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本发明提供一种控制在炉管内生成的晶片氧化层厚度的方法，在炉管内的产品晶片两侧设置有冗余片以将所述炉管装满，所述方法包括：使第一冗余片的与产品晶片正面相对的表面具有与产品晶片背面最外层相同的材料；其中所述产品晶片正面为所述产品晶片的要形成氧化...
该专利属于无锡华润上华科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡华润上华科技有限公司授权不得商用。

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