一种凹型溅镀装置包含一个外壳座单元、一个设于外壳座单元中且呈凹型的冷却载座、一个磁石组、一个阴极靶及一个安装于外壳座单元的进出水管组，冷却载座包括一个本体、一个设置于本体且供磁石组设置的磁石容置槽组、一个设置于本体的冷却流道及一个承载面，承载面具一个平坦中段及两个自中段二侧以倾角延伸的倾斜段，阴极靶固设于承载面并包括一个叠置于中段的中央靶材，及两个叠置于倾斜段的倾斜靶材，进出水管组用于连通冷却流道，本新型借冷却载座提供配置冷却流道，利用冷却载座供磁石组与阴极靶安装以简化结构。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种凹型溅镀装置包含一个外壳座单元、一个设于外壳座单元中且呈凹型的冷却载座、一个磁石组、一个阴极靶及一个安装于外壳座单元的进出水管组，冷却载座包括一个本体、一个设置于本体且供磁石组设置的磁石容置槽组、一个设置于本体的冷却流道及一个承载面，承载面具一个平坦中段及两个自中段二侧以倾角延伸的倾斜段，阴极靶固设于承载面并包括一个叠置于中段的中央靶材，及两个叠置于倾斜段的倾斜靶材，进出水管组用于连通冷却流道，本新型借冷却载座提供配置冷却流道，利用冷却载座供磁石组与阴极靶安装以简化结构。【专利说明】凹型溅镀装置
本技术涉及一种溅镀装置，特别是涉及一种使用磁控的凹型溅镀装置。
技术介绍
现有的磁控的溅镀装置1，如专利TW 1302573号所揭示，是在溅射的基础上，运用 靶子自身电场与磁场的相互电磁交互作用来增加溅镀效率。参阅图1，而在前揭专利的第 16页说明，可以得知前揭专利利用两个第二溅镀源12与第一溅镀源11彼此共同形成凹型 配置，来使基板10上所形成的膜厚更加均匀。 但前揭专利的缺失在于，由于前揭专利所采用的磁场形成装置13会与靶子14相 对移动，因此在动态的情况下冷却流道将会难以配置，而前揭专利中并无教示应如何配置 冷却流道。 此外，由图1可知溅镀源11、12共有三个，呈左中右彼此分离的配置，结构复杂，而 前揭专利中并无教示应当如何将其统整安装。 因此，根据前揭专利所揭露的内容据以实施，将会面临冷却流道难以配置，以及结 构复杂无法统整等问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种易于配置冷却流道，并能统整且简化结构的凹型 溅镀装置。 本实用一种凹型溅镀装置，其特征在于包含： -个外壳座单元，包括一个基板、一个位于该基板上的主壳体，及一个锁固于该主 壳体顶缘的阳极框； 一个冷却载座，设置于该外壳座单元中，该冷却载座呈凹型设置，该冷却载座的两 侧高度高于中间高度，该冷却载座包括一个本体、一个设置于该本体的磁石容置槽组、一个 设置于该本体的冷却流道，及一个承载面，该承载面具有一个平坦的中段，及两个分别自该 中段二侧以一倾角延伸的倾斜段； 一个磁石组，设置于该冷却载座的磁石容置槽组中； 一个阴极靶，固设于该冷却载座的承载面，该阴极靶包括一个叠置于该中段的中 央靶材，及两个分别叠置于所述倾斜段的倾斜靶材；及 一个进出水管组，安装于该外壳座单元上，该进出水管组用于连通外部冷却液源 及该冷却载座的冷却流道。 本技术所述的凹型溅镀装置，其特征在于：该冷却载座还包括一个盖板，该承 载面形成于该本体，该本体具有一个自该承载面凹设的盖板槽，该盖板盖设于该盖板槽，该 冷却流道形成于该本体与该盖板之间。 本技术所述的凹型溅镀装置，其特征在于：该冷却载座还包括一个安装于该 本体底面的绝缘底板，及一个设置于该绝缘底板与该本体之间的密封环。 本技术所述的凹型溅镀装置，其特征在于：该冷却载座还包括两对分别开设 于该本体与该绝缘底板的通水孔，所述通水孔连通该进出水管组与该冷却流道。 本技术所述的凹型溅镀装置，其特征在于：该外壳座单元还包括数个开设于 该基板的阶级孔、数个设置于所述阶级孔中的绝缘套，及数个螺丝，所述螺丝分别穿过所述 绝缘套、该冷却载座的绝缘底板并且锁固于该本体底面。 本技术所述的凹型溅镀装置，其特征在于：该磁石容置槽组具有一个自该承 载面凹设且横跨该中段及所述倾斜段的内槽，及一个自该承载面凹设且围绕该内槽的外环 槽，该磁石组包括数个呈直线状排列于该内槽的内磁石，及数个呈环状排列于该外环槽的 外磁石。 本技术所述的凹型溅镀装置，其特征在于：该本体的盖板槽界于该内槽及该 外环槽之间，该冷却载座的盖板是设置于所述内磁石与所述外磁石之间。 本技术所述的凹型溅镀装置，其特征在于：该冷却载座还包括一个锁固于该 承载面周缘的压框，该阴极靶周缘受该压框压制。 