用于维护具有机器人的等离子体处理系统的装置制造方法及图纸

公开了一种用于对包括对接端口的等离子体处理系统执行一组服务程序的机器人装置。该装置包括平台和连接到平台的对接探针，其中，对接探针被配置为与对接端口对接。该装置还包括连接到平台的机械手臂，和连接到机械手臂的工具，并且该机械手臂还被配置为充分执行一组服务程序。该装置还包括连接到平台的计算机，其中，该计算机还被配置为执行一组服务程序，以及其中，当对接探针对接到对接端口时，由该工具执行一组服务程序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
总的来说，本专利技术涉及衬底制造技术，具体地，涉及用于服务 具有机器人的等离子体处理系统的装置。5
技术介绍
在衬底(例如，诸如在平板显示器制造中使用的半导体晶片或 3皮璃^反)的处理中，经常4吏用等离子体。例如，作为4十底处理的一 部分(化学汽相沉积、等离子体增强型化学汽相沉积、物理汽相沉 积、蚀刻等)，将衬底分成多个管芯(die)或矩形区域，每个管芯 10 或矩形区域都将成为集成电路。接着，通过一系列步骤对衬底进行 处理，其中，选4奪性i也去除(蚀刻)并沉淀(沉积)材冲+，以在其 上形成电子元件。在示例性等离子体处理中，在蚀刻之前，用石更化的感光乳剂薄 膜(例如，光刻胶掩模)涂覆衬底。然后，选择性地去除硬化的感15 光乳剂区域，使得露出底层部件。然后，将衬底放置在等离子体处 理室中的衬底支撑结构上，被称为卡盘的该衬底支撑结构包括单极 或7又才及4tM立电才及(clamping electrode )。随后，适当的々虫刻源气体(例 如，C4F8、 C4F6、 CHF3、 CH2F3、 CF4、 CH3F、 C2F4、 N2、 02、 Ar、 Xe、 He、 H2、 NH3、 S本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于对包括对接端口的等离子体处理系统执行一组服务程序的机器人设备，包括：　　　　平台；　　　　对接探针，连接到所述平台，其中，所述对接探针被配置为与所述对接端口对接；　　　　机械手臂，连接到所述平台，并且还被配置为充分执行所述一组服务程序；　　　　工具，连接到所述机械手臂；以及　　　　计算机，连接到所述平台，其中，所述计算机还被配置为执行所述一组服务程序；　　　　其中，当所述对接探针对接到所述对接端口时，通过所述工具执行所述一组服务程序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：安德鲁三世D贝利，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]