滤空气供应到制造区域。空气过滤系统可供应待由半导体生产工具使用及/或围绕半导体生产工具的无尘空气。例如，无尘空气可用作半导体晶片制造中的无尘清洗气体。此外，例如，无尘空气可用于其中制造半导体晶片的无尘室中。空气过滤系统可经配置以过滤空气以去除会负面影响正在生产的半导体的质量的各种污染物。例如，此类污染物可包含会污染晶片材料且降低所生产半导体的质量的颗粒及/或挥发性有机物。
技术实现思路
1、在实施例中，一种空气过滤系统包含光催化反应器、经安置于所述光催化反应器的上游的第一空气过滤器及经安置于所述光催化反应器的下游的第二空气过滤器。所述光催化反应器包含光催化剂组合物及经配置以照射所述光催化剂组合物的灯。所述光催化剂组合物经配置以分解通过所述光催化反应器的空气中的一或多种挥发性有机化合物。所述第一空气过滤器经配置以过滤来自所述空气的一或多种化合物。...
【技术保护点】
1.一种空气过滤系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的空气过滤系统，其进一步包括：
3.根据权利要求1或2所述的空气过滤系统，其中由所述第一空气过滤器过滤的所述一或多种化合物包含以下中的一或多者：
4.根据任何前述权利要求所述的空气过滤系统，其进一步包括：
5.根据权利要求4所述的空气过滤系统，其进一步包括：
6.根据任何前述权利要求所述的空气过滤系统，其进一步包括：
7.根据任何前述权利要求所述的空气过滤系统，其中所述一或多种挥发性化合物包含异丙醇，所述光催化剂组合物经配置以分解所述异丙醇。<...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种空气过滤系统，其包括：
2.根据权利要求1所述的空气过滤系统，其进一步包括：
3.根据权利要求1或2所述的空气过滤系统，其中由所述第一空气过滤器过滤的所述一或多种化合物包含以下中的一或多者：
4.根据任何前述权利要求所述的空气过滤系统，其进一步包括：
5.根据权利要求4所述的空气过滤系统，其进一步包括：
6.根据任何前述权利要求所述的空气过滤系统，其进一步包括：
7.根据任何前述权利要求所述的空气过滤系统，其中所述一或多种挥发性化合物包含异丙醇，所述光催化剂组合物经配置以分解所述异丙醇。
8.根据任何前述权利要求所述的空气过滤系统，其中所述光催化反应器包含所述光催化剂组合物的可搅动床。
9.一种空气过滤系统，其包括：
10.根据权利要求9所述的空气过滤系统，其中
11.根据权利要求9或10所述的空气过滤系统，其进一步包括...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·伊拉尼，J·高卓，R·斯里瓦斯塔瓦，
申请(专利权)人：恩特格里斯公司，
类型：发明
国别省市：
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