本实用新型涉及晶圆流片检测附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片表面平整度检测装置，其方便对晶圆流片进行固定，并且防止晶圆流片由于受力不均衡而发生变形的情况，保证检测精度的精准性；同时方便对晶圆流片的表面进行多点取样，得出的检测结果...

本发明涉及晶圆流片制造附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆流片制造的切段装置，其可以方便将单晶硅棒按照要求切割成规定长度的单晶硅段，降低使用局限性；并且可以方便控制切割刀移动的方向，减少切割偏移的现象，减少资源浪费，提高使用可靠性...

本发明涉及晶圆生产制造附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆生产用表面化学刻蚀装置，其可以使多组晶圆放置规整，防止多组晶圆相互叠放，使化学溶液在对多组晶圆进行冲洗的过程中与多组晶圆表面上的三氧化二铝和甘油混合液接触反应更加充分，提高化学...

本发明涉及晶圆生产加工附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆生产用外径滚磨装置，其可以对硅晶柱进行同心夹紧调节，提高硅晶柱打磨直径的精确度，减少人为因素，导致其使用可靠性较低；并且提高打磨面积，同时减轻人力，提高打磨效率，提高实用性；包...

本发明涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆流片制造的前处理装置，其可以方便将处理后的晶圆一次性全部取出，提高其实用性；并且可以在处理过程中，方便对每个晶圆表面进行充分处理，提高其处理效果；包括处理箱和四组支撑柱；还...

本发明涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片用贴片装置，其可以提高滚筒的支撑稳定性，无需人工直接操作滚筒对胶布进行滚压，减少人为因素，保证滚筒与胶布顶端接触面水平接触，提高滚压效果，方便掌握滚筒滚压力度，提高使用可靠...

本发明涉及附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产CVD氧化膜厚度的控制装置，其可以降低加工之后的镀膜晶圆片氧化膜厚度距离要求值的偏差；并且可以增强加工之后的镀膜晶圆片的氧化膜的表面平整度；同时增强支座适配多种尺寸镀膜晶圆片的能力...

本发明涉及晶圆流片检测附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片表面缺陷检测装置，其可以提高晶圆流片在检测台上的稳定性，提高检测结果，降低使用局限性；并且提高镭射光束的稳定性，提高镭射光束在晶圆流片顶端的照射范围，方便更换检测位置，降低...

本发明涉及晶圆生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置，其方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作，同时提高深度调节精确度，提高使用可靠性；并且提高刻蚀机在支撑板上的稳定性，提高实用性；包括刻蚀机和支撑板；包括放...

本发明涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产离子注入的控制装置，其可以通过提高筒体的盛放腔内的制备气体的控制精度；并且可以提高筒体盛放腔的制备气体的利用率；包括筒体和四组支腿，筒体的内部设置有盛放腔，盛放腔的顶端...

本发明涉及半导体制造附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的均匀性的控制装置，方便夹紧；易于控制溶液的速度和量；包括工作台和胶头滴管；还包括第一支撑杆、第二支撑杆、前限位板、后限位板、左挡板、右挡板、推动杆、齿条、后不完整齿...

本发明涉及晶圆流片生产测试附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆流片的电阻率检测装置，其可以提高晶圆流片在检测台上的放置稳定性，防止在使用电阻率检测探头对晶圆流片进行检测的过程中晶圆流片发生滑动，减少影响检测结果的外界因素，提高使用...

本发明涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片生产用清洗装置，其可方便对酒精进行使用，提高使用性；同时方便对清洗后掉落的脏物进行清理，降低劳动程度；且可无需手按晶圆流片进行固定，使清洗刷和清洗棉球能同时进行使用，提高清...

本发明涉及晶圆流片检测装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片用散热性能检测装置，其可节约水资源，提高使用性；同时方便移动检测头使其与样品进行接触，提高使用效果；且减轻余热对样品散热效果的影响，提高使用可靠性；同时方便将样品从限位环内取出...

本发明涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆片清洗装置，其可以通过提高清洗液对晶圆片的冲洗频率，从而清洗液可以强烈的冲洗晶圆片表面附着的污渍；并且可以将晶圆片在清洗的时候转动，保证清洗液全方位对晶圆片清洗；包括操作台、洗...

本发明涉及电子芯片加工附属装置的技术领域，特别是涉及一种芯片加工用刻蚀装置，方便对芯片进行安装和取放，避免工人被刻蚀液腐蚀，提高安全性；并且节省刻蚀用时，提高工作效率；同时可以保证掩模与芯片之间紧密贴合，避免刻蚀液进入掩模和芯片之间的缝...

本发明涉及光刻胶检测附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产中光刻胶涂敷质量的检测装置；包括检测台和支撑柜，支撑柜内设置有盛放腔，并且支撑柜前侧连通设置有取放口；还包括两组支撑杆，检测台底端横向设置有上滑道，上滑道处设置有两组上滑...

本发明涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片生产用加工装置，其可对两组切割器输出端间的距离进行调整，以便对能切割出来的晶圆流片的直径进行调整，提高适应能力；同时可对切割器输出端与放置架间的距离进行调整，以便能切割多种...

本发明涉及晶圆流片检测附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片表面平整度检测装置，其方便对晶圆流片进行固定，并且防止晶圆流片由于受力不均衡而发生变形的情况，保证检测精度的精准性；同时方便对晶圆流片的表面进行多点取样，得出的检测结果更具...

本发明涉及半导体制造附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆清洗回收机，降低设备故障率，负荷小；提高搅拌效率；添加回收晶圆和清洗液过程较简单；包括筒体、一组第一搅拌叶、第一挡盖、第二挡盖和第一传动轴，进入口处和出料口处分别设置有第一挡盖和...