含4,9-二氮杂芘的共轭聚合物及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公布了含4,9-二氮杂芘的共轭聚合物及其制备方法与应用，属于光电子材料与器件的新聚合物领域。本发明专利技术通过选择多种共轭芳香单体分别与含4,9-二氮杂芘单体的单体进行Suzuki偶联或者Stille偶联共聚，获得含4,9-二氮杂芘的共轭聚合物。本发明专利技术所制备的新型共聚物，具有荧光性，对太阳光具有吸收性，因此可应用于制作聚合物发光二极管器件，以及聚合物场效应晶体管和聚合物太阳电池的活性层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
含4,9?二氮杂芘的共轭聚合物，其特征在于：具有如下式Ⅰa或式Ⅰb所示的结构：?（式Ⅰa）；?或?（式Ⅰb）；?其中，R为C1～C24的烷基；Ar为以下共轭单元中的一种：烷基取代的共轭单元，烷氧基取代的共轭单元，烷基和烷氧基同时取代的共轭单元；0

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏仕健，刘明，曹镛，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：