本发明公开了一种暗场照明装置及表面缺陷检测装置，其中，所述暗场照明装置包括光源、光传导匀化结构、固定件及装置固定架，所述光传导匀化结构包括入射端、传导段和若干出射端，所述光源发出的光入射到所述入射端端面，经所述传导段后从若干所述出射端倾...

本发明公开了一种双频光栅测量装置，包括：光源模块，用于产生频率不同的两束光束；光栅；第一探测器；第二探测器；以及光栅测量探头，与所述光源模块和探测器连接，所述光栅测量探头从所述光源模块接收所述两束光束，对所述两束光束进行分光，使两束光束...

本发明涉及一种干涉仪测量装置及其控制方法，该装置包括载物台、激光干涉仪以及安装于所述载物台上的测量镜，其特征在于，所述测量镜由多个平面镜沿水平方向拼接而成，所述激光干涉仪包括第一干涉仪和第二干涉仪，当所述载物台移动，使所述激光干涉仪发出...

本发明公开了一种光栅测量系统，包括测量装置和光栅，所述测量装置设置有测量光束和参考光束，所述测量光束沿光束传播方向，依次经过光源、分光单元、所述光栅、第一回射单元、所述光栅、所述分光单元后，入射至信号接收单元，所述参考光束沿光束传播方向...

本发明提出一种光栅式垂向位置测量系统，沿光路传播方向，依次包括照明单元、成像单元和中继单元，所述成像单元包括投影分支和探测分支，所述投影分支具有投影狭缝，所述探测分支具有探测狭缝，其中该光栅式垂向位置测量系统还包括随机噪声产生装置，其设...

本发明公开了一种减振系统及其调节方法，该减振系统包括减振器组件、水平度检测组件、水平度调整组件和控制系统，所述减振器组件包括固定件和安装于所述固定件上的浮动件，所述水平度检测组件设在所述浮动件中，所述水平度调整组件设于所述浮动件和固定件...

本发明提出了一种物料输送台结构和物料输送系统及方法，一始终平行于水平面的上平台和始终平行于上平台并且位于上平台的下方的一下平台，用于上载和下载物料；一导轨机构，其所在的直线与上平台和下平台所在的平面皆相交但不垂直，上平台和下平台沿着导轨...

本发明公开了一种键合机加热冷却装置及其制作方法，属于微机电系统制造领域。一种键合机加热冷却装置包括加热丝底板、冷却管底板、加热丝、冷却管及焊接层，所述加热丝和冷却管分别焊接在加热丝底板和冷却管底板的焊接槽内，并通过焊接层均匀焊接在一起，...

本实用新型公开了一种实现同步对向运动的机械装置，包括底座、设置在所述底座上的同步对向运动输出机构，第一光学元件和第二光学元件上下设置，所述底座环绕所述第一光学元件和所述第二光学元件设置，所述第一光学元件和所述第二光学元件分别连接所述同步...

本发明公开一种硅片交接精度控制装置、硅片吸附台、硅片传输系统及硅片交接方法，所述硅片交接精度控制装置包括：一摩擦垫，具有用于与所述硅片接触的粗糙表面；一弹簧单元以及位于所述摩擦垫和所述弹簧单元之间的微行程单元，所述微行程单元受到向下的重...

本发明提出一种镜片固定结构，将所述镜片固定在镜座内，所述固定结构包括弹性部件，所述弹性部件内设有容纳所述镜片的通孔，所述弹性部件可沿所述通孔的径向弹性变化，所述弹性部件卡设在所述镜片与所述镜座之间限制所述镜片移动。与现有技术相比较，本发...

本发明提出一种对准系统及对准方法，该对准系统包括：掩模版，提供投影曝光图案和对准标记；投影物镜焦面测量标记，设置于所述掩模版上；投影物镜，对掩模版上的曝光图案、标记成像到硅片方像方焦面；工件台，承载有同轴镜头、基准板和硅片，其中同轴镜头...

本发明涉及一种基板交接装置及交接方法，该装置包括气浮台和工作台，气浮台包括：固定气浮单元和升降气浮单元，固定气浮单元包括第一底座、第一水平向驱动轴、固定气浮块、真空吸盘及吸盘升降气缸；升降气浮单元设置于固定气浮单元与工作台之间，包括升降...

本发明公开了一种工件台基板交接装置与预对准方法，所述装置包括设置在工件台上的检测反馈装置和气浮导轨装置、安装在气浮导轨装置上的运动基台、安装在运动基台上的支撑台、安装在支撑台上的带有气孔的基板台，气浮导轨装置控制运动基台沿X、Y向移动到...

本发明提供一种阻尼框架结构，在垂直方向上从下至上依次为减振器、吊框、支承柱以及主基板，所述减振器支撑所述吊框，所述支承柱支撑所述主基板，所述支承柱放置在所述吊框上，所述支承柱和所述主基板内部设置有空腔，并在所述空腔内填充有吸振物，所述吸...

本发明涉及一种自由光瞳照明方法及照明系统，该方法包括如下步骤：步骤1、设置LED阵列光源，所述LED阵列光源由若干LED光源组合而成，具有光源主轴；步骤2、设置可变视场光阑在所述光源主轴上；步骤3、设置控制单元，所述控制单元与所述LED...

本发明公开了一种测校装置及测校方法，该测校装置包括：照明组件，包括光源、照明镜头和空间光调制器，所述照明组件用于形成不同模式的照明光束；投影照明系统，用于将所述照明光束投射到工件的对准标记上；调焦调平功能系统，用于测量工件的离焦倾斜量并...

本发明公开了一种焦面检测装置、焦面标定方法与硅片曝光方法，该装置包括光源单元，用于对掩模板进行照射产生成像光束；成像单元，用于将掩模板上的调焦图形成像在调焦图像传感器上；调焦驱动单元，用于垂向调节投影物镜或者运动台单元以完成调焦；运动台...

本发明提供了一种气压测量装置、气压测量方法、调焦调平装置和光刻机设备。气压测量装置包括连接至供气装置的参考管路和多个测量管路；位于参考管路一端的参考管路气嘴，参考管路气嘴设置于一参考平面上方，用于向参考平面喷射气体；位于每个测量管路一端...

本发明提出一种二维光栅测量系统，利用四个角锥镜，采用垂直入射和倾斜入射两种方式相结合，垂直入射的+1级衍射光和-1级衍射光进行干涉，倾斜入射的+1级衍射光和-1级衍射光进行干涉，根据这两路干涉信号获取被测光栅的二维位移信号。当在运动台上...