本发明公开一种片盒精度的控制装置，包括运动单元、导向单元、动力单元及检测单元，当片盒被放置在片库上时，所述运动单元沿所述导向单元压缩所述动力单元至所述检测单元的触发范围，根据所述检测单元的触发情况判断所述片盒是否正确地放置于所述片库上。

本发明公开一种绝对式测量装置，包括：一第一测量杆，该第一测量杆包括一水平面和一第一测量面，该第一测量面与水平面呈一角度θ，所述水平面长L0；一第一探头，该第一探头沿水平面直线运动，该第一探头用于探测该测量面与该第一探头之间的距离d；并根...

本发明公开一种用于旋转电机的减振装置，其特征在于，包括：一吸振单元，该吸振单元检测该旋转电机的振动频率f1，根据该振动频率f1产生一固有频率f2，使该固有频率f2与该振动频率f1一致，以消除该振动频率f1。

本发明公开一种实现运动台定位的装置及方法，所述装置包括：基准板，所述基准板上设有测量标记；照明光源，用于照亮所述测量标记；图像传感器，用于得到所述测量标记的成像信息；反射单元，将照亮所述测量标记后的光反射至所述运动台，经所述运动台后再反...

本发明提供一种激光封装系统及激光封装过程中温度控制的方法，所述激光封装系统包括：一玻璃基板，在所述玻璃基板上布置有用于密封玻璃基板的玻璃粉图案；一激光器，用于提供一激光束；一扫描振镜，控制所述激光束运动，将所述激光束投射至所述玻璃粉图案...

本发明公开了一种反射镜定位装置，包括反射镜座、压圈和固定件，反射镜座包括调整块和设于调整块上方的圆形凸台；调整块、圆形凸台以及压圈中部均设有通孔；其中，调整块内设有与反射镜相适配的环形台阶，调整块水平向设有若干贯穿调整块前后两侧面的狭缝...

本发明涉及一种掩模整形装置，包括整形框架、整形玻璃、真空吸附气路及恒压控制气路，整形框架设在掩模边缘上方，并通过若干弹性部件连接掩模台；整形框架中部为中空结构，该中空结构与掩模相对应；整形玻璃固定罩设于整形框架的中空结构上；真空吸附气路...

本发明提供一种投影曝光装置，依次包括：照明光源、掩膜版、掩膜台、基板、工件台、控制系统，在每个曝光区域内皆并排设有对准焦面测量系统和投影物镜组且位于掩膜台和基板之间，对准焦面测量系统用于在所述扫描曝光过程前或扫描曝光过程中，对所述掩膜版...

本发明涉及一种极紫外光产生、收集系统及方法，所述系统包括Sn滴装置，在轰击平面上沿圆形路径或水平直线产生Sn滴；光源产生单元，在轰击平面上产生与所述Sn滴做同步运动的脉冲激光，轰击所述Sn滴；反射镜收集单元，用于收集所述Sn滴被轰击后产...

本发明提供一种光刻装置和方法，在照明系统与掩膜板之间增设照明切换机构，在对准时，将照明切换机构中的照明光机结构放置于照明系统下方，将照明光经过衰减后输出并被分光后只照射对准标记，并与基准标记对准；在曝光时，将照明切换机构中的遮光板放置于...

本发明公开了一种超导体磁浮平面电机，包括定子和动子，所述动子位于所述定子的表面，所述动子的尺寸小于所述定子的尺寸，所述定子为线圈阵列，所述线圈阵列由若干线圈紧密排列而成，每个所述线圈内设有铁芯；所述动子为超导体阵列，所述超导体阵列包括至...

本实用新型提供了一种偏置平板的调整装置，它包括杠杆和驱动装置，所述杠杆具有一支点，所述偏置平板固定在杠杆上，所述杠杆的一端与所述驱动装置活动连接，其中，所述驱动装置包括电机及具有一斜切面的柱体，所述杠杆的一端始终与柱体的斜切面相接触，当...

本发明公开一种光学衍射轮，包括轮体、在轮体几何中心的旋转轴和至少一个自转镜片工位设置的装置，所述自转镜片工位设置的装置包括：镜片保持架，所述镜片保持架用于安装所述自转镜片；圆环形直线电机，所述圆环形直线电机的定子与所述光学衍射轮的轮体固...

本发明公开一种非接触式硅片变形补偿装置，包括：正向气浮单元；所述正向气浮单元包括壳体和凹槽；静电吸附单元；所述凹槽内侧底部设置有静电极阵列；所述正向气浮单元包括若干设置在所述壳体上的进气口，用于导入压缩空气。

本发明提供一种掩模上版装置，其特征在于，包括：传输机构，用于传输掩模版，所述传输机构包括第一第二机械手以及气缸，所述第一第二机械手的一端与所述气缸固定，所述第一机械手用于将所述掩模版从版库内取出传输至机械预对准装置以实现所述掩模版预对准...

本发明公开一种降低光刻投影物镜环境热效应影响的方法，包括：步骤一、根据环境温度变化，计算该投影物镜的热折变焦面漂移与热变形焦面漂移以及总焦面漂移灵敏度三者值的大小和符号关系；步骤二、计算该投影物镜的单个镜片在环境温度变化下的热折变焦面灵...

本发明提供了一种材料散射特性测量装置及方法，材料散射特性测量装置包括：辐射光源，用于发出辐射光；分光器，设置于所述辐射光源的后续光路上；角谱信息收集物镜，设置于所述分光器的反射光路上；探测单元，设置于所述分光器的透射光路上。本发明的测量...

本发明涉及一种LED光源照明系统，沿光传播方向依次包括：LED阵列光源、光学挡片、微透镜阵列以及异型石英棒匀光器，所述LED阵列光源发出的光束穿过所述光学挡片进行整形，经过所述微透镜阵列进行匀光并增大所述光束的数值孔径后，进入所述异型石...

本实用新型公开了一种光束调节装置，包括第一反射镜组、第二反射镜组、第一移动滑台、第二移动滑台和工作面板，其中，所述第一反射镜组通过第一移动滑台安装在所述工作面板上，所述第二反射镜组通过第二移动滑台安装在所述工作面板上，所述第一、第二反射...

本发明公开一种光刻机掩模台倾斜度和垂向度的装置，其特征在于，包括：一光源，用于提供位于一直线上的均匀分布的若干光斑至一掩模版上，若干所述光斑排列方向与所述掩模版两条平行的边缘垂直，与所述掩模版另两条平行的边缘平行；一光电探测器，用于探测...