泥水盾构泥膜形成过程的模拟试验装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种泥水盾构泥膜形成过程的模拟试验装置。蓄泥箱顶部与气压源的出口相连，顶部装有压力传感器，底部放置在电子天平上；土样舱的底部有反滤层，反滤层上部放置土样，土样舱的沿轴线方向的侧壁装有TDR探头，探头布置在土样内，在侧壁上布置七个孔压传感器，蓄泥箱下部与土样舱顶部连接，土样舱下部出口与蓄水箱下部相连；蓄水箱顶部与气压源的出口相连，蓄水箱上部与渗流量测量筒顶部相连，渗流量测量筒底部放在电子天平上。在不同泥浆配方条件下，通过对泥浆施加驱动压力使其渗入土样，并监测不同时刻泥浆的渗透距离和孔压分布，探明泥浆成膜的极限条件，揭示泥膜渗透系数随时间变化的关系，研究泥膜形成过程，指导泥水盾构施工。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种泥水盾构泥膜形成过程的模拟试验装置，其特征在于：包括七个孔压传感器（4?10）、六个TDR探头（11?16）、圆柱形刚性土样舱、蓄泥箱（19）、两个电子天平（20，25）、蓄水箱（22）、两个压力传感器（21，23）和气压源（18）；蓄泥箱（19）顶部经第一阀门与气压源（18）的一个出口相连，蓄泥箱（19）顶部装有第一压力传感器（21），蓄泥箱（19）底部放置在第一电子天平（20）上；圆柱形刚性土样舱的底部有反滤层（2），反滤层（2）上部放置土样（1），土样（1）上面为泥浆（26），圆柱形刚性土样舱的沿轴线方向的侧壁装有六个TDR探头（11?16），六个TDR探头（11?16）分别插入土样内，与六个TDR探头（11?16）成90度方向的土样舱侧壁的对应高度分别布置一个孔压传感器，第七孔压传感器位于土样舱侧壁的上部，土样舱侧壁上部土样表面处安装有玻璃视窗（3），?蓄泥箱（19）下部经过三通阀门（17）与土样舱顶部连接，土样舱下部两个出口与蓄水箱（22）下部相连；蓄水箱（22）顶部经过第二阀门与气压源（18）的另一出口相连，蓄水箱（22）顶部安装有第二压力传感器（23），蓄水箱（22）侧壁上部经第三阀门与渗流量测量筒（24）顶部相连，渗流量测量筒（24）底部放在第二电子天平（25）上。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈仁朋，尹鑫晟，吴进，王瀚霖，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：