【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种显示基板,包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵,其特征在于,所述显示基板还包括:形成于所述衬底基板上的防反射结构,所述防反射结构包括多个第一凸状结构;其中,所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:郭磊,涂志中,申莹,尹傛俊,
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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