基板处理装置具备：批处理部，其具有多个批处理单元，各个批处理单元用于在贮存于处理槽内的处理液中对多个基板一并实施液处理；单片处理部，其对由批处理部处理后的基板逐张地实施处理；待机部，其使由批处理部处理后的基板在浸渍槽内的浸渍液中等待；以...

本发明提供一种基板处理系统和基板处理方法。基板处理系统具备：载置台，其用于载置基板；加热器，其通过被供给电力来将基板进行加热；电力供给部，其向加热器供给电力；传感器，其测定加热器的电阻值；以及控制装置。控制装置记录将多个电阻值与多个温度...

本发明提供提高基片支承部的温度控制效率的基片处理装置和基片支承部。基片处理装置包括：处理容器；配置在上述处理容器内的基片支承部；和至少向上述基片支承部供给RF电功率的电源，上述基片支承部包括：静电吸盘，其由陶瓷形成，通过静电吸附来保持被...

本发明的检查基片的检查装置包括：能够载置基片的载置部件；保持探针卡的保持部，上述探针卡具有与基片上的电极接触的探针；移动机构，其保持上述载置部件并使其移动；具有第一拍摄单元和第二拍摄单元拍摄部，上述第一拍摄单元识别载置于上述载置部件的基...

提供一种能够在减少占地面积的同时提高排气效率的基板处理装置。根据本公开的一个方面的基板处理装置包括：处理模块，具有在第一水平方向上隔开的第一侧壁和第二侧壁；以及输送模块，与所述第一侧壁相邻地布置，并且向所述处理模块输送基板，其中，所述处...

等离子体处理装置具备载置台、升降机构、高频电源以及控制部。载置台具有第一载置面和第二载置面，在第一载置面载置基板，在第二载置面载置环构件。升降机构使环构件进行升降。高频电源连接于载置台。控制部执行清洁，所述清洁包括进行分离的工序和进行去...

本发明提供基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质，能够得到含金属的抗蚀剂的良好的图案。包括对形成有含金属的抗蚀剂的覆膜且实施了曝光处理和上述曝光处理后的加热处理的基片进行显影的工序，上述显影的工序包括：在大气压以上的压力下使上述基片...

本发明提供一种在形成有MOR膜的基板获得良好的图案的基板处理装置和基板处理方法。晶圆处理系统(1)具备：第1输送路径，其是MOR膜形成后且曝光处理实施前的晶圆(W)的输送路径；和第2输送路径，其是曝光处理实施后的晶圆(W)的输送路径。晶...

本发明提供一种基板处理系统和基板处理方法。基板处理系统具备具有湿式处理装置和干式处理装置中的任意一方的第一处理系统、以及具有另一方的第二处理系统，湿式处理装置以湿式进行基板处理，干式处理装置以干式进行基板处理，第一处理系统具有由第一处理...

本发明提供能够获得无机抗蚀剂的良好图案的基片处理方法、计算机存储介质和基片处理装置。基片处理方法包括：利用显影液对在基底膜之上形成无机抗蚀剂的覆膜后实施了曝光处理的基片进行显影，形成上述无机抗蚀剂的图案的工序；向显影后的上述基片供给埋入...

一种信息处理方法，对用于基于基板的摄像图像来检查基板的信息进行处理，所述信息处理方法包括：获取工序，获取基板的摄像图像；制作工序，关于所获取到的基板的摄像图像，制作以距基板的中心的距离和亮度值为轴的二维直方图；提取工序，基于预先决定的区...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的维护方法，能够提高干燥单元的维护性。基板处理装置具备干燥单元，所述干燥单元将形成于水平的基板的上表面的液膜置换为超临界流体来对所述基板进行干燥。所述干燥单元具有：压力容器，在该压力容器的内部形成...

本发明提供以良好的位置精度将边缘环载置于静电吸盘的基片支承器和等离子体处理装置。基片支承器包括：基座；第一静电吸盘区域，其配置在所述基座的上部，具有基片支承面，能够在所述基片支承面之上保持基片；和第二静电吸盘区域，其配置在所述基座的上部...

本发明提供一种能够降低基片间的处理偏差的技术。本公开的一个方式的基片处理装置包括：单位模块，其包括用于在基片的上表面形成液膜的多个液膜形成单元和用于将所述液膜置换为超临界流体而使所述基片干燥的干燥单元；以及输送模块，其设置于多个所述液膜...

对具有凹部的基板实施气体处理的气体处理方法包括以下处理：将具有凹部的基板配置于腔室内；向被抽真空后的腔室内供给压力调整用气体来使腔室内的压力上升以调压至预先规定的压力；以及接着，使腔室内产生基于处理气体的处理反应来对基板的凹部的侧壁进行...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的维护方法，能够顺利地进行干燥单元的维护。基板处理装置具备干燥单元和控制装置，该干燥单元将形成于水平的基板的上表面的液膜置换为超临界流体来对所述基板进行干燥。所述干燥单元具有壁板、电磁锁、压力传感...

本发明的基片检查方法包括：获取基于拍摄参照用的基片的表面而得到的图像的参照输入图像的步骤；获取在对神经网络输入了参照输入图像时，在神经网络的中间层生成的参照中间信息的步骤，其中，神经网络被预先构建成能够输出所输入的图像的识别结果；基于参...

本发明提供能够抑制基片的图案倒塌的基片处理装置和基片处理方法。本发明的一个方式的基片处理装置是能够使用超临界状态的处理流体使附着有液体的基片干燥的基片处理装置，其特征在于，包括：能够在内部收纳所述基片的处理容器；用于在所述处理容器内的保...

检查方法包括下述工序：在实施电气检查之前，计算在使放置了基板的载台在三维方向上移动时的三维方向的校正量；以及在实施电气检查时，根据计算出的三维方向的校正量，使载台移动。在计算三维方向的校正量的工序中，在使载台上升的期间，获取多个探针与基...

本公开提供一种蚀刻方法和等离子体处理装置，提高通过蚀刻对开口进行的形状控制。公开的蚀刻方法包括以下工序：准备具备第一区域和第二区域的基板，第一区域包含第一材料且具有开口，第二区域包含与第一材料不同的第二材料且位于第一区域的下方；以及向基...