The utility model relates to the technical field of vacuum coating, especially an ion source irradiation coating substrate shield, which is characterized in that the shielding cover is arranged on the periphery of the ion source, the shield cover is arranged at the top of a sector or a sector opening, the fan or fan the opening is positioned above the ion source. The utility model has the advantages of: coating on radial umbrella coated substrates to the charged particles irradiation intensity is roughly the same, thus forming a thin film uniformity of density; simple and reasonable structure, strong applicability.
【技术实现步骤摘要】
一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩
本技术涉及真空镀膜
,尤其是一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩。
技术介绍
在真空镀膜领域,离子辅助镀膜的应用比较广泛。使用离子源时,如果离子源发射的荷能粒子作用于空白的镀膜基片,则可以起到清洗和活化基片的作用;如果荷能粒子作用于镀膜中的镀膜基片,则还起到辅助沉积的作用。由于荷能粒子的作用,离子源辅助镀膜的光学薄膜一般具有较好的致密度和较高的折射率。通常情况下,离子源发射荷能粒子的发射口为圆形,相应地,在离子源向外部发射的自由空间中,荷能粒子的等能量线也呈圆形分布。对于真空蒸发设备,通常在真空镀膜腔室内的顶部设置一个可旋转的圆形镀膜伞架,真空蒸发设备的蒸发源和离子源通常设置在真空镀膜腔室的底部。镀膜时,蒸发源和离子源开始工作,承载着镀膜基片的镀膜伞架以中心回转机构为轴进行转动。当离子源发射荷能粒子的发射口为圆形,且镀膜伞架和离子源的相对倾斜角度较小时,离子源发射荷能粒子的等能量线在镀膜伞架上的投影亦近似为圆形。易知,此时旋转的圆形镀膜伞架径向上的基片在等能量线所围成的圆的扫略时间通常情况下是不同的,因此,不能保证各个基片接受大致相等的粒子照射。一般情况下,要想实现镀膜厚度均一性,可在蒸发源的上方设置膜厚补正板,通过膜厚补正板的形状设计,选择性地改变蒸发源膜料的发射角度来实现膜厚均一性。然而,要想实现薄膜致密度均一性,考虑到离子源发射出的为高能量粒子,类似膜厚补正板的方式有可能导致补正板被溅射而影响镀膜品质。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足,提供了一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩,通过设 ...
【技术保护点】
一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩,涉及离子源对承载在可旋转镀膜伞架上的镀膜基片进行镀膜,其特征在于:所述屏蔽罩设置在所述离子源的外围,所述屏蔽罩的罩体顶部开设有扇形或类扇形开口,所述扇形或类扇形开口位于所述离子源的上方。
【技术特征摘要】
1.一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩,涉及离子源对承载在可旋转镀膜伞架上的镀膜基片进行镀膜,其特征在于:所述屏蔽罩设置在所述离子源的外围,所述屏蔽罩的罩体顶部开设有扇形或类扇形开口,所述扇形或类扇形开口位于所述离子源的上方。2.根据权利要求1所述的一种实现离子源均...
【专利技术属性】
技术研发人员:龙汝磊,戴秀海,余龙,孙英会,
申请(专利权)人:光驰科技上海有限公司,
类型:新型
国别省市:上海,31
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