本技术的有益的效果在于：采用该磁石组不相对该阴极靶移动的设计，借由 该冷却载座来提供配置该冷却流道，利用该冷却载座供该磁石组与该阴极靶安装，达到统 整且简化结构的功效。 【专利附图】【附图说明】 图1是一个剖面示意图，说明现有的溅镀装置； 图2是一个立体示意图，说明本新型凹型溅镀装置的较佳实施例； 图3是一个立体分解示意图，说明本较佳实施例的冷却载座； 图4是一个沿图2中线IV - IV的剖视示意图，说明本较佳实施例；及 图5是一个沿图2中线V - V的剖视示意图，说明本较佳实施例。 【具体实施方式】 下面结合附图及实施例对本技术进行详细说明。 参阅图2、图4与图5,本新型凹型溅镀装置之较佳实施例包含一个外壳座单元2、 一个冷却载座3、一个磁石组4、一个阴极靶5,及一个进出水管组6。 该外壳座单兀2电性为阳极，该外壳座单兀2包括一个基板21、一个位于该基板 21上的主壳体22、一个锁固于该主壳体22顶缘的阳极框23、一对开设于该基板21的通水 孔24,及一个位于该基板21下方的配管壳体25。 该冷却载座3设置于该外壳座单元2中，位于该外壳座单元2的基板21上方、该 主壳体22内部与该阳极框23下方，该冷却载座3与该阴极靶5电性为阴极，因此该冷却载 座3、该阴极靶5与该外壳座单元2间的连结关系需使用绝缘特性的组件，容后详述。 该冷却载座3的顶面呈凹型设置，该冷却载座3的两侧高度高于中间高度，在本较 佳实施例中，该冷却载座3的顶面中间平坦而两侧以一倾角倾斜向上延伸，该阴极靶5的形 状与该冷却载座3的顶面形状吻合，借此设计可以让待镀基材（图未示）的膜厚更加均匀， 改善左右两边镀膜原本较薄的缺失。 配合参阅图3,该冷却载座3包括一个本体31、一个形成于该本体31的承载面 310、一个锁固于该本体31顶面周缘的压框32、一个自该本体31承载面310向下凹设的磁 石容置槽组33、一个盖设于该本体31顶面且位于该压框32内部区域的盖板34、一个形成 于该盖板34与该本体31之间的冷却流道35、一个安装于该本体31底面的绝缘底板36、一 个设置于该绝缘底板36与该本体31之间的密封环37、一个穿套于该绝缘底板36以接触本 体31的底面且供数个螺丝30穿设锁固于该绝缘底板36上的阴极电极38,及两对分别开设 于该本体31与该绝缘底板36的通水孔39。本体31的通水孔39的位置与绝缘底板36的 通水孔39对应，而绝缘底板36的通水孔39的位置亦对应于基板21的通水孔24。 该承载面310具有一个平坦的中段311，及两个分别自该中段311二侧以一倾角向 上延伸的倾斜段312,该磁石容置槽组33具有一个自该承载面310凹设且横跨该中段311 及所述倾斜段312的内槽331，及一个自该承载面310凹设且围绕该内槽331的外环槽332， 该本体31具有一个自该承载面310凹设且介于该内槽331及该外环槽332之间的盖板槽 313,该盖板34盖设于该盖板槽313,该阴极电极38用于供外部电源提供阴极电性至该冷却 载座3及该阴极靶5,所述通水孔39、24连通该进出水管组6与该冷却流道35。 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种凹型溅镀装置，其特征在于包含： 一个外壳座单元，包括一个基板、一个位于该基板上的主壳体，及一个锁固于该主壳体顶缘的阳极框； 一个冷却载座，设置于该外壳座单元中，该冷却载座呈凹型设置，该冷却载座的两侧高度高于中间高度，该冷却载座包括一个本体、一个设置于该本体的磁石容置槽组、一个设置于该本体的冷却流道，及一个承载面，该承载面具有一个平坦的中段，及两个分别自该中段二侧以一个倾角延伸的倾斜段； 一个磁石组，设置于该冷却载座的磁石容置槽组中； 一个阴极靶，固设于该冷却载座的承载面，该阴极靶包括一个叠置于该中段的中央靶材，及两个分别叠置于所述倾斜段的倾斜靶材；及 一个进出水管组，安装于该外壳座单元上，该进出水管组用于连通外部冷却液源及该冷却载座的冷却流道。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄一原，沈定宇，卢木森，
申请(专利权)人：凌嘉科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71
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