The present invention relates to the technical field of wafer wafer production and testing accessory device, in particular to a resistivity detection device for wafer wafer, which can improve the stability of wafer wafer placement on the test bench, prevent wafer slipping in the process of wafer wafer detection with resistivity detection probe, reduce the external factors affecting the test results, and improve the test results. Reliability in use; and no manual hand resistivity probe is needed to detect wafer wafers to reduce human factors, improve detection accuracy, reduce manpower, ease of operation and improve practicability; including test bench, left arc splint, right arc splint, upper rack, lower rack, left connecting rod, right connecting plate, supporting sliding column, first adjusting shaft, ratchet wheel and upper sliding rail. Down slide rail, baffle, support spring, limit pawl, left support plate, adjusting screw, fixed baffle, limit slide column, adjusting block, installation plate, first bevel gear, second bevel gear and second adjusting shaft.
【技术实现步骤摘要】
一种用于晶圆流片的电阻率检测装置
本专利技术涉及晶圆流片生产测试附属装置的
，特别是涉及一种用于晶圆流片的电阻率检测装置。
技术介绍
众所周知，用于晶圆流片的电阻率检测装置是一种对生产完成后的晶圆流片，对其电阻率进行检测，以便于更好的检验晶圆流片的生产是否达标的辅助装置，其在晶圆流片生产测试的领域中得到了广泛的使用；现有的用于晶圆流片的电阻率检测装置包括检测台和四组支撑滑柱，四组支撑滑柱的顶端分别与检测台底端的左前侧、左后侧、右前侧和右后侧连接，并且检测台的顶端放置有电阻率检测探头；现有的用于晶圆流片的电阻率检测装置使用时，首先将整体放置无尘环境的检测室内部，然后将待检测的晶圆流片平放在检测台上，然后将电阻率检测探头与外部计算机接通，人工使用电阻率检测探头的底部输出端对其进行反复检测，并记录每次检测的数值，将检测后的数值进行统计并求出平均值即可；现有的用于晶圆流片的电阻率检测装置使用中发现，晶圆流片在检测台上的放置稳定性较差，在使用电阻率检测探头对晶圆流片进行检测的过程中晶圆流片容易发生滑动，影响检测结果，导致其使用可靠性较低；并且人工手拿电阻率检测探头对晶...
【技术保护点】
1.一种用于晶圆流片的电阻率检测装置，包括检测台（1），检测台（1）的顶端放置有电阻率检测探头（2）；其特征在于，包括左弧形夹板（3）、右弧形夹板、上齿条（4）、下齿条、左连接杆（5）、右连接板、支撑滑柱（6）、第一调节轴（7）、棘轮（8）、上滑轨（9）、下滑轨、挡板（10）、支撑弹簧（11）和限位棘爪（12），所述检测台（1）的内部设置有调节腔室，并且检测台（1）顶端的左侧和右侧分别横向设置有左右方向上的左滑动通槽和右滑动通槽，并且左滑动通槽和右滑动通槽均与调节腔室内部相通，所述左弧形夹板（3）和右弧形夹板的底端分别与检测台（1）的顶端左侧和右侧可滑动接触，并且所述左连接...
