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上海微电子装备有限公司专利技术
上海微电子装备有限公司共有1580项专利
一种用于光刻设备的控制架构制造技术
本发明公开一种用于光刻设备的控制架构,包括:一总控制层,该总控制层通过一VME总线与一分系统控制层通讯,该分系统控制层通过一现场总线协议与一执行层通讯。
一种位置测量系统技术方案
本发明公开一种位置测量系统,用于测量标记自动对准,其特征在于,包括:一照明光学系统,用于提供一投射至所测量标记上的照明光束;一投影光学系统,用于引导所述包括测量标记信息的照明光束至一待测物体表面;一探测光学系统,用于接收包括所述测量标记...
一种基于图像处理技术的调焦调平装置及方法制造方法及图纸
本发明涉及一种基于图像处理技术的调焦调平装置及方法,该装置包括从上至下依次排列的掩模、投影物镜、被测工件以及承载所述被测工件的工件台,还包括沿光路传播方向依次排列的光源、第一反射镜、投影狭缝、投影镜组、第二反射镜、成像镜组、第三反射镜、...
缺陷检测装置及方法制造方法及图纸
本发明公开了一种缺陷检测装置及方法,该装置包括:照明单元,用于提供所需的辐射光;成像单元,设置有多组,用于对待测物的不同区域成像;探测单元,与成像单元连接,用于将待测物的图像转换为数值信号;以及水平调节机构,用于调节所述多组成像单元的光...
激光准同步扫描方法技术
本发明公开了一种激光准同步扫描方法,包括:步骤1:初始化激光准同步装置,并设定工艺参数,该工艺参数包括封装温度、扫描圈数、激光扫描速度、扫描轨迹、封装功率和延迟参数;步骤2:将激光准同步装置的扫描振镜移动至玻璃基板的一个封装单元中心位置...
一种悬挂定位机构制造技术
本发明公开了一种悬挂定位机构,包括运动组件和不动组件,运动组件包括:本体、设于本体一侧的至少两个接触块、一个凹槽、一个一端收容在凹槽内的挂钩和设于本体底部若干高度可调的滑轮组件;不动组件的一侧包括:与接触块相配合的支撑组件和提升组件、与...
用于半导体光刻的光源灯室以及设备机柜制造技术
本发明通过将汞灯两极浸入在冷凝液中,同时隔热罩内填充冷凝液,冷凝液吸收热量使得蒸发为气体,并被分别排至第一冷凝器和第二冷凝器,被冷凝为液体传输回汞灯继续用于散热,本发明是用冷凝液吸收汞灯所散发的热量转化为气体,方法简单有效,能够使冷凝液...
硅片边缘保护装置和光刻机制造方法及图纸
本发明公开了一种边缘保护装置和光刻机,该边缘保护装置包括:旋转机构,安装在所述光刻机上,且所述旋转机构的旋转中心与光刻机的物镜轴线重合;移动机构,与所述旋转机构的边缘连接,用于调节涂覆保护机构的位置;以及涂覆保护机构,安装在所述移动机构...
一种光栅式垂向位置测量系统技术方案
本发明涉及一种光栅式垂向位置测量系统,依次包括照明单元、投影光栅组、投影单元、探测单元、探测光栅组、图像采集单元和信号处理单元,所述投影光栅组和探测光栅组内均包括2n(n≥1)个不同周期的光栅,且探测光栅组与投影光栅组为中心对称图形,所...
曝光装置制造方法及图纸
本发明公开了一种曝光装置,包括:沿光路传播方向依次设置的光源、照明模块、掩模台、投影物镜模块、成像位置调整模块和工件台,所述成像位置调整模块包括多组独立设置的调整单元,所述多组调整单元的拼接方式与投影物镜模块中投影物镜的拼接方式相同。本...
吸振装置及吸振方法、光刻机系统制造方法及图纸
本发明公开了一种吸振装置及吸振方法,包括壳体、铁芯,所述壳体内设置有相互贯通的第一腔室和第二腔室,第一腔室内设置有磁流变弹性体,位于所述第二腔室的铁芯缠绕有励磁线圈。本发明通过励磁线圈的电流的大小控制所述磁流变弹性体的刚度变强或变弱,以...
一种多自由度长行程直线电机制造技术
本发明公开了一种多自由度长行程直线电机,包括沿Y轴方向平行分布的若干个背铁、与所述背铁粘接的若干磁铁阵列和位于所述磁铁阵列之间的线圈,所述线圈沿Z轴方向从所述磁铁阵列一侧延展,还包括位置与所述线圈对应的导磁块,所述导磁块中心线位于所述磁...
硅片传输系统技术方案
本发明公开了一种硅片传输系统,包括:双臂机械手、上片直线手和下片直线手;其中,所述双臂机械手从硅片存储装置中将待曝光的硅片取出并移送到预对准装置上,并从缓存台将曝光完成的硅片取下放回硅片存储装置中;上片直线手用于将预对准后的硅片移动至工...
3D 打印装置制造方法及图纸
本实用新型提供了一种3D打印装置,包括:物料铺设单元和工作台;激光束成型单元;粗动单元,用于驱使激光束成型单元相对工作台按设定的第一轨迹移动;微动单元,用于驱使激光束成型单元相对工作台按设定的第二轨迹移动;测量系统,包括粗动测量系统和微...
对准系统及消除对准系统的电子噪声的方法技术方案
本发明提供了一种对准系统及消除对准系统的电子噪声的方法,通过开启所述对准光源照射位于掩模或掩模基准板上的掩模标记,透射光照射位于工件台基准板上的参考标记中的部分标记形成对准信号通道,所述对准信号通道的对准信号用于获取对准位置,所述参考标...
一种可校正物料起伏的光刻装置及方法制造方法及图纸
本发明公开一种可校正物料起伏的光刻装置,其特征在于,包括:照明系统,用于提供一光刻光束;掩模台,用于承载掩模;掩模台垂向传感器,用于探测并控制一掩模台的垂向位置;掩模调焦调平系统,用于测量掩模的面形;工件台,用于承载基板运动,补偿掩模和...
一种激光退火装置及其退火方法制造方法及图纸
本发明公开了一种激光退火装置及其退火方法,该退火装置包括第一退火光路系统、第二退火光路系统和合束光路系统,第一退火光路系统包括可见激光光源、与可见激光光源对应的可见激光光路系统和第一能量监测单元;第二退火光路系统包括近红外激光光源、与近...
一种干涉仪误差校准装置及校准方法制造方法及图纸
本发明公开一种干涉仪误差校准装置,用于校准干涉仪的位置误差,包括:一X向光电传感器,一Y向光电传感器,该X向光电传感器包括至少一个位于一平面的光电传感器,该Y向传感器包括至少一个另一平面的光电传感器,该X向传感器所在的平面与该Y向传感器...
一种具有面型调整功能的基准板固定装置制造方法及图纸
本实用新型公开了一种具有面型调整功能的基准板固定装置,包括支撑机构、面型调整装置和固定装置,基准板设置在所述支撑机构上,通过所述固定装置和面型调整装置对所述基准板调整定位精度和面型精度,调整后,将所述基准板固定在所述支撑机构上,所述具有...
一种集成调整装置制造方法及图纸
本实用新型公开了一种集成调整装置,包括输入机构、第一调整机构和第二调整机构,所述输入机构包括输入端、分流机构、第一传动机构、第二传动机构、第一离合器、第二离合器、输入轴、第一输出轴和第二输出轴,所述输入端通过所述输入轴连接所述分流机构,...
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