本发明的课题提供一种能够提高处理流体的流量控制的精度的技术。本发明的一方式的基板处理装置具备：处理部，具有能够收容表面被液体润湿的状态的基板的处理空间；流体供给装置，向所述处理空间供给处理流体；和控制部，所述流体供给装置具有：供给管线，...

成膜方法包括工序a)、工序b)、工序c)、工序d)以及工序e)。在工序a)中，将具有基底膜和抗蚀剂的基板搬入腔室内，该抗蚀剂设置在基底膜上且形成有预先决定的图案，在工序b)中，向腔室内供给第一单体的气体。在工序c)中，向腔室内供给吹扫气...

本发明提供能够容易地向基片间的间隙填充药液的基片处理方法、基片处理装置和计算机程序产品。基片处理方法包括：在第一基片(W1)与第二基片(W2)贴合而成的层叠基片(W3)的周缘部(W3a)，向第一基片(W1)与第二基片(W2)的间隙(G)...

在一个例示性的实施方式中，蚀刻方法包括：通过硅层的蚀刻来形成与掩模的开口重叠的凹部的步骤；至少在凹部的侧壁形成保护层的步骤；和对凹部的底部进行蚀刻的步骤，形成保护层的步骤包括：至少在凹部的侧壁形成前体层的层形成步骤；和将前体层改性为保护...

本发明提供进一步提高基片处理装置的设备差异分析的精度的信息处理装置、设备差异分析方法和基片处理装置。信息处理装置能够进行多个基片处理装置的设备差异分析，包括：重构误差矩阵生成部，其使用利用作为基准的数据集训练得到的降维模型，查验多个基片...

本发明提供基片处理方法、基片处理装置和计算机程序产品，其容易向基片间的间隙填充药液。基片处理方法包括：在以第一基片(W1)位于第二基片(W2)之上的方式将层叠基片(W3)保持为水平的状态下，向第一基片(W1)的周缘部(W1a)供给药液，...

本公开提供一种基板处理系统和基板处理方法，能够改善成品率。基于本公开的一个方式的基板处理系统具备：批量处理部，其对多张基板统一地进行处理；单片处理部，其对基板逐张地进行处理；以及控制电路，其中，所述控制电路执行以下处理：基于包含执行基板...

一种基板处理装置，其向基板供给处理液而对所述基板进行处理，其中，具备：基板保持部，其保持所述基板并使该基板旋转；杯，其容纳有所述基板保持部；以及开口部，其形成于所述基板保持部的上方，用于进行所述基板的交接，所述杯具备：外杯，其构成外壁；...

本发明提供能够得到含金属抗蚀剂的良好的图案的基片处理方法、基片处理装置和计算机存储介质。基片处理方法包括对形成有含金属抗蚀剂的覆膜且实施了曝光处理和上述曝光处理后的加热处理的基片进行显影的步骤，上述显影的步骤包括一边对上述基片进行加热一...

本发明使维护作业均质化。一种具备进行各作业项目的维护作业的作业机器人的维护作业辅助系统，其具有：测定部，每当进行作为对象的作业项目的维护作业时，对针对所述作业项目规定的测定部位进行测定；判定部，判定由所述测定部测定出的测定结果是否满足针...

本公开提供一种基板处理装置和气体供给方法，在具有对基板进行处理的处理单元、以及设置有向处理单元搬送基板的搬送单元的搬送区域的基板处理装置中抑制占用面积的增大并且抑制来自设置于该装置的电气安装件等热源的热影响。基板处理装置具有对基板进行处...

披露了一种用于制造半导体器件的方法。该方法包括在室中提供由图案化掩模覆盖的衬底。该方法包括在室中对衬底的未被图案化掩模覆盖的部分局部地施加辐射。该方法包括在室中通过干法蚀刻工艺蚀刻衬底部分。

本发明提供基片处理装置和基片处理装置中的密封部件的异常检测方法，其能够恰当地检测密封部件的异常。本发明的基片处理装置包括处理容器、密封部件、照明部和摄像部。处理容器具有可相互结合的第一部件和第二部件，通过使第二部件移动而与第一部件结合，...

本公开提供一种基板处理装置、测定装置以及测定方法，能够高精度地测定基板的位置。基板处理装置具备：保持部，其将基板以能够脱离的方式保持；光学传感器，其设置于所述保持部，向所述基板照射测定光并且接受来自所述基板的反射光；透明构件，其配置于所...

在本公开中，对容纳有基板的处理容器内进行排气，该基板形成有分别在表面暴露的第1膜和多孔质膜以及由所述多孔质膜覆盖而不在表面暴露的第2膜，从气体供给源向气体供给路径供给相对于所述第1膜和所述第2膜具有蚀刻性的蚀刻气体，将所述蚀刻气体贮存于...

本公开说明一种能够抑制用于清洗基板的清洗液的消耗量的基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备：清洗部，其构成为利用清洗液清洗在处理部中被处理后的基板；以及搬送部，其构成为在处理部与清洗部之间搬送基板。清洗部包括：清洗槽，其构成为贮存...

本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够获得高的吞吐量并且防止装置的大型化。基板处理装置具备：第一处理部和第二处理部，第一处理部和第二处理部分别与进行基板的曝光的第一曝光机和第二曝光机连接，分别包括对基板进行处理的处理模块；第一搬...

本公开提供一种基板待机部和基板处理系统，能够提高生产能力。基板待机部使在上表面和下表面附着有第一液膜的基板等待，所述基板待机部具备：处理液供给部，其对所述基板的上表面供给第一量的处理液来形成第二液膜；质量测定部，其测定所述第二液膜的质量...

本发明提供输送基片的装置、处理基片的系统和输送基片的方法，能够调节叉形部件的倾斜。基片输送装置包括：末端执行器，其具有保持基片的叉形部件和保持叉形部件的根端部的腕部；以及臂，其能够安装末端执行器并具有使叉形部件移动的机构，在基片输送装置...

本发明提供一种液处理装置、液处理方法和计算机可读取的存储介质。液处理装置的一例包括：构成为能够保持基片的基片保持部；构成为能够向基片的表面供给处理液的处理液供给部；构成为能够向基片的表面供给气体的气体供给部；控制部。气体供给部包括扩散喷...