【技术实现步骤摘要】
本申请为2012年12月21日提交的、申请号为201210560842.3的、专利技术名称为“磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质”的申请的分案申请。
本专利技术涉及磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质。
技术介绍
作为磁记录装置等所使用的磁记录介质用基板，目前，一直使用铝合金基板，但随着高记录密度化的要求，比铝合金基板硬、且平坦性、平滑性优异的玻璃基板逐渐成为主流。近年来，由于磁记录介质的高记录密度化、高速旋转化的进一步发展，因此比以往更多地发生磁头看丢记录有磁记录介质的半径/轨道位置信息的伺服信息而发生读取/写入错误的现象。考虑这种错误的发生的原因为，伴随着高记录密度化的窄轨道宽度化、伴随高速旋转化的磁盘振动的发生引起的机械性振动。因此，为了抑制这种错误，例如，使用比模量(比模量是用玻璃密度除以杨氏模量而得到的量，是成为表现出轻且强、轻且难以变形的特性的指针的量。下面，也称为比杨氏模量。)高的材料作为磁记录介质用玻璃基板的材料，进行抑制振动。另外，专利文献I中记载有，通过选择厚度方向的对称性处于规定范围内的磁记录介质用玻璃基板，从而作为硬盘时减少磁记录介质所记...
【技术保护点】
一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有对圆盘形状的玻璃基板的主平面进行研磨的主平面研磨工序，在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量A:从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%～7.7%的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用（磁记录介质用玻璃基板主平面的面积）...
【技术特征摘要】
2011.12.22 JP 2011-2823271.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有对圆盘形状的玻璃基板的主平面进行研磨的主平面研磨工序， 在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量A:从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%~7.7%的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35~80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用(磁记录介质用玻璃基板主平面的面积)_2X 2.28mN/mm2来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和施加载荷前的平坦度之差的绝对值， 这种情况下，所述滞弹性变形量A为4.2 μ m以下。2.如权利要求1所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法， 在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量B:从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%~7.7%的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35~80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用(磁记录介质用玻璃基板主平面的面积)_2X 2.28mN/mm2来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和解除载荷之后经过48小时的时候的平坦度之差的绝对值， 这种情况下，所述滞弹性变形量B为3.0 μ m以下。3.如权利要求1或2所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法， 在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%~7.7%的长度的直径方向的两端部，并在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35~80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时的利用(磁记录介质用玻璃基板主平面的面积)mm2X2.2...
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