本发明使用包括两组周期有细微差异且并排放置的光栅作为对准标记，在对准标记上设置光学放大倍率为-1倍的投影系统，当照明光经过照射至一组光栅上并以θ

本发明提供一种图形化工艺方法，在透光衬底上直接涂覆光刻胶，在透光衬底上直接涂覆光刻胶，在对透光衬底的正面进行曝光后，见光区接收的最小光通量定义为E

本发明提供一种掩膜台光栅尺测量系统和测量方法，这种结构包括一掩膜台的承版台、一固定于承版台侧面的光栅尺、光栅尺的刻线面垂直于承版台上固定光栅尺的侧面、承版台固定光栅尺的侧面上还固定有一反射面。本发明在入射光束入射光栅尺刻线面后发生衍射后...

本发明公开了一种光刻机运动台系统和光刻机，其中，所述光刻机运动台系统，包括基座台和位于基座台上方的工件台，还包括设置在基座台和工件台之间的随动台，所述随动台上表面始终作为所述工件台的气浮支撑面。本发明提供的技术方案，通过在基座台和工件台...

本发明公开了一种光刻机同步控制系统及方法，所述光刻机同步控制系统包括干涉仪分系统和外部分系统，所述干涉仪分系统包括通过同步总线连接的同步控制卡、多通道光纤卡及干涉仪计数卡，所述同步控制卡通过外同步通道与所述外部分系统连接，所述多通道光纤...

一种用于半导体光刻的曝光系统与曝光方法，本发明通过在匀光单元与反射镜之间设置微反射镜阵列代替传统的可变狭缝装置，根据曝光时掩模板的图案以及曝光精度要求来设定曝光视场的参数，并输入微反射镜阵列的驱动软件中，计算出微反射镜阵列在曝光时的运动...

本发明涉及一种光刻机物镜冷却装置，包括水套和恒温水箱，所述水套上开设有若干个与物镜镜筒匹配的腔体，所述水套上各腔体的周围均匀开设有若干个沿所述腔体的轴向设置的孔，所述孔内设置有与所述恒温水箱连通的冷却水管，每两个相邻的冷却水管底部连通。...

本发明提供一种曝光方法，在掩膜版上的图形区域布置若干掩膜对准标记，在基底台上对应设置若干个掩模对准传感器，将掩膜版用栅格形式描述得到每个掩膜栅格的形变量，同样在基底上布置若干个基底对准标记，同时在整机框架上对应设置若干个基底对准传感器，...

本发明公开了一种用于套刻误差检测的装置及测校方法，该装置包括：光源，用于产生入射光，该入射光为散射光；照明系统，将入射光分为两束，一束作为测量光入射到物镜中，另一束作为监测光入射到探测器中；物镜，用于将测量光斜入射到套刻标记上；参考标记...

本发明提供一种使用于光刻机设备的辅助支撑装置，从上至下依次包括相互连接的弹性支撑装置、吸振部件以及驱动磁场装置，所述驱动磁场装置对所述弹性支撑装置具有相互排斥的力，使得所述弹性支撑装置支撑用于放置工件台的吊框。这样使用磁场力以及弹性装置...

本发明公开了一种调焦调平的离焦倾斜补偿装置与方法，该装置包括：照明单元、投影单元、探测单元及中继单元，所述投影单元包括投影狭缝整列，该投影狭缝阵列包括若干用于形成精测试光斑的第一狭缝，和设置在所述第一狭缝周围用于形成倾斜测试光斑的第二狭...

本发明公开了一种光刻成像系统及其投影曝光方法，该光刻成像系统包括：光源、照明组件、掩模和投影物镜，所述照明组件与掩模之间和/或投影物镜与硅片之间设置有偏振补偿装置，所述投影物镜的像面上设置有远心检测装置，所述偏振补偿装置和远心检测装置分...

本发明公开了一种测量两激光干涉仪相交角度非正交性的方法，包括：上载掩模版至掩模台上，所述掩模版上设置有若干标记组；工件台步进，使同轴对准传感器对准标记组中的第一个同轴对准标记，激光干涉仪记录当前工件台的位置；步骤3：移动工件台，使同轴对...

本发明公开了一种光刻机的快门叶片，快门叶片接受光源照射的一面设有用于增大照射光的反射光线与水平线的夹角的光路转换件。通过设置光路转换件，使快门叶片上形成底部具有V形或倒V形斜坡的环形凹槽或条形凹槽，以及表面呈弧形的球形凸起，使照射在快门...

本发明公开了一种光刻机拼接照明系统及其调整方法，该光刻机拼接照明系统包括：沿光传播方向依次设置的照明单元、多个光强透过率调节器件、多组单元物镜、视场光阑以及安装在基板运动台上的光强测量传感器，所述视场光阑为可调视场光阑。本发明通过设置可...

本发明公开了硅片边缘保护装置及方法，该硅片边缘保护装置包括光学保护环、与所述光学保护环连接的驱动机构以及与所述驱动机构连接的控制器，所述光学保护环设于照明系统的光源之后、掩模板之前，所述光学保护环的中部设有圆形通孔，且边缘不透光。通过在...

本发明提供一种可检测掩膜弯曲度的光刻系统，需在掩膜制作过程中添加若干个用于测量掩膜弯曲度的测量标记，并在测量标记的对应处设置传感器，用于探测测量标记的信息，即可计算出掩膜弯曲度的变形量，这种光刻系统结构简单，占用空间小，保证了光刻系统运...

本发明涉及一种偏振光照明系统及偏振光照明调制方法，所述偏振光照明系统包括微波无极灯、二次曲面反射罩壳、偏振光转换器件以及线栅起偏组件，所述微波无极灯位于所述二次曲面反射罩壳的焦点处，所述偏振光转换器件以及线栅起偏组件依次位于所述微波无极...

本发明提供一种椭球反射镜的定位安装结构，包括位于椭球反射镜底部的定位座，所述定位座从上至下包括伸入所述椭球反射镜底部圆孔内的圆环柱凸台和与所述圆环柱凸台固定连接的定位圆环柱。这样使得椭球反射镜的轴线能够固定，即使椭球反射镜的发生热膨胀变...

本发明公开了一种六自由度调节装置，包括定位基座和与所述定位基座连接的六自由度调节机构，所述六自由度调节机构包括用于装配芯片的芯片定位座，用于装配所述芯片定位座的角度调节基板，设于所述角度调节基板上的X/Y向水平调节组件、Z向及绕X/Y向...