本发明公开了一种可使与Cu的密合性变良好的金属氧化膜的成膜方法。该成膜方法是一种将含有有机金属化合物的气体供给到衬底上，在衬底上使金属氧化膜成膜的成膜方法，其中，将含有有机金属化合物的气体供给到衬底上，在衬底上使金属氧化膜成膜，并且，在...

本发明提高等离子体的均匀性。本发明提供一种平行平板型的等离子体处理装置用的上部电极(105)，包括：由电介质形成的基材(105a)；和导电体层(110)，在上述基材(105a)的表面中，至少在上述等离子体处理装置的下部电极(210)侧的...

从蒸镀头喷射的成膜材料，在被处理基板和处理室或者其他的蒸镀头之间反冲，成膜材料附着于与应被蒸镀的位置不同的部位，或者作为杂质混入来自各成膜材料喷出部的蒸气混合的相邻的膜中。本发明是一种成膜装置(1)，具有：收纳被处理基板(被处理基板G)...

本发明提供热处理装置及热处理装置的温度测量方法。该热处理装置谋求减少热电偶的设置成本且不需要校正来自热电偶的信号。基准区域(A1)的炉内温度传感器(50)具有由R热电偶或者S热电偶构成的第1热电偶(81)、由除了R热电偶和S热电偶之外的...

本发明提供一种冷却机构和冷却方法，其能够减少真空汽化冷却所必要的热介质，并高效地冷却被冷却部件。该冷却机构，是将被冷却部件的温度冷却到目标温度的冷却机构(6)，其包括：与上述被冷却部件以能够传热的方式连接的减压室(60)；向减压室(60...

一种能够提高对晶片进行的等离子体处理的均匀性的基板处理装置。晶片容纳于基板处理装置的室中，并受到使用处理室中产生的等离子体所执行的等离子体处理。控温机构朝向面向等离子体的环形聚焦环的至少一部分喷射高温气体。

本发明提供热处理装置及热处理方法。在从前表面朝向与该前表面相对的后表面的气流形成用的排气口地形成有横向的气流的加载区域内，在处于热处理炉的下方侧的卸载位置的晶圆舟皿与上述排气口之间设有排气风道，该排气风道形成有用于对由于卸载而被加热成高...

本发明提供一种成膜装置。与分别形成有用于向反应管内供给Zr系气体、O3气体等处理气体的气体喷射口的第1体喷射器及第2气体喷射器相对独立地形成第3气体喷射器，在该第3气体喷射器上，沿着反应管的长度方向形成有狭缝，在切换处理气体时，通过从该...

提供一种基板处理装置，包括：运送臂，所述运送臂能够载放所述基板、并具有吸附被载放的所述基板的静电吸盘，并且所述运算臂进行所述基板的运送；以及控制部，当在所述基板被载放在所述运送臂上的情况下所述运送臂的动作处于停止时，所述控制部不向所述静...

半导体装置的制造方法包括：在基板(11)上形成抗蚀剂层(13)的工序；对抗蚀剂层进行曝光、显影来形成抗蚀剂图案的工序；细化抗蚀剂图案的细化工序；在细化了的抗蚀剂图案的侧壁部形成掩模材料层的工序；以及去除细化了的抗蚀剂图案的工序，细化工序...

本发明提供液处理装置及液处理方法。其能够防止由附着在杯状件上的污垢导致处理室内的基板污损。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)及配置在基板保持部(21)周围的杯状件(42)；喷嘴(8...

本发明提供在植物的培育中，可以供给充分的光量、可以微调光量和波长且维修性也良好的植物培育光源单元。其具备发出生长促进光的光源部(2)和包含使生长促进光透射的窗构件(31)的光透射部(3)；光源部(2)包含电极对列和高频电源(22)，该电...

本发明提供载置台构造以及处理装置，能防止对载置台产生大的热应力，防止该载置台自身破损，并且能抑制防止腐蚀用的吹扫气体的供给量。本发明涉及设置在能够排出内部的气体的处理容器(22)内，用于载置被处理体(W)的载置台构造(54)。该载置台构...

本发明提供含碳薄膜的宽度减小方法及氧化装置。该含碳薄膜的宽度减小方法包括以下工序：输入工序，其用于将形成有被图案化了的含碳薄膜的被处理体向氧化装置的处理容器内输入；宽度减小工序，其用于一边向处理容器内供给水分一边利用氧化气体对含碳薄膜的...

本发明提供一种液处理装置及液处理方法，其能够防止由附着在用于支承喷嘴的喷嘴支承臂上的污垢污染处理室内的基板。液处理装置(10)包括：处理室(20)，其在内部设有用于保持基板(W)的基板保持部(21)和配设在该基板保持部(21)的周围的杯...

本发明提供一种能够比以往高效地进行干式清洁的基板处理装置的干式清洁方法。该基板处理装置的干式清洁方法通过下述工序除去附着在基板处理装置的处理腔室内的金属膜，即，氧化金属膜而形成金属氧化物的工序、使金属氧化物与β-二酮反应而形成络合物的工...

一种表面波等离子(SWP，Surface?Wave?Plasma)源，该SWP源包括：电磁波发射器，其被配置为通过在邻近等离子的所述电磁波发射器的等离子表面上生成表面波，来以所需的电磁波模式将电磁能量耦合于等离子，其中，所述电磁波发射器...

不导致分电盘的面积的增大且不实施复杂的配线工事，就能够将配线用断路器和电磁开关器便携地收纳于分电盘内，还减少配线错误和配线组装工作量。电力用连接导体，为了对配线用断路器(1a)和电磁开关器(2a、2b)等的电子设备的连接端子进行连接，具...

本发明提供一种涂布处理方法和涂布装置。在前批次(A)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N1)和随后批次(B)用的抗蚀剂喷出喷嘴(N2)通过共用的移动机构成为一体在涂布处理部(1a，1b)和喷嘴池(5)之间移动，在未使用的抗蚀剂喷出喷嘴的前端部形成由两...

本发明提供载置台构造以及处理装置，能防止对载置台产生大的热应力，防止该载置台自身破损，并且能抑制防止腐蚀用的吹扫气体的供给量。本发明涉及设置在能够排出内部的气体的处理容器(22)内，用于载置被处理体(W)的载置台构造(54)。该载置台构...