本实用新型给出了一种连续掩膜挡板传动装置,包括电机、掩膜挡板、安装支架、传动组件和底座，安装支架内开有贯穿上、下端面的镀膜槽口，镀膜槽口内侧壁上开有至少一条滑槽，掩膜挡板在所述滑槽内移动，底座放置在镀膜槽口下侧；传动组件至少包括传动丝杆...

聚焦离子束物理气相沉积装置，工艺腔与靶材传动腔及基片传动腔连通，靶材传动腔、基片传动腔分别与装靶腔及装片腔连通，工艺腔内设有靶托、基片架、掩模板以及具有聚焦模块的离子源，靶材传动腔、基片传动腔内分别设有真空机械手装置，基片传动腔还与热处...

本实用新型公开了一种真空机械手传动装置，包括磁流体动密封、机械手臂及齿轮传动机构，通过转动马达驱动第一齿轮、第二齿轮转动，联动磁流体动密封的旋转轴，带动摆杆底座转动；通过移动马达驱动联动磁流体动密封的中心轴上端的第三齿轮转动，间接驱动滚...

精确定位工件台的传动装置，它有推拉件、第一传动件、竖直的固定架、磁性密封件、第一至第二电机、第一至第三轴及水平的工件台、第一齿圈、第一齿轮、承载板；啮合的第一齿圈和第一齿轮为直齿圆柱齿轮；第一至第二电机、磁性密封件在固定架外上侧、内下侧...

本发明给出了一种连续掩膜挡板传动装置,包括电机、掩膜挡板、安装支架、传动组件和底座，安装支架内开有贯穿上、下端面的镀膜槽口，镀膜槽口内侧壁上开有至少一条滑槽，掩膜挡板在所述滑槽内移动，底座放置在镀膜槽口下侧；传动组件至少包括传动丝杆，传...

精确定位工件台的传动装置，它有推拉件、第一传动件、竖直的固定架、磁性密封件、第一至第二电机、第一至第三轴及水平的工件台、第一齿圈、第一齿轮、承载板；啮合的第一齿圈和第一齿轮为直齿圆柱齿轮；第一至第二电机、磁性密封件在固定架外上侧、内下侧...

本发明公开了一种真空机械手传动装置，包括磁流体动密封、机械手臂及齿轮传动机构，通过转动马达驱动第一齿轮、第二齿轮转动，联动磁流体动密封的旋转轴，带动摆杆底座转动；通过移动马达驱动联动磁流体动密封的中心轴上端的第三齿轮转动，间接驱动滚珠丝...

聚焦离子束物理气相沉积装置，工艺腔与靶材传动腔及基片传动腔连通，靶材传动腔、基片传动腔分别与装靶腔及装片腔连通，工艺腔内设有靶托、基片架、掩模板以及具有聚焦模块的离子源，靶材传动腔、基片传动腔内分别设有真空机械手装置，基片传动腔还与热处...

本实用新型给出了一种高温滚动轴承，包括外圈、内圈和滚动体，外圈与内圈之间开有放置滚动体的滚动槽，外圈内设有冷却水道，外圈还开有连通冷却水道与外部的进水孔和出水孔。向外圈的进水孔通入冷却水，冷却水经过冷却水道从出水孔流出，此过程中，冷却水...

本实用新型提供了一种用于真空镀膜的磁导向单元，包括大体呈几字形的磁铁挂件，磁铁挂件两侧壁的外侧均固定有磁铁固定槽，磁铁固定槽内装有多组磁铁。本实用新型的磁导向单元把磁铁固定在磁铁挂件的外部，不会对工件车产生刮擦，减少了基片架与磁导向单元...

本实用新型给出了一种基片架专用玻璃载具，包括两组框架组件和至少一个支撑杆，两组框架组件分别为第一框架组件和第二框架组件，第一框架组件和第二框架组件分别是由两个平行放置的框架杆构成，四个框架杆首尾相连构成闭合的平行四边形结构，所述的支撑杆...

磁控溅射真空室均匀进气装置，一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接，排气管的另一端与一只层流管的入口端相接，层流管具有一只一端开口的外套管，在外套管内装有一只内套管，内套管与外套管间形成有封...

本实用新型提供了一种磁控溅射门防下垂装置，该防下垂装置为支撑块，支撑块内部开有台阶孔，其中右侧孔的直径大于左侧孔的直径，支撑块上端面靠右侧有一段斜面，所述斜面向右下角倾斜，倾斜角度为8～15度。使用时，将本装置用螺栓固定在磁控溅射室的墙...

磁控溅射真空室均匀进气装置，一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接，排气管的另一端与一只层流管的入口端相接，层流管具有一只一端开口的外套管，在外套管内装有一只内套管，内套管与外套管间形成有封...

本发明给出了一种基片架专用玻璃载具，包括两组框架组件和至少一个支撑杆，两组框架组件分别为第一框架组件和第二框架组件，第一框架组件和第二框架组件分别是由两个平行放置的框架杆构成，四个框架杆首尾相连构成闭合的平行四边形结构，所述的支撑杆两端...

本发明提供了一种磁控溅射门防下垂装置，该防下垂装置为支撑块，支撑块内部开有台阶孔，其中右侧孔的直径大于左侧孔的直径，支撑块上端面靠右侧有一段斜面，所述斜面向右下角倾斜，倾斜角度为8～15度。使用时，将本装置用螺栓固定在磁控溅射室的墙体上...