印度梨形孢发酵方法及所用的响应面优化法技术

本发明专利技术公开了一种印度梨形孢发酵方法，以PDB培养基作为培养液，用浓度为1mol/L?的HCl溶液调节培养液的pH至5.0~5.1；然后放入印度梨形孢于27.5~28.5℃发酵培养14~15天；得发酵液。本发明专利技术还同时公开了一种响应面优化印度梨形孢发酵工艺的方法：设置以下3个变量：pH、PDB培养基的浓度和培养时间；利用design?expert软件，根据Box-Behnken设计原则进行优化。采用本发明专利技术的方法能提高次级代谢产物的得率，并减少营养成分及培养介质的消耗。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
印度梨形孢发酵方法，其特征是：以PDB培养基作为培养液，用浓度为1mol/L?的HCl溶液调节培养液的pH至5.0~5.1；然后放入印度梨形孢于27.5~28.5℃发酵培养14~15天；得发酵液。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈绍瑗，陈煜哲，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：