彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板技术

本发明专利技术公开了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底基板上形成色阻层；在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层，所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化；以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。本发明专利技术通过在衬底基板上形成转化层，再以预设光线将转化层转化为BM图案和平坦层，而无需分两次形成BM图案和平坦层。解决了相关中制造彩膜基板的方法较为复杂的问题。达到了简化彩膜基板的制造方法的效果。

Method for manufacturing color film substrate, color film substrate and display panel

The invention discloses a method for manufacturing a color film substrate, a color film substrate and a display panel, which belong to the display technology field. The method includes: forming a color photoresist layer on a substrate; the substrate conversion layer is formed in the formation of color resistance layer, the conversion layer thickness greater than the resistance layer and the color conversion layer can preset light color conversion occurs with the preset light; the light conversion layer, the conversion layer into two layers of black matrix layer composed of flat BM pattern, the BM pattern in the conversion layer near the substrate side. In the invention, a conversion layer is formed on the substrate substrate, and the conversion layer is converted into a BM pattern and a flat layer with a preset light without the need to form a BM pattern and a flat layer in two steps. The method of making color film substrate is more complicated. The method for simplifying the manufacturing process of the color film substrate is achieved.

【技术实现步骤摘要】
彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板。
技术介绍
显示面板通常包括彩膜基板、阵列基板和形成于这两个基板之间的液晶层。其中，彩膜基板通常包括色阻层和黑矩阵(英文：BlackMatrix；简称：BM)图形，其中色阻层可以包括多个子色阻层，每个子色阻层的颜色可以不同，黑矩阵图形用于将不同的子色阻层隔开。相关技术中有一种彩膜基板的制造方法，在该方法中，首先在衬底基板上形成BM图案，然后在形成有BM图案的衬底基板上形成色阻层，再在形成有色阻层的衬底基板上形成平坦层(英文：OverCover；简称：OC)，该平坦层用于降低形成有BM图案和色阻层的衬底基板上各个位置的段差。在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现现有技术至少存在以下问题：上述制造彩膜基板的方法较为复杂。
技术实现思路
为了解决现有技术制造彩膜基板的方法较为复杂的问题，本专利技术实施例提供了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板。所述技术方案如下：根据本专利技术的第一方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括：在衬底基板上形成色阻层；在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层，所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化；以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。可选的，所述转化层由不透明材质制成，所述以预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，包括：以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，所述第一预设厚度大于所述转化层的厚度与所述色阻层的厚度的差值。可选的，所述以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，包括：在所述转化层中不透明的膜层的厚度等于所述色阻层的厚度时，在所述转化层和所述预设光线的光源之间设置掩膜板，所述掩膜板用于阻挡所述预设光线照射到所述色阻层。可选的，所述预设光线为紫外线，所述转化层中包括光催化剂，所述光催化剂用于使所述转化层照射到紫外线的部分转化为透明状态。可选的，所述光催化剂包括二氧化钛、氧化锌和氧化锡中的至少一种。可选的，所述光催化剂在所述转化层中的质量分数为0.1％至10％。可选的，所述紫外线的波长为330微米至400微米，所述紫外线的照射时间为10分钟至40分钟。可选的，所述转化层由透明材质制成，所述以预设光线照射所述转化层，使所述转化层变为两侧分别为不透明的BM图案和透明的平坦层的膜层，包括：以所述预设光线从所述衬底基板远离所述色阻层的一侧照射所述转化层，使所述转化层靠近所述衬底基板的一侧的第二预设厚度的膜层转变为不透明的BM图案，所述第二预设厚度小于所述色阻层的厚度。