恩特格里斯公司专利技术

恩特格里斯公司共有644项专利

  • 光罩容器包含盖及基板,其具有经配置以在所述光罩容器经组装时彼此接触的接触表面。缓冲区域经提供为与所述接触表面中的至少一者相邻。所述缓冲区域是使得在所述光罩容器经组装时所述缓冲区域上提供的电镀不接触所述盖或所述基板的另一者。所述缓冲区域可...
  • 本申请涉及分层微孔膜和过滤筒。所述分层微孔膜,其特征在于所述分层微孔膜包括:第一微孔膜,第二微孔膜,其在覆盖所述分层微孔膜的面积的小于20%的结合区域处结合到所述第一微孔膜。
  • 本公开提供了一种用于以高产率和选择性制备单烷基化环戊二烯物质的改进方法。在所述方法中,使双环戊二烯镁或环戊二烯卤化镁的溶液与烷基化剂在改性剂存在下反应以提供单烷基化产物。在本公开的方法中,仅产生单烷基化物质,而没有观察到可检测量的二烷基...
  • 本申请案涉及高蒸汽压输送系统。一种系统包含汽化器容器。所述汽化器容器包含流体连接到所述汽化器容器的出口。加热器经配置以加热所述汽化器容器。阀经配置以调节所述出口处汽化材料的压力。响应于所述出口处的所述压力在设置压力范围外,所述加热器经配...
  • 提供了一种用于制备某些二膦酸盐化合物和其酯衍生物的方法。在此方法中,某些二膦酸盐化合物、如亚甲基二膦酸是通过以下方式制备的:使对应的异丙酯与(i)三甲基硅基溴化物或三甲基硅基碘化物或(ii)三甲基硅基氯化物和碱金属碘化物或溴化物反应;随...
  • 本公开描述一种用以减小表面的粗糙度的浆料组合物,例如包含碳化硅、氧化铝、金刚石及碳的多晶材料。本公开还可应用于单晶材料(例如,碳化硅、蓝宝石或金刚石)。
  • 一种容器包含:偏转器,其安置于衬底容器的内部中,具有纵向开口及偏转表面;及气体分配器,其经配置以提供净化气体以净化衬底容器的内部。所述气体分配器经配置使得所述净化气体的至少一部分流动到形成于所述气体分配器与所述偏转器之间的间隙中。所述偏...
  • 本发明提供适用于在氧化硅和氮化硅存在下蚀刻多晶硅的组合物。所述组合物包含氢氧化胆碱、例如过碘酸的氧化剂和任选的表面活性剂,且一般适用于多晶硅的蚀刻,且尤其适用于多晶硅修整以及多晶硅剥蚀的操作。发现利用所添加的氧化剂可降低基于硅晶体定向的...
  • 一种系统,其包含:容器,其用于装纳填充材料;及振动源,其连接到所述容器。所述振动源可增加所述填充材料的体积密度。填充材料比可被定义为所述填充材料的粒子密度除以振动之后的所述填充材料的所述体积密度。在所述振动源增加所述填充材料的所述体积密...
  • 本公开包含混合配体化合物、如环戊二烯锡(II)络合物的制备。本公开的化合物可用作极紫外光(EUV)光刻术的原子层沉积(ALD)前体。本公开的化合物也可用作EUV光刻术的等离子体化学气相沉积(CVD)前体。
  • 本公开提供适用作用于液体纯化和/或过滤的过滤器的组件的某些嵌段共聚物膜。本公开的嵌段共聚物经历交联反应以增加总分子量,且因此认为赋予所述膜改进的耐溶剂性特性,从而使得此类膜适合于与例如光刻溶剂的溶剂一起使用。另外,认为此交联处理改进干燥...
  • 一种用于晶片容器的清洗端口组合件包含经配置以允许清洗气体的进口流动的清洗模块及经安置于所述清洗模块的中间出口上的过渡部分。所述过渡部分包含经配置以接收从所述清洗模块放出的所述清洗气体的接收器、经配置以与扩散器附接的出口连接器及中间导管。...
  • 间隔件包含经配置以放置在光罩盒的盖或底板中的一者的凹陷内的底座,及经配置以接触所述盖及所述底板中的另一者的接触表面。所述间隔件经配置以将所述盖及所述底板彼此间隔开,使得所述盖及所述底板的密封表面通过间隙分开。所述凹陷可为所述底板的推爪口...
  • 一种系统包含:化学品供应柜(例如,例如经配置以装纳安瓿的化学品供应柜);模块,其经配置以使表面改质;及控制单元,其经连接到所述模块,其中所述控制单元经配置以指导所述表面的所述改质。
  • 本发明描述用于使用低温吸附床以从氧气去除杂质来产生经纯化氧气的方法和设备,所述杂质为例如含氮杂质(例如,氮气(N<subgt;2</subgt;)、氮氧化物、氨气、胺)、水、二氧化碳、一氧化碳、烃等。
  • 本申请涉及多层多孔烧结膜和过滤器总成。一种多层多孔烧结膜,其特征在于所述多层多孔烧结膜包括:包括经烧结微米颗粒的粗层,所述微米颗粒具有微米颗粒烧结点,所述粗层具有粗层孔隙率,以及包括经烧结纳米颗粒的细层,所述纳米颗粒具有纳米颗粒烧结点,...
  • 本发明提供用于湿式蚀刻含有包含氮化硅、氧化硅和多晶硅的表面的微电子装置衬底的表面的组合物和方法。本发明的方法涉及钝化步骤和氮化硅蚀刻步骤,如下文更全面地描述。发现所述两个步骤的组合大大地改进在多晶硅存在下的氮化硅蚀刻操作的选择性。
  • 本发明描述压力释放装置及例如容器的相关联设备,所述压力释放装置经调适以在所述释放装置的可熔金属组件达到熔融温度时,对容器内的加压流体提供压力释放。
  • 一种托盘组合件包括多个托盘。所述多个托盘中的每一者包括第一托盘部分及第二托盘部分,所述第一托盘部分与所述第二托盘部分可通过保持器耦合在一起并且可与凸轮构件接合。根据所述凸轮构件的定向,所述托盘组合件的所述多个托盘中的每一者可在展开配置与...
  • 本申请涉及一种支撑托架,其经配置以支撑衬底容器内的衬底,所述支撑托架包括:至少一个支撑轴环,其经配置以将所述支撑托架耦合到至少一个支撑柱,使得所述支撑托架从所述至少一个支撑柱悬吊。