【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种显示基板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的黑矩阵，其特征在于，所述显示基板还包括：形成于所述衬底基板上的防反射结构，所述防反射结构包括多个第一凸状结构；其中，所述第一凸状结构的位置与所述黑矩阵的位置相对应。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：郭磊，涂志中，申莹，尹傛俊，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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