本发明专利技术的目的在于提供一种在形成磁记录介质时错误的发生率较低的磁记录介质用玻璃基板的制造方法及使用了该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质的制造方法。本发明专利技术中，在磁记录介质用玻璃基板上，设如下的值为滞弹性变形量A：从下表面侧支承上述磁记录介质用玻璃基板的直径方向的两端部并在对上述磁记录介质用玻璃基板的中央部上表面施加48小时的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度和施加载荷之前的平坦度的差的绝对值，这种情况下，上述滞弹性变形量A为4.2μm以下。
【技术实现步骤摘要】
本申请为2012年12月21日提交的、申请号为201210560842.3的、专利技术名称为“磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质”的申请的分案申请。
本专利技术涉及磁记录介质用玻璃基板及磁记录介质。
技术介绍
作为磁记录装置等所使用的磁记录介质用基板，目前，一直使用铝合金基板，但随着高记录密度化的要求，比铝合金基板硬、且平坦性、平滑性优异的玻璃基板逐渐成为主流。近年来，由于磁记录介质的高记录密度化、高速旋转化的进一步发展，因此比以往更多地发生磁头看丢记录有磁记录介质的半径/轨道位置信息的伺服信息而发生读取/写入错误的现象。考虑这种错误的发生的原因为，伴随着高记录密度化的窄轨道宽度化、伴随高速旋转化的磁盘振动的发生引起的机械性振动。因此，为了抑制这种错误，例如，使用比模量(比模量是用玻璃密度除以杨氏模量而得到的量，是成为表现出轻且强、轻且难以变形的特性的指针的量。下面，也称为比杨氏模量。)高的材料作为磁记录介质用玻璃基板的材料，进行抑制振动。另外，专利文献I中记载有，通过选择厚度方向的对称性处于规定范围内的磁记录介质用玻璃基板，从而作为硬盘时减少磁记录介质所记录的伺服信息的错误的磁盘用玻璃基板的制造方法。专利文献1:日本国特开2010 — 277679号公报如上所述，以往，一直研究着抑制磁记录介质的错误发生的方法，但不能充分抑制错误发生，依然存在作为磁记录介质时发生错误的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术是鉴于上述现有技术具有的问题而做出的，其目的在于提供一种在成为磁记录介质时错误的发生率较低的磁记录介质用玻璃基板。为了解决上述课题，本专利技术提供一种磁记录介质用玻璃基板，其中，设如下的值为滞弹性变形量A:从下表面侧支承所述磁记录介质用玻璃基板的直径方向的两端部并在对所述磁记录介质用玻璃基板的中央部上表面施加48小时的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度和施加载荷前的平坦度之差的绝对值，这种情况下，所述滞弹性变形量A为4.2 μ m以下。本专利技术提供一种即使在对磁记录介质施加载荷而变形的情况下也能够在规定时间内恢复成原来的形状的磁·记录介质用玻璃基板。因此，即使在出库时在盒子内包装、固定而磁记录介质用玻璃基板发生变形的情况下，也能够在写入伺服信息之前的时间内复原成原来的形状，在磁记录介质的恰当的位置记录伺服信息，可以抑制之后的错误(读取/写入错误)的发生。【附图说明】图1是本专利技术的第一实施方式的滞弹性变形量的测定流程的说明图；图2 (a)及2 (b)是本专利技术的第一实施方式的滞弹性变形量测定时的载荷附加方法的说明图。标号说明 13磁记录介质用玻璃基板14两端部I5 载荷【具体实施方式】下面，参照附图对用于实施本专利技术的方式进行说明，但本专利技术不限定于下述的实施方式，在不脱离本专利技术的范围内，可以对下述实施方式施加各种变形及置换。[第一实施方式][0021 ] 在本实施方式中，对本专利技术的磁记录介质用玻璃基板进行说明。本专利技术的专利技术人等对即使在使用比模量(比模量是指玻璃的杨氏模量除以玻璃的密度得到的量，是成为表现出轻且强、轻且难以变形的特性的指针的量。下面，也称为比杨氏模量。)高的材料作为磁记录介质用玻璃基板的材料的情况下，在磁记录介质中也引起读出错误的原因进行了研究，结果发现原因之一是在输送工序中磁记录介质发生了变形的情况下在变形没有充分恢复时写入伺服信息，由此完成了本专利技术。通常，磁记录介质用玻璃基板以在其表面形成磁性层等而形成为磁记录介质之后不与其它磁记录介质接触的方式收纳于盒子中，进而收纳于减压后的包装容器内，向硬盘驱动器的制造工厂进行出库、输送。在输送磁记录介质时，虽然磁记录介质收纳于盒子内，但由于进而收纳于减压后的包装容器(包装)内，因此，有时施加载荷而发生变形。而且，在输送到硬盘驱动器的制造工厂之后，从盒子取出磁记录介质而组装至硬盘驱动器，写入伺服信息，并供于读写测试。如上所述，在输送时对磁记录介质施加载荷而发生变形的情况下，由于从盒子取出而解除载荷，因此，在这些工序的期间，磁记录介质逐渐向原来的形状恢复。通常，磁记录介质在从盒子取出后经过5~12小时左右后写入伺服信息。但是，在该阶段中磁记录介质的形状还未充分复原的情况下，即使写入伺服信息之后该位置也发生位移。因此，写入的伺服信息的写入位置偏移，成为产生错误的原因。而且，对在磁记录介质中引起读出错误的原因进行了研究，其结果可知，由于磁记录介质是在磁记录介质用玻璃基板表面形成磁性层等的磁记录介质，因此，磁记录介质的形状的复原速度依赖于磁记录介质用玻璃基板的滞弹性变形量。本专利技术通过将磁记录介质用玻璃基板的滞弹性变形量A设为4.2 μ m以下，要可靠地抑制在磁记录介质用玻璃基板表面上形成磁性层等的磁记录介质中发生读出错误的情况。在此所说的滞弹性变形量A是指如下所述的值:从下表面侧支承磁记录介质用玻璃基板的相对的两端部，并对磁记录介质用玻璃基板的中央部(包含中心的中央区域)上表面施加48小时的载荷，之后解除载荷，解除载荷之后经过5小时的平坦度和施加载荷之前的平坦度之差的绝对值。在此，在测定滞弹性变形量A时，对磁记录介质用玻璃基板施加48小时的载荷是基于从将磁记录介质包装、出库到为了硬盘驱动器组装而将包装开封为止通常所需要的时间。