【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种基板处理方法，其用于在基板处理装置中使用多种处理气体来对基板连续地实施多个处理，该基板处理装置具有处理室和用于向该处理室导入处理气体的处理气体导入路径，该基板处理方法的特征在于，该基板处理方法具有气体置换步骤，在该气体置换步骤中，在一个处理与接着该一个处理的下一个处理之间，停止向上述处理室导入上述处理气体，使均不妨碍上述一个处理和上述下一个处理的置换气体流入到上述处理气体导入路径而将该置换气体导入到上述处理室中。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：仙波昌平，吹野康彦，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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