【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆流片的电阻率检测装置，包括检测台（1），检测台（1）的顶端放置有电阻率检测探头（2）；其特征在于，包括左弧形夹板（3）、右弧形夹板、上齿条（4）、下齿条、左连接杆（5）、右连接板、支撑滑柱（6）、第一调节轴（7）、棘轮（8）、上滑轨（9）、下滑轨、挡板（10）、支撑弹簧（11）和限位棘爪（12），所述检测台（1）的内部设置有调节腔室，并且检测台（1）顶端的左侧和右侧分别横向设置有左右方向上的左滑动通槽和右滑动通槽，并且左滑动通槽和右滑动通槽均与调节腔室内部相通，所述左弧形夹板（3）和右弧形夹板的底端分别与检测台（1）的顶端左侧和右侧可滑动接触，并且所述左连接杆（5）和右连接杆的顶端分别与所述左弧形夹板（3）和右弧形夹板的底端中部连接，左连接杆（5）和右连接杆的底端均自检测台（1）的顶端分别可滑动穿过左滑动通槽和右滑动通槽内部并伸入至调节腔室内部，所述支撑滑柱（6）横向位于所述调节腔室内部，并且支撑滑柱（6）的左端与调节腔室的左端内壁上侧连接，左连接杆（5）和右连接杆的内部上侧分别横向设置有左右贯穿的左支撑通孔和右支撑通孔，所述支撑滑柱（6）的右端自左连接杆（5）的左端分别可滑动穿过左支撑通孔和右支撑通孔内部并伸出至右连接杆的右端外界与所述调节腔室的右端内壁上侧连接，所述上齿条（4）的顶端左侧与左连接杆（5）的底端连接，并且所述下齿条的顶端右侧与右连接杆的底端连接，所述调节腔室的后端内壁中部设置有固定槽，并且固定槽内部设置有转动滚珠轴承，所述第一调节轴（7）的后端自检测台（1）的前端穿过检测台（1）的前端外壁并伸入至调节腔室内部，并且第一调节轴（7）的后端插入并固定安装至转动滚珠轴承内部，所述第一调节轴（7）上设置有调节齿轮，并且调节齿轮的顶端与上齿条（4）的底端啮合，调节齿轮的底端与下齿条的顶端啮合，所述棘轮（8）位于检测台（1）的前侧，并且棘轮（8）固定套装在第一调节轴（7）的外部，所述上滑轨（9）和下滑轨分别位于所述棘轮（8）的右上侧和右下侧，并且上滑轨（9）和下滑轨的后端均与检测台（1）的前端右侧连接，上滑轨（9）的底端与下滑轨的顶端分别横向设置有左右方向上的上滑槽和下滑槽，所述限位棘爪（12）的顶端和底端分别设置有上滑块和下滑块，所述上滑块和下滑块分别可滑动设置在上滑槽和下滑槽内部，所述挡板（10）左端的上侧和下侧分别与所述上滑轨（9）和下滑轨的右端连接，并且所述支撑弹簧（11）的右端与挡板（10）的左端连接，支撑弹簧（11）的左端与限位棘爪（12）的右端连接，限位棘爪（12）的左端插入至棘轮（8）的右侧棘齿内部，所述第一调节轴（7）的前端同心设置有第一手轮（13）；还包括左支撑板（14）、调节丝杠（15）、固定挡板（16）、限位滑柱（17）、调节块（18）、安装板（19）、第一锥型齿轮（20）、第二锥型齿轮（21）和第二调节轴（22），所述左支撑板（14）的底端与所述检测台（1）的顶端左侧连接，并且左支撑板（14）的右端上侧和下侧分别设置有上轴承座和下轴承座，并且上轴承座和下轴承座内部分别设置有上滚珠轴承和下滚珠轴承，所述调节丝杠（15）的顶端插入并固定安装至上滚珠轴承内部，调节丝杠（15）的底端插入并固定安装至下滚珠轴承内部，所述固定挡板（16）位于所述上轴承座的下方，并且固定挡板（16）的左端与左支撑板（14）的右端上侧连接，固定挡板（16）的内部右侧设置有上下贯穿的转动通孔，并且固定挡板（16）通过转动通孔套设在所述调节丝杠（15）的外部，所述限位滑柱（17）的顶端与固定挡板（16）的底端左侧连接，并且所述调节块（18）的顶端左侧和右侧分别设置有上下贯穿的左限位通孔和右螺纹通孔，调节板通过螺纹通孔螺装套设在调节丝杠（15）的外部，并且所述限位滑柱（17）的底端自调节块（18）顶端可滑动穿过左限位通孔内部并伸出调节块（18）的底端外界与所述下轴承座的顶端左侧连接，所述左支撑板（14）的内部上侧横向设置有调节通孔，并且调节通孔的右端同心设置有调节轴承座，调节轴承座内部设置有调节滚珠轴承，所述第二调节轴（22）的右端自左支撑板（14）的左端分别可滑动穿过调节通孔和调节滚珠轴承内部并伸出至调节轴承座的右端外界与所述第一锥型齿...
【专利技术属性】
技术研发人员：王昌华，
申请(专利权)人：江苏英锐半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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