【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法，所述方法包括：?具有简单微结构的弹性模板电极的设计与制备，以使具有简单微结构的模板电极在屈曲时产生所需的复杂三维多级微纳结构；?屈曲的产生及其调控，以使模板电极可控的屈曲产生所需的复杂三维多级微纳结构；以及?屈曲结构的复制，以使模板电极上屈曲得到的复杂多级微纳结构直接复制到刻蚀基底上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：詹东平，张杰，田中群，贾晶春，韩联欢，袁野，田昭武，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：
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