【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种控制在炉管内生成的晶片氧化层厚度的方法，在炉管内的产品晶片两侧设置有冗余片以将所述炉管装满，其特征在于，所述方法包括：使第一冗余片的与产品晶片正面相对的表面具有与产品晶片背面最外层相同的材料；其中所述产品晶片正面为所述产品晶片的要形成氧化层的表面，并且所述第一冗余片是炉管内最接近所述产品晶片的冗余片。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈清，
申请(专利权)人：无锡华润上华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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