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一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法技术
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文档序号:9199248
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本发明提供了一种复杂三维多级微纳结构的约束刻蚀加工方法,可在具有简单微结构的弹性模板电极上原位屈曲产生复杂多级微纳结构,同时利用约束刻蚀技术将其屈曲得到的复杂多级微纳结构批量复制到基底材料上。所述方法包括:弹性模板电极简单微结构的设计与制备...
该专利属于厦门大学所有,仅供学习研究参考,未经过厦门大学授权不得商用。
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