【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于一种单腔多靶极溅镀程式控制方式，具体涉及实验型镀膜设备薄膜沈积机制。
技术介绍
现有PVD等离子体物理气象沈积设备是借助在靶极上通入高电压直流、交流或射频电源来离子化工作气体(通常为氩气等惰性气体)，以产生等离子体来轰击靶面，使靶原子或分子获得动能向一定方向飞溅，并沈积薄膜于对向的基片上。一般设备的溅镀腔组态均为同一性质的靶源，但对于实验设备以成本为优先考量的情况下需在单一腔室内设置不同性质的靶源，如此情况下程式控制多为手动控制，既使用者自行开启或关闭所需要的靶极，但使用者对于何时需开启或关闭靶极无法精确控制，常会进而导致薄膜沈积的厚度及均匀度无法被控制，而使实验需重复进行，浪费人力及无法节约实验成本。
技术实现思路
综上所述，为了克服现有技术不足，本专利技术的主要目的在于提供一种单腔多靶极程式控制方式。为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案是: 一种单腔多靶极程式控制方式，通过定位光栅传感器侦测承载盘位置的回馈信号，并将此信号转换为数位信号供程式判断，当第一光栅动作时，程式开启地靶极1，其后计时25秒分别开启靶极2、靶极3及靶极4，当第二光栅动作时，依顺序分别关闭靶极1、靶极2、靶极3及靶极4 ;当第三光栅动作时，程式判断趟数设定值后，重复上述步骤，直到设定的反覆趟数到达，若无设定则直接 将承载盘退回至原位，结束程式。综上所述本专利技术利用现有机制搭配自行撰写的程式控制达到节约成本的效果、制作方便。具體實施方式 下面結合附图对本专利技术做进一步说明。請參閲圖I所示，一种单腔多靶极程式控制方式，系统组态如图1所示:承载盘11、第一缓冲...
【技术保护点】
一种单腔多靶极溅镀程式控制方式，其特徵在于通过承载盘定位光栅传感器感应与否，作为程式是否启动靶极电源的依据，同时也作为是否执行趟数计数的依据。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周文彬，刘幼海，刘吉人，
申请(专利权)人：吉富新能源科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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