The embodiment of the invention discloses a micro electromechanical system device encapsulation method and structure. The method includes: forming a device structure on MEMS wafer, the first sealing ring and a plurality of metal pads; and a plurality of grooves are formed on the first surface of the cap straight hole; forming a plurality of first metal wires and second sealing ring on the first surface of the cap; a plurality of first metal wires are extended first end a plurality of straight hole bottom surface, non groove region and a plurality of first metal wires of the second terminal and the second sealing ring is positioned on the first surface; second sealing ring groove around the first and second ends of the metal wire, and are provided with the first sealing ring corresponding to the first metal wire; the second ends of the metal pad bonding the first; the sealing ring and the sealing ring is connected with the second seal cap and MEMS wafer; second surface etching blocks as to expose the first end of the first metal wire. The embodiment of the invention provides a package scheme for improving the performance of the MEMS device while guaranteeing air tightness.
【技术实现步骤摘要】
一种微机电系统器件封装方法及结构
本专利技术实施例涉及半导体封装技术,尤其涉及一种微机电系统器件封装方法及结构。
技术介绍
微机电系统(Micro-Electro-MechanicalSystem,MEMS)传感器是采用微电子和微机械加工技术制造出来的新型传感器。与传统的传感器相比,它具有体积小、重量轻、成本低、功耗低、可靠性高、适于批量化生产、易于集成和实现智能化的特点。在消费电子、智能终端和可穿戴产品等领域应用中,要求MEMS传感器的尺寸和成本进一步降低的同时提高集成度和性能。由于大部分MEMS器件都有气密性要求,现有技术中,通常封装之后,在MEMS功能衬底一侧或者在盖帽进行深孔刻蚀和形成绝缘层等真空高温处理,以将MEMS传感器的焊盘引出。但由于密封后存在空腔,有很大爆硅风险,并且容易损伤MEMS传感器的结构及性能。
技术实现思路
本专利技术提供一种微机电系统器件封装方法及结构,以提供一种在保证气密性的同时,提高MEMS器件性能的封装方案。第一方面,本专利技术实施例提供了一种微机电系统器件封装方法,所述方法包括:在MEMS晶圆上形成器件结构,第一密封圈以及与所述器件结构电连接的多个金属焊盘,所述第一密封圈环绕所述器件结构和所述金属焊盘;在盖帽的第一表面形成凹槽和多个直孔,所述凹槽与所述器件结构对应设置;在所述盖帽的第一表面形成多条第一金属导线和第二密封圈;所述多条第一金属导线的第一端分别延伸至所述多个直孔底面,所述多条第一金属导线的第二端以及所述第二密封圈位于所述第一表面的非凹槽区域;所述第二密封圈环绕所述凹槽和所述第一金属导线的第二端,并与所述第一密封圈 ...
【技术保护点】
一种微机电系统器件封装方法,其特征在于,包括:在微机电系统MEMS晶圆上形成器件结构,第一密封圈以及与所述器件结构电连接的多个金属焊盘,所述第一密封圈环绕所述器件结构和所述金属焊盘;在盖帽的第一表面形成凹槽和多个直孔,所述凹槽与所述器件结构对应设置;在所述盖帽的第一表面形成多条第一金属导线和第二密封圈;所述多条第一金属导线的第一端分别延伸至所述多个直孔底面,所述多条第一金属导线的第二端以及所述第二密封圈位于所述第一表面的非凹槽区域;所述第二密封圈环绕所述凹槽和所述第一金属导线的第二端,并与所述第一密封圈对应设置;将所述MEMS晶圆与所述盖帽相对放置,并将所述第一金属导线的第二端与所述金属焊盘键合,以实现线路连接;将所述第一密封圈与所述第二密封圈相连接以密封所述盖帽和所述MEMS晶圆;刻蚀所述盖帽的第二表面以裸露出所述第一金属导线的第一端。
【技术特征摘要】
1.一种微机电系统器件封装方法,其特征在于,包括:在微机电系统MEMS晶圆上形成器件结构,第一密封圈以及与所述器件结构电连接的多个金属焊盘,所述第一密封圈环绕所述器件结构和所述金属焊盘;在盖帽的第一表面形成凹槽和多个直孔,所述凹槽与所述器件结构对应设置;在所述盖帽的第一表面形成多条第一金属导线和第二密封圈;所述多条第一金属导线的第一端分别延伸至所述多个直孔底面,所述多条第一金属导线的第二端以及所述第二密封圈位于所述第一表面的非凹槽区域;所述第二密封圈环绕所述凹槽和所述第一金属导线的第二端,并与所述第一密封圈对应设置;将所述MEMS晶圆与所述盖帽相对放置,并将所述第一金属导线的第二端与所述金属焊盘键合,以实现线路连接;将所述第一密封圈与所述第二密封圈相连接以密封所述盖帽和所述MEMS晶圆;刻蚀所述盖帽的第二表面以裸露出所述第一金属导线的第一端。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将所述第一密封圈与所述第二密封圈相连接以密封所述盖帽和所述MEMS晶圆包括:所述第一密封圈与所述第二密封圈为金属层,通过金属共晶键合将所述第一密封圈和所述第二密封圈键合,以密封所述盖帽和所述MEMS晶圆。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将所述第一密封圈与所述第二密封圈相连接以密封所述盖帽和所述MEMS晶圆包括:所述第一密封圈与所述第二密封圈为胶层,通过粘结所述第一密封圈和所述第二密封圈密封所述盖帽和所述MEMS晶圆。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述盖帽的第一表面形成多条第一金属导线和第二密封圈包括:通过化学气相沉积工艺在所述多个直孔表面及所述盖帽的第一表面形成第一绝缘层;在所述第一绝缘层上形成多条第一金属导线和第二密封圈。5.根据权利要求1述的方法,其特征在于,刻蚀所述盖帽的第二表面以裸露出所述第一金属导线的第一端之后,还包括:在所述盖帽的第二表面形成第二绝缘层;在所述第二绝缘层上形成铜柱,其中,所述铜柱与所述第一金属导线的第一端电连接...
【专利技术属性】
技术研发人员:任玉龙,
申请(专利权)人:华进半导体封装先导技术研发中心有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。