一种高压流体存储系统，其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测一体式装置(PSUD)。所述PSUD可经制造为单个一体式构造，其中外壳主体及内部压力调节机构两者是由单个单元、材料或两者制成。所述PSUD不具有任何焊接组件，也非由...

本公开涉及通过射出成型形成的大型聚合物容器，其包含主体，所述主体具有界定内部空间的高密度及平滑度的内部表面。所述大型聚合物容器可包含外部特征，例如与所述容器主体一体地形成的加强肋，所述加强肋具有比所述容器的壁的其它部分更大的厚度。所述内...

本公开提供用于单烷基化环戊二烯结构的合成的方法，所述结构可经由富烯中间物获得。在一个实施例中，所述环戊二烯环经三烷基硅烷基部分取代，此使得能够进一步与某些金属卤化物反应以形成金属加合物。举例来说，经三甲基硅烷基取代的单烷基环戊二烯可与T...

一种高压流体存储系统，其具有可执行压力调节器装置的功能的至少一个压力感测装置(PSD)。所述PSD可经由增材制造工艺制造以包含第一及第二单个一体式构造，其中外壳主体及内部压力调节机构在所述工艺期间一起制成。所述PSD可在无任何焊接组件或...

本发明提供某些含钼化合物，据信所述含钼化合物适用于将含钼膜气相沉积到各种微电子装置衬底的表面上。在一个方面中，本发明提供一种用于将含钼膜沉积到微电子装置衬底上的工艺，所述工艺包括在反应区中在气相沉积条件下将衬底暴露于如本文中所述的式(I...

本发明提供一种用于制备氢化双(经单烷基取代的环戊二烯)钨化合物(例如二氢化双(异丙基环戊二烯基)钨)的方法，所述方法通过提供相应镁化合物及六氯化钨、接着用氢化物试剂处理来实现。还提供一种用于制备双(经单烷基取代的环戊二烯)金属卤化物化合...

本技术涉及一种过滤器滤筒和一种用于过滤器滤筒中的过滤器部件的端盖。所述过滤器滤筒包含：外壳；过滤器部件，其安置在所述外壳内；和端盖，其安置在所述外壳内，位于所述过滤器部件与所述外壳之间。所述外壳包含具有入口的第一末端、与所述第一末端相对...

本发明提供某些有机锡化合物，相信所述有机锡化合物可用于含锡膜到微电子装置衬底的表面上的气相沉积以及EUV‑可图案化膜的沉积。本发明还提供某些新颖前驱组合物。还揭示使用某些新颖前驱物形成膜的方法。

衬底容器包含清洗流分配系统。所述清洗流分配系统可将一或多个清洗气体输入流划分到气体分配装置的网络的多个气体分配表面。控制清洗的方法可包含配置所述衬底容器以在所述气体分配表面中的每一者处提供经确定的清洗气体流率。所述配置可使用所述清洗流分...

一种衬底容器包含界定内部空间的壳体及清洗流体分配系统。所述壳体包含前开口、底壁及后壁。所述清洗流体分配系统接收清洗气体流且包含入口及分开的气体分配装置的网络，所述分开的气体分配装置经配置以将所述清洗气体流分配到所述内部空间中。还包含供应...

本公开提供一种制备高产率和呈自由流动颗粒形式的固体三(C1‑C4烷基)磷酸二氢铵(例如三乙基磷酸二氢铵)的方法。固体产物有利地具有经卡尔费歇尔滴定法测定的小于约1500ppm的非质子性有机溶剂、小于约1500ppm的C1‑C5烷醇和小于...

描述了储存和分配系统及相关方法，其用于储存和选择性地分配来自储存容器的高纯度试剂气体，其中所述试剂气体与热解碳吸附粒子保持吸附关系。

本公开描述含氧化硼的吸附剂，其包括多孔吸附剂基底和所述基底表面上的氧化硼；以及包括所述含氧化硼的吸附剂的装置；以及制备和使用所述含氧化硼的吸附剂的相关方法。

提供用于蚀刻微电子装置衬底上的含钼膜的组合物和方法。使微电子装置衬底与本发明的组合物接触达足以至少部分地移除所述含钼膜的时间。所述组合物包含至少一种氧化剂、至少一种络合剂、至少一种阳离子表面活性剂，且具有约7.5到约13的pH。所述蚀刻...

本公开提供至少在其表面处具有可电离氮官能团的多孔聚合物膜，其中此类基团与氢氧根阴离子缔合。所述膜可用于极性溶剂(例如水及醇)的纯化且能够移除痕量阴离子污染物，例如卤离子、磷酸根、硝酸根、亚硝酸根、亚硫酸根及硫酸根。

一种袋组合件，其包含具有界定内部及开口的第一及第二壁的袋部分。所述内部通过所述袋部分的所述第一及第二壁沿所述袋组合件的周边的至少一部分直到所述袋部分的一端彼此附接来形成。彼此未附接的所述袋部分的所述第一及第二壁的部分形成所述开口。所述袋...

一些实施例涉及具有可去除式涂层的物件。所述物件可包含衬底和所述衬底上的涂层。可将蚀刻终止层设置于所述衬底与所述涂层之间，以允许在不损坏所述衬底的情况下去除所述涂层。一些实施例涉及从物件去除涂层的方法。所述方法可包含：获得包含介于衬底与所...

一种前开式晶片传送盒包含外壳及所述外壳中的清洗端口。所述清洗端口包含滤膜及清洗过滤器支撑件。所述清洗过滤器支撑件包含外环结构及支撑框架工作。所述支撑框架从所述外环结构延伸。所述外环结构包含为所述滤膜提供支撑表面的多个支撑件。所述支撑件中...

一种设备包含光罩盒。所述光罩盒包含具有第一表面的底板、具有第二表面的盖及在所述盖及所述底板中的至少一者上的间隔机构。所述第一表面包含在所述底板的外围上的第一密封表面。所述第二表面包含在所述盖的外围上的第二密封表面。所述间隔机构经配置以在...

一种工艺容器包含界定多个槽的凸缘。所述凸缘中的至少一者包含紧固器，所述紧固器经配置以当盘片或晶片被插入到由所述多个凸缘中的所述至少一者界定的所述多个槽中的一者中时接触所述盘片或晶片。所述紧固器从所述多个凸缘中的所述至少一者向外突出到所述...