具有减少边缘构建的镀覆的光罩容器制造技术

光罩容器包含盖及基板，其具有经配置以在所述光罩容器经组装时彼此接触的接触表面。缓冲区域经提供为与所述接触表面中的至少一者相邻。所述缓冲区域是使得在所述光罩容器经组装时所述缓冲区域上提供的电镀不接触所述盖或所述基板的另一者。所述缓冲区域可包含例如倾斜区、凹部及圆角区的结构。所述缓冲区域可任选地在电镀过程期间进一步充当攫取片。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及光罩容器，特别涉及用使得在镀覆期间边缘构建减少的材料加以镀覆的光罩容器。

技术介绍

1、光罩容器可经镀覆，例如以改进表面修饰。光罩容器的镀覆可包含光罩容器的接触表面处的镀覆。接触表面可经定位及经配置使得电学性质及物理结构导致在镀覆期间产生边缘构建，从而在接触表面的某些部分提供镀覆厚度增加的区。这些镀覆厚度增加的区可为经历磨损的区域，从而导致颗粒材料的产生，颗粒材料可污染光罩容器的内容物。

技术实现思路

1、本公开涉及光罩容器，特别涉及用使得在镀覆期间边缘构建减少的材料加以镀覆的光罩容器。

2、通过整形光罩容器的盖及/或基板使得边缘构建由盖及/或基板的物理形状及/或电学性质(充当“攫取片(robber)”)而减少，可减少由摩擦边缘构建产生的颗粒的量，从而改进光罩容器的清洁度。另外或替代地，盖及/或基板可经整形使得边缘构建远离接触表面发生，且边缘构建不接触，且因此不会显著地促进颗粒产生，从而再改进光罩容器的清洁度。在镀覆期间由于解决边缘构建而产生的更清洁的光罩容器又改进良率且减少光罩处理(例本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光罩容器，其包括盖及基板，其中：

2.根据权利要求1所述的光罩容器，其中所述第一缓冲区域或所述第二缓冲区域是相对于所述接触表面凹陷的区。

3.根据权利要求1所述的光罩容器，其中所述第一缓冲区域或所述第二缓冲区域是倾斜边缘。

4.根据权利要求1所述的光罩容器，其中所述第一缓冲区域或所述第二缓冲表面第二缓冲区域包含圆角区。

5.根据权利要求1所述的光罩容器，其中从所述接触表面到所述第一缓冲区域的过渡部或从所述接触表面到所述第二缓冲区域的过渡部成圆角。

6.根据权利要求1所述的光罩容器，其中从所述接触表面到所述第二缓冲区域的过...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种光罩容器，其包括盖及基板，其中：

2.根据权利要求1所述的光罩容器，其中所述第一缓冲区域或所述第二缓冲区域是相对于所述接触表面凹陷的区。

3.根据权利要求1所述的光罩容器，其中所述第一缓冲区域或所述第二缓冲区域是倾斜边缘。

4.根据权利要求1所述的光罩容器，其中所述第一缓冲区域或所述第二缓冲表面第二缓冲区域包含圆角区。

5.根据权利要求1所述的光罩容器，其中从所述接触表面到所述第一缓冲区域的过渡部或从所述接触表面到所述第二缓冲区域的过渡部成圆角。

6.根据权利要求1所述的光罩容器，其中从所述接触表面到所述第二缓冲区域的过渡部包含倾斜边缘。

7.根据权利要求1所述的光罩容器，其中所述第一缓冲区域或所述第二缓冲区域相对于所述接触表面具有至少0.1毫米(mm)的深度。

8.根据权利要求1所述的光罩容器，其包含所述第一缓冲区域且其中所述第一缓冲区域包围所述接触表面的所述外周边。

9.根据权利要求1所述的光罩容器，其包含所述第二缓冲区域且其中所述第二缓冲区域由所述接触表面的所述内周边包围。<...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·V·拉施克，C·埃尔韦尔，B·怀斯曼，
申请(专利权)人：恩特格里斯公司，
类型：发明
国别省市：