可选的，所述以所述预设光线从所述衬底基板远离所述色阻层的一侧照射所述转化层，使所述转化层靠近所述衬底基板的一侧的第二预设厚度的膜层转变为不透明的BM图案之前，所述方法包括：在所述预设光线的光源和所述衬底基板之间设置掩膜板，所述掩膜板用于阻挡所述预设光线照射到所述色阻层。可选的，所述预设光线为紫外线，所述转化层中包括光催化剂或透明的感光材料，所述光催化剂或所述透明的感光材料用于使所述转化层照射到紫外线的部分转化为不透明状态。根据本专利技术的第二方面，提供一种彩膜基板，所述彩膜基板为第一方面任一所述的方法制造而成的彩膜基板。根据本专利技术的第三方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括第二方面所述的彩膜基板。本专利技术实施例提供的技术方案带来的有益效果是：通过在衬底基板上形成转化层，再以预设光线将转化层转化为BM图案和平坦层，而无需分两次形成BM图案和平坦层。解决了相关中制造彩膜基板的方法较为复杂的问题。达到了简化彩膜基板的制造方法的效果。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例示出的一种彩膜基板的制造方法的流程图；图2-1是本专利技术实施例示出的另一种彩膜基板的制造方法的流程图；图2-2是图2-1所示实施例中一种衬底基板的结构示意图；图2-3是图2-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图2-4是图2-所示实施例中一种设置转化层的流程图；图2-5是图2-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图2-6是图2-1所示实施例中一种形成BM图案和平坦层的流程图；图2-7是图2-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图2-8是图2-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图3-1是本专利技术实施例示出的另一种彩膜基板的制造方法的流程图图3-2是图3-1所示实施例中一种衬底基板的结构示意图；图3-3是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图；图3-4是图3-1所示实施例中另一种衬底基板的结构示意图。上述各个附图中，附图标记的含义可以为：21-衬底基板，22-色阻层，23-转化层，231-平坦层，232-BM图案，31-掩膜板，32-预设光线的光源，33-隔垫物，h1-第一预设厚度，h2-转化层的厚度与色阻层的厚度的差值，h3-BM图案的厚度，h4-色阻层的厚度。通过上述附图，已示出本专利技术明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本专利技术构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本专利技术的概念。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步地详细描述。图1是本专利技术实施例示出的一种彩膜基板的制造方法的流程图，本实施例以该彩膜基板的制造方法应用于制造彩膜基板来举例说明。该彩膜基板的制造方法可以包括如下几个步骤：步骤101、在衬底基板上形成色阻层。步骤102、在形成有色阻层的衬底基板上形成转化层，转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化。步骤103、以预设光线照射转化层，使转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，BM图案位于转化层靠近衬底基板的一侧。综上所述，本专利技术实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过在衬底基板上形成转化层，再以预设光线将转化层转化为BM图案和平坦层，而无需分两次形成BM图案和平坦层。解决了相关中制造彩膜基板的方法较为复杂的问题。达到了简化彩膜基板的制造方法的效果。下面根据转化层由透明材质制成还是由不透明材质制成分情况进行说明。在转化层由不透明材质制成时：图2-1是本专利技术实施例示出的另一种彩膜基板的制造方法的流程图，本实施例以该彩膜基板的制造方法应用于制造彩膜基板来举例说明。该彩膜基板的制造方法可以包括如下几个步骤：步骤201、在衬底基板上形成色阻层。首先可以在衬底基板上形成色阻层，该色阻层可以包括不同颜色(如红色、绿色和蓝色)的子色阻层。步骤201结束时，衬底基板的结构可以如图2-2所示，其中，色阻层22形本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成色阻层；在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层，所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化；以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：在衬底基板上形成色阻层；在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层，所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化；以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述转化层由不透明材质制成，所述以所述预设光线照射所述转化层，使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构，包括：以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，所述第一预设厚度大于所述转化层的厚度与所述色阻层的厚度的差值。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述以所述预设光线从所述转化层远离所述衬底基板的一侧照射所述转化层，使所述转化层远离所述衬底基板的一侧的第一预设厚度的膜层转变为透明的平坦层，包括：在所述转化层中不透明的膜层的厚度等于所述色阻层的厚度时，在所述转化层和所述预设光线的光源之间设置掩膜板，所述掩膜板用于阻挡所述预设光线照射到所述色阻层。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设光线为紫外线，所述转化层中包括光催化剂，所述光催化剂用于使所述转化层照射到所述紫外线的部分转化为透明状态。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述光催化剂包括二氧化钛、氧...

【专利技术属性】
技术研发人员：殷瑞，陆相晚，马健，余娅，钟国强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11