【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
磁控溅射门防下垂装置，其特征在于：该防下垂装置为支撑块，所述支撑块内部开有台阶孔，其中右侧孔的直径大于左侧孔的直径，支撑块上端面靠右侧有一段斜面，所述斜面向右下角倾斜，倾斜角度为8～15度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：章新良，
申请(专利权)人：蚌埠雷诺真空技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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