进而确认到在测定后述的滞弹性变形量A~C时，无论使用哪一玻璃基板，平坦度的变化都在施加载荷的时间为16小时左右饱和。因此，从平坦度的变化饱和并且即使进一步施加载荷也不会引起平坦度变化的时间的观点出发，也设为48小时。另外，将解除载荷之后5小时后的平坦度设为比较对象是因为，通常，在将磁记录介质的包装开封后到写入伺服信息为止的时间为5~12小时左右。为了抑制错误，在该期间需要磁记录介质用玻璃基板向原来的形状恢复直到之后的位移不会成为问题的程度。作为滞弹性变形量A的值只要为在记录了伺服信息之后即使磁记录介质用玻璃基板位移也允许的值即可，如上所述，滞弹性变形量A的值为4.2μπι以下。作为滞弹性变形量Α，优选为4.0 μ m以下，进一步优选为3.5 μ m以下，特别优选为3.0 μ m以下。滞弹性变形量A的下限值为O μ m。可以说这对其它滞弹性变形量B、滞弹性变形量C也是一样的。另外，将如下所述的值设为滞弹性变形量B:从下表面侧支承磁记录介质用玻璃基板直径方向的两端部，对上述磁记录用玻璃基板的中央部(包含中心的中央区域)上表面施加48小时的载荷，之后解除载荷，解除了载荷之后经过5小时的平坦度和解除了载荷之后经过48小时的平坦度之差 的绝对值。在该情况下，优选上述滞弹性变形量B为3.0 μ m以下的磁记录介质用玻璃基板。滞弹性变形量B是指从去除载荷后经过5小时的时候起到经过48小时的时候之间的变形量。因此，该值越小，意味着在去除载荷并经过5小时的时候写入伺服信息后的位移量越小。因此，由于滞弹性变形量B满足上述规定，从而写入伺服信息后的位移量较小，在作为磁记录介质的情况下，可以进一步抑制错误的发生。作为滞弹性变形量B的值，只要是写入伺服信息后进行数据的读取、写入时允许的变形量即可，但如上述，优选为3.0 μ m以下。作为滞弹性变形量B，更优选为2.5 μ m以下，特别优选为2.0μπι以下。此外,优选的是,从下表面侧支承磁记本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有对圆盘形状的玻璃基板的主平面进行研磨的主平面研磨工序，在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量A:从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%～7.7%的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35～80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用（磁记录介质用玻璃基板主平面的面积）mm2×2.28mN/mm2来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和施加载荷前的平坦度之差的绝对值，这种情况下，所述滞弹性变形量A为4.2μm以下。
【技术特征摘要】
2011.12.22 JP 2011-2823271.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有对圆盘形状的玻璃基板的主平面进行研磨的主平面研磨工序， 在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量A:从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%~7.7%的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35~80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用(磁记录介质用玻璃基板主平面的面积)_2X 2.28mN/mm2来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和施加载荷前的平坦度之差的绝对值， 这种情况下，所述滞弹性变形量A为4.2 μ m以下。2.如权利要求1所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法， 在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，设如下的值为滞弹性变形量B:从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%~7.7%的长度的直径方向的两端部，在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35~80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时利用(磁记录介质用玻璃基板主平面的面积)_2X 2.28mN/mm2来计算出的载荷后解除载荷，在解除载荷之后经过5小时的时候的平坦度，和解除载荷之后经过48小时的时候的平坦度之差的绝对值， 这种情况下，所述滞弹性变形量B为3.0 μ m以下。3.如权利要求1或2所述的磁记录介质用玻璃基板的制造方法， 在所述主平面研磨工序后的磁记录介质用玻璃基板中，从下表面侧支承由设置于所述磁记录介质用玻璃基板的相对的两部位的弦和圆弧包围、所述弦和所述圆弧之间的距离的最大值为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的2.3%~7.7%的长度的直径方向的两端部，并在对宽度为所述磁记录介质用玻璃基板的直径的35~80%的长度且该宽度方向的中心线通过所述磁记录介质用玻璃基板的中心的与所述弦平行的所述磁记录介质用玻璃基板的中央区域上表面施加48小时的利用(磁记录介质用玻璃基板主平面的面积)mm2X2.2...
【专利技术属性】
技术研发人员：田先雷太，大塚晴彦，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：
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