本新型提供一种扩散板，其包含板体以及多个孔洞。板体包含矩形布孔范围，矩形布孔范围包含涵盖四角落的外围区域，外围区域的面积占比不大于矩形布孔范围的62％。前述多个孔洞分布于矩形布孔范围，且前述多个孔洞由内而外依序排列成同心的第1个至第N个...

一种末端返回式双面立式镀膜设备，包含第一排真空腔、第二排真空腔、转移真空腔及回流区。所述第一排真空腔设置在基准线的一侧且包括第一真空腔、第二真空腔及第三真空腔。所述第二排真空腔设置于所述基准线的另一侧且包括第四真空腔、第五真空腔及第六真...

一种旋转移载式立式镀膜设备，包含多个真空制程腔、第一旋转腔，及第二旋转腔。所述真空制程腔分别设置于第一轴线及第二轴线上，且能容置及输送所述待镀物。所述第一旋转腔设置于所述第一轴线上，并连接其中一个真空制程腔且可驱动所述待镀物旋转，并可供...

一种并列式镀膜设备及多层膜的镀膜方法，所述并列式镀膜设备适用于对载具所载送的至少一个待镀物进行镀膜，所述并列式镀膜设备包含双层真空腔

一种镀膜后的毛边去除装置及方法，所述镀膜后的毛边去除装置适用于应用于经镀膜后的料件单元，并包含基座单元、取料单元、往复单元，及回复单元。所述取料单元连接于所述基座单元，并至少用于连接所述料件单元的沿上下方向间隔的两侧。所述往复单元设置于...

一种末端返回式双面立式镀膜设备，包含第一排真空腔、第二排真空腔、转移真空腔及回流区。所述第一排真空腔设置在基准线的一侧且包括第一真空腔、第二真空腔及第三真空腔。所述第二排真空腔设置于所述基准线的另一侧且包括第四真空腔、第五真空腔及第六真...

一种旋转移载式立式镀膜设备，包含多个真空制程腔、第一旋转腔，及第二旋转腔。所述真空制程腔分别设置于第一轴线及第二轴线上，且能容置及输送所述待镀物。所述第一旋转腔设置于所述第一轴线上，并连接其中一个真空制程腔且可驱动所述待镀物旋转，并可供...

一种并列式镀膜设备，适用于对载具所载送的待镀物进行镀膜，所述并列式镀膜设备包含双层进料腔、多个制程腔及出料腔。所述双层进料腔包括在Z轴方向上相反设置的上层进料室与下层进料室，所述载具由所述上层进料室或所述下层进料室进料。所述制程腔用来对...

一种基板处理设备，包括腔室构件，其内定义具有宽深比的内部空间，所述腔室构件包括成对的入口墙及装卸端口。所述成对的入口墙彼此在横向上相对设置，每个所述入口墙具有入口，所述入口经配置以接收来自远程电浆源的输出。所述装卸端口于横向上布置在所述...

一种基板制程设备，其包含制程腔体及基板载台。所述制程腔体具有电浆入口壁及环绕壁。所述电浆入口壁经配置以接收来自一远程电浆源的输出。所述环绕壁形成腔体内表面，所述内表面定义内部空间以接收一基板。所述基板载台可升降地设置于所述制程腔体的所述...

一种工艺系统，配置来对工件进行工艺，包含工站，包括入口端及出口端，经配置以自该入口端接收所述工件，并由该出口端将所述工件移出该工站；回流设备，包括设置在该工站外的回流轨道，所述回流轨道经配置以使所述工件自所述出口端移动到所述入口端移动；...

一种镀膜后的毛边去除装置，适用于应用于经镀膜后的料件单元，并包含基座单元、取料单元、往复单元，及回复单元。所述取料单元连接于所述基座单元，并至少用于连接所述料件单元的沿上下方向间隔的两侧。所述往复单元设置于所述取料单元，并包括可沿所述上...

一种基板处理设备，包括腔室构件，其内定义具有宽深比的内部空间，所述腔室构件包括成对的入口墙及装卸端口。所述成对的入口墙彼此在横向上相对设置，每个所述入口墙具有入口，所述入口经配置以接收来自远程电浆源的输出。所述装卸端口于横向上布置在所述...

一种基板制程设备，其包含制程腔体及基板载台。所述制程腔体具有电浆入口壁及环绕壁。所述电浆入口壁经配置以接收来自一远程电浆源的输出。所述环绕壁形成腔体内表面，所述内表面定义内部空间以接收一基板。所述基板载台可升降地设置于所述制程腔体的所述...

一种工艺系统，配置来对工件进行工艺，包含工站，包括入口端及出口端，经配置以自该入口端接收所述工件，并由该出口端将所述工件移出该工站；回流设备，包括设置在该工站外的回流轨道，所述回流轨道经配置以使所述工件自所述出口端移动到所述入口端移动；...

一种节能窗户的隔离装置，所述节能窗户包含两个沿第一方向相间隔的玻璃，所述隔离装置包含安装框单元、支撑框及隔离膜单元。所述安装框单元包括安装框体，所述安装框体与所述玻璃相配合界定出隔离空间。所述支撑框安装于所述安装框体并具有可挠性。所述隔...

具有反应式离子蚀刻(以下称RIE)功能的连续式镀膜系统电连接于电源供应器且包含载盘并沿生产方向包含载入腔体、RIE装置、溅镀腔体及载出腔体。RIE装置包括电连接电源供应器以于执行RIE制程时作为第一极板用的蚀刻腔体及电浆局限单元。电浆局...

一种镀膜用磁性承载装置，是用来承载至少一待镀物，其包含一个基座、一个导磁单元，及一个磁性单元。该基座具有一个参考面。该导磁单元设置于该基座的该参考面，并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱。该磁性单元设置于该参考面。在本实用新型中，该导磁...

一种镀膜用磁性承载装置，是用来承载至少一待镀物，其包含一个基座、一个导磁单元，及一个磁性单元。该基座具有一个参考面。该导磁单元设置于该基座的该参考面，并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱。该磁性单元设置于该参考面。在本发明中，该导磁单元...

一种复合式稳定移载装置，用于安装在一个溅镀腔体，包含两个轮座、数个轮组、一个载台单元及一个驱动单元。所述轮组的其中数者间隔设置于其中一个轮座，其余数者间隔设置于另一个轮座。各轮组包括一个枢设于所对应的轮座的轮轴，及一个连接该轮轴的加磁输...