本实用新型涉及晶圆流片检测装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片用散热性能检测装置，其可节约水资源，提高使用性；同时方便移动检测头使其与样品进行接触，提高使用效果；且减轻余热对样品散热效果的影响，提高使用可靠性；同时方便将样品从限位环内...

本实用新型涉及静电检测附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产环境的静电检测装置；包括静电检测仪本体、连接导线和探枪，静电检测仪本体前侧壁设置有显示屏、控制键组和端口组，探枪上设置有探头；还包括前连接柱、把手、连接架、前转动柱、连...

本实用新型涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆流片生产的单晶硅棒磨方处理装置，其可以方便对多组单晶硅棒进行同时磨方处理，缩短耗时；可以方便控制滚磨与单晶硅棒之间的距离，减少磨方失误，减少资源的浪费；并且其可以方便控...

本实用新型涉及晶圆生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置，其方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作，同时提高深度调节精确度，提高使用可靠性；并且提高刻蚀机在支撑板上的稳定性，提高实用性；包括刻蚀机和支撑板；包...

本实用新型涉及附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产加工的表面研磨装置；其可以提高夹紧效果，可以不能适应不同大小的晶圆切片的夹紧，同时防止将晶圆切片在夹紧过程中被损坏；无需人工使用打磨砂盘对晶圆切片顶端表面进行打磨，节省人力，可...

本实用新型涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产离子注入的控制装置，其可以通过提高筒体的盛放腔内的制备气体的控制精度；并且可以提高筒体盛放腔的制备气体的利用率；包括筒体和四组支腿，筒体的内部设置有盛放腔，盛放腔的...

本实用新型涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆流片制造的前处理装置，其可以方便将处理后的晶圆一次性全部取出，提高其实用性；并且可以在处理过程中，方便对每个晶圆表面进行充分处理，提高其处理效果；包括处理箱和四组支撑柱...

本实用新型涉及晶圆流片加工生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆刻蚀设备的切割装置，其可以降低安全隐患，提高硅晶柱切割过程中的稳定性，提高切割精度，提高切割效果，降低使用局限性；并且传动皮带在长时间使用过程中，可对松弛的传动皮带...

本实用新型涉及附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产CVD氧化膜厚度的控制装置，其可以降低加工之后的镀膜晶圆片氧化膜厚度距离要求值的偏差；并且可以增强加工之后的镀膜晶圆片的氧化膜的表面平整度；同时增强支座适配多种尺寸镀膜晶圆片的...

本实用新型涉及半导体制造附属装置的技术领域，特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的均匀性的控制装置，方便夹紧；易于控制溶液的速度和量；包括工作台和胶头滴管；还包括第一支撑杆、第二支撑杆、前限位板、后限位板、左挡板、右挡板、推动杆、齿条、后不完...

本实用新型涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片生产用清洗装置，其可方便对酒精进行使用，提高使用性；同时方便对清洗后掉落的脏物进行清理，降低劳动程度；且可无需手按晶圆流片进行固定，使清洗刷和清洗棉球能同时进行使用，提...

本实用新型涉及晶圆流片质检附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片用质检装置，其能根据工作人员的需求对外壳的位置进行调节，以便对放大镜片的高度和角度进行调整，提高适应能力；同时方便在光线较暗的情况下进行使用，降低使用局限性；且减轻周围...

本实用新型涉及电子芯片加工附属装置的技术领域，特别是涉及一种芯片加工用刻蚀装置，方便对芯片进行安装和取放，避免工人被刻蚀液腐蚀，提高安全性；并且节省刻蚀用时，提高工作效率；同时可以保证掩模与芯片之间紧密贴合，避免刻蚀液进入掩模和芯片之间...

本实用新型涉及晶圆加工附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆加工用切面抛光装置，提高对晶圆的固定效果，从而提高对晶圆切面抛光的效果，提高实用性；并且一次固定即可完成晶切面的抛光，提高工作效率；同时降低安全隐患；包括工作台、左支板、右支板...

本实用新型涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆片抛光装置，其可以在放置板顶端设置可以调节尺寸的调节夹，从而可以固定多种尺寸的晶圆片；同时将抛光机固定在支架上工作，降低人为因素对抛光机加工精度的影响；同时可以提高粗轮抛光...

本实用新型涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片生产用光刻辅助装置，其可增强晶圆流片在支撑架上的稳固性，避免其在焊接过程中移位，提高焊接效果；同时能根据工作人员需求对其焊接时与晶圆流片间距离进行调整，提高适应能力，降...

本实用新型涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片用切割装置，其无需工作人员手按材料进行固定，提高安全效果；同时增强材料切割时的固定效果，提高使用可靠性；且方便后续对工作台上遗留的粉屑进行清洁，提高使用性；包括工作台、...

本实用新型涉及晶圆加工设备附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆片清洗装置，其可以通过提高清洗液对晶圆片的冲洗频率，从而清洗液可以强烈的冲洗晶圆片表面附着的污渍；并且可以将晶圆片在清洗的时候转动，保证清洗液全方位对晶圆片清洗；包括操作台...

本实用新型涉及晶圆流片生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片用贴片装置，其可以提高滚筒的支撑稳定性，无需人工直接操作滚筒对胶布进行滚压，减少人为因素，保证滚筒与胶布顶端接触面水平接触，提高滚压效果，方便掌握滚筒滚压力度，提高使用...

本实用新型涉及半导体制造附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆清洗回收机，降低设备故障率，负荷小；提高搅拌效率；添加回收晶圆和清洗液过程较简单；包括筒体、一组第一搅拌叶、第一挡盖、第二挡盖和第一传动轴，进入口处和出料口处分别设置有第一挡...