本发明提供基板处理方法和基板处理装置。该基板处理方法是对在表面上形成有含有氧化硅的无机物与含有碳和氟的有机物的复合生成物的基板进行的基板处理方法，其特征在于，包括：对上述基板的表面照射紫外线，除去上述有机物的一部分的紫外线处理工序；在上...

测温装置（５）包括：具有前端部（５０ａ）和缓冲部（５０ｂ）的护套热电偶（５０），上述前端部（５０ａ）能够跟随基座（４）在进退方向移动，上述缓冲部（５０ｂ）以在腔室（１）外延伸伸出的方式设置，允许前端部（５０ａ）的移动；和在使前端部（５０...

公开了一种仅通过等离子体溅射在例如半导体晶片Ｗ的处理对象的表面中所设置的凹部中嵌入金属的技术。作为典型实例，金属为铜。作为典型实例，凹部具有直径或宽度为１００ｎｍ或更小的微细孔或沟。使成膜步骤和扩散步骤交替执行多次。成膜步骤在凹部中沉积...

本发明提供一种利用ＣＶＤ法在被处理体表面形成锰膜的成膜装置和成膜方法。成膜装置包括：能够形成真空的处理容器（１４）；载置台（１６），其设置在上述处理容器（１４）内，用于载置上述被处理体；和原料气体供给部（１８），其与上述处理容器（１４）...

本发明提供一种气体供给装置、基板处理装置和基板处理方法。其采用简单的配管结构，有效地进行基板的最外周的特性修正。气体供给装置（６０）具备：喷淋头（１６）、向喷淋头（１６）供给处理气体的处理气体供给部（６６）、流通来自处理气体供给部（６６...

本发明提供一种半导体器件及其制造方法，可以抑制对层间绝缘膜的损伤，且通过溅射形成以钽为主要成分的阻挡膜。该制造方法具备在层间绝缘膜（１１３）上通过使用氙气的溅射，形成以钽或氮化钽为主要成分的阻挡膜（１１６）的溅射成膜工序。溅射成膜工序也...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的控制方法。根据设定温度分布对基板实施成膜处理，上述设定温度分布包括：在第一时间使温度从第一温度向第二温度变化的第一工序、仅在第二时间保持第二温度的第二工序、和在第三时间使温度从第二温度向第三温度...

本发明提供一种将载置在载置台上的被处理基板分为多个区域，改变在各区域的载置台与基板间的热的传递量，针对每个区域调节基板的温度的被处理基板的温度调节装置。其设置有：载置台，其具备多个用于将基板按各区域调节到规定温度的各温度系统的温度调节部...

本发明提供缺陷分布图案的对照方法和装置。本发明的对照装置包括缺陷检查部（７２）、基准图案存储部（７４）、图案对照部（７６）、对照结果处理部（７８）、和输出部（８０）。检查部（７２）对由处理系统处理的半导体晶片等被处理体进行检测，得到在其...

本发明提供一种载置台、处理装置和处理系统，上述载置台能够一并交接多个被处理体，并且能够一并处理多个被处理体。其中，在设于基座（１０５）上的交接机构部（１１１）上相互隔开距离且在同方向上升降自如地排列多个板状的可动密封部件（１２３）。可动...

本发明提供成膜方法、成膜装置和存储介质。将表面形成有凹部的被处理体（例如，半导体晶片（Ｗ）等）载置于设置在能够抽真空的处理容器（２４）的内部的载置台（３４）。之后，在处理容器（２４）的内部产生等离子体，在该处理容器（２４）的内部，通过上...

本发明提供一种闸阀装置，能够不产生粒子以及不使机构部寿命降低，且能够将动作时间控制在目标时间内。设置在真空处理室（１０）的侧壁，并且用于开闭玻璃基板Ｇ的搬入搬出用的搬入搬出口的闸阀装置（３０），具有：开闭搬入搬出口（１０ａ）的阀体（３３...

一种基板处理装置，其特征在于，包括：　载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；以及　搬送部，其具有可离合地保持悬浮在所述载物台上的状态的所述基板的保持部，并为了在所述载物台上在规定的搬送方向悬浮搬送所述基板，而使所述基板与所 ...

本发明提供一种拍摄方法，可以边使基板和拍摄装置相对移动，边在准确的位置拍摄基板上的图像。该拍摄方法具备：拍摄步骤，边使基板和照相机相对移动，边拍摄基板上的图像；偏移量预测步骤，在拍摄基板上的图像时，基于基板与照相机的相对移动速度和移动距...

一种服务器装置，其是构成组管理系统的服务器装置，该组管理系统具备对被处理基板进行规定的处理的多个制造装置、与该多个制造装置连接的服务器装置，并具有进行异常检测的功能，该服务器装置具备：　测定信息保存部，可保存多个测定信息，该测定信息是 ...

本发明提供一种多孔质膜的成膜方法和一种计算机可读的记录介质。对通过使用有机硅化合物原料的等离子体ＣＶＤ法形成的ＳｉＯＣＨ膜的表面进行氧等离子体处理，形成表面致密化层，进一步通过氢等离子体处理，将ＣＨｘ基、ＯＨ基以被控制的速率从表面致密化...

本发明提供一种可以可靠地防止水分混入真空处理室中的真空处理装置。具有阀体（３１ａ、３１ｂ）的闸阀（３０ａ、３０ｂ）分别以双层配置在真空处理室（１０）和负载锁定室（２０）之间。此外，流导不同的三根排气管（２１、２２、２３）与负载锁定室（２...

在以往的服务器装置中存在无法容易且有效地进行异常分析的问题。通过如下的服务器装置能够容易且有效地进行异常分析，该服务器装置保存多个测量信息，该测量信息是关于由多个制造装置测量出的信息的时间序列的信息，是具有识别制造装置的装置标识符和表示...

本发明提供一种可以捕集浮游在气液混合流体中的微小液滴，进而可以捕集包含在气液混合流体中的气化物质的气液分离装置。箱体（１１）内具有冷却器（１２）和多个波纹板（１３）。冷却器（１２）设置于在箱体主体（１１ｂ）内流通的上述流体的流动的截面上...

一种薄膜形成装置及其使用方法，用来在反应室内在被处理基板上形成薄膜的半导体处理用的成膜装置的使用方法，用来除去堆积到从供给用来成膜的成膜气体的成膜气体供给系统，通过所述反应室，直到排气系统的气体路径的规定区域上的副生成物膜，在所述反应室...