镀膜用磁性承载装置制造方法及图纸

一种镀膜用磁性承载装置，是用来承载至少一待镀物，其包含一个基座、一个导磁单元，及一个磁性单元。该基座具有一个参考面。该导磁单元设置于该基座的该参考面，并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱。该磁性单元设置于该参考面。在本实用新型专利技术中，该导磁单元的各凸柱的一顶面的一高度是大于该磁性单元的一顶面的一高度。本实用新型专利技术于该镀膜用磁性承载装置内引入该导磁单元，使该导磁单元与该磁性单元间距有一高度差，令该导磁单元的各凸柱顶面的高度大于该磁性单元的顶面高度，以借此消除该磁性单元所产生的磁场总量中的垂直分量的磁场，并有效地贡献出水平分量的磁场。

Magnetic bearing device for coating

The utility model relates to a magnetic bearing device for coating, which is used for carrying at least one object to be plated, comprising a base, a magnetic conduction unit, and a magnetic unit. The base has a reference surface. The magnetic guiding unit is arranged on the reference surface of the base and has a plurality of convex columns spaced apart from each other in a first direction. The magnetic unit is arranged on the reference surface. In the utility model, the top surface of each convex column of the magnetic guiding unit is a height higher than that of a top surface of the magnetic unit. The utility model in the coating with magnetic bearing device into the magnetic element, the magnetic element and the magnetic element spacing with a height difference, the height of the top surface of each convex surface of the top magnetic unit height is greater than the magnetic unit, in order to eliminate the vertical component of the magnetic field produced by the magnetic unit total students in the field, and effectively contribute to the horizontal component of the magnetic field.

【技术实现步骤摘要】
镀膜用磁性承载装置
本技术是涉及一种镀膜用承载装置，特别是涉及一种镀膜用磁性承载装置。
技术介绍
参阅图1及图2，美国第6,290,824核准公告号专利技术专利案公开一种用于一连续型(in-line)磁性薄膜镀膜系统1的载盘装置18。该连续型磁性薄膜镀膜系统1沿一X方向具有多个制程腔体(processchamber)11，还具有一个传输腔体(transportchamber)12、一个载入腔体(inletchamber)13、一个载出腔体(outletchamber)14、多个分隔阀门15、多个X方向传输机构(transportmechanism)16，及多个Y方向传输机构17。如图1所示，该传输腔体12是沿该X方向延伸；该载入腔体13与该载出腔体14是分别通过所述分隔阀门15中的其中两个分隔阀门15以连接于该传输腔体12的相反两端部121，且所述制程腔体11是通过剩余的分隔阀门15以连接该传输腔体12。所述X方向传输机构16是分别设置于该载入腔体13、该传输腔体12与该载出腔体14中，以承载该载盘装置18沿该X方向移动，所述Y方向传输机构17是设置于该传输腔体12，以承载该载盘装置18在一Y方向上于该传输腔体12与各制程腔体11间往复移动。再参阅图2，当该载盘装置18位于各制程腔体11中时，是通过各制程腔体11内的一个托盘承载机构111以沿一Z方向上下移动该载盘装置18，并位在各制程腔体11内的一个靶材112的上方。参阅图3与图4，该载盘装置18具有一个托盘(pallet)181，及两个彼此间隔设置于该托盘181上的永久磁条(permanentbarmagnet)182。该托盘181的一中心处设有一个阶级式穿孔180，且一个用来执行一镀膜制程的基材19是设置于该托盘18的该阶级式穿孔180中，以位于所述永久磁条182间。该载盘装置18是通过所述永久磁条182以对该基材19提供一平行于该基材19的平面方向的磁场B。该基材19于执行该镀膜制程时，自该靶材112所溅射而出的溅射粒子(sputteringparticles)是互相碰撞并沉积于该基材19的面向该靶材112的一表面上；同时，所述永久磁条182所产生的该磁场B能令溅射粒子沿该磁场B的方向排列，使经排列的溅射粒子沉积于该基材19表面后以形成一磁性取向薄膜(magneticallyorientedfilm，图未示)。此外，当设置有该基材19的载盘装置18经其中一Y方向传输机构17移出其制程腔体11时，沉积于该基材19表面上的磁性取向薄膜在完全冷却前，仍可通过所述永久磁条182所提供的该磁场B，以令该磁性取向薄膜的取向不是呈非序化的(disordered)。虽然该载盘装置18对该基材19所提供的该磁场B，可令该磁性取向薄膜在未完全冷却前的取向仍处于序化的。然而，该磁场B的分布对于该磁性取向薄膜的序化取向的贡献度仍然有限。经上述说明可知，改良镀膜用磁性承载装置的细部结构进而改善磁场分布，是此
的相关技术人员所待突破的难题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种镀膜用磁性承载装置。本技术的镀膜用磁性承载装置，是用来承载至少一待镀物，其包含一个基座、一个导磁单元，及一个磁性单元。该基座具有一个参考面。该导磁单元设置于该基座的该参考面，并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱。该磁性单元设置于该参考面。在本技术中，该导磁单元的各凸柱的一顶面的一高度是大于该磁性单元的一顶面的一高度。本技术的镀膜用磁性承载装置，该导磁单元还具有一个位于所述凸柱下的基部。本技术的镀膜用磁性承载装置，各凸柱是于该参考面上呈一肋状沿一实质垂直于该第一方向的第二方向延伸。本技术的镀膜用磁性承载装置，该参考面是由该基座的一顶面所定义而成，且该导磁单元与该磁性单元是设置于该参考面上。本技术的镀膜用磁性承载装置，该磁性单元具有一对永久磁肋条，该对永久磁肋条是沿该第二方向延伸以分别位于所述凸柱的最外侧的该两凸柱外，该导磁单元的该基部于所述凸柱的最内侧相邻凸柱间具有一个供放置该待镀物的设置区。本技术的镀膜用磁性承载装置，该导磁单元还具有一个围壁，该围壁围绕该对永久磁肋条与该导磁单元的所述凸柱及该基部。本技术的镀膜用磁性承载装置，该基座具有一封闭容室及一位于该封闭容室外的顶面，该基座的该参考面是低于该基座的该顶面，该导磁单元与该磁性单元是以该参考面做为一界面，该导磁单元与该磁性单元是设置于该基座的该封闭容室内，该导磁单元是位于该参考面上，且该磁性单元是位于该参考面下，该基座的该顶面具有一个供放置该待镀物的设置区。本技术的镀膜用磁性承载装置，该磁性单元具有多个永久磁肋条，所述永久磁肋条是沿该第二方向延伸以分别对应设置于该导磁单元的所述凸柱下。本技术的镀膜用磁性承载装置，该导磁单元的相邻凸柱间具有一第一间隙S1，S1介于0.5cm至5cm间；该磁性单元的相邻永久磁肋条间具有一第二间隙S2，S2介于0.5cm至5cm间。本技术的镀膜用磁性承载装置，该导磁单元的各凸柱沿该第一方向具有一第一宽度W1，W1介于0.2cm至1cm间；该磁性单元的各永久磁肋条沿该第一方向具有一第二宽度W2，W2介于0.5cm至2cm间。本技术的有益效果在于：于该镀膜用磁性承载装置内引入该导磁单元，使该导磁单元与该磁性单元间距有一高度差，令该导磁单元的各凸柱顶面的高度大于该磁性单元的顶面高度，以借此消除该磁性单元所产生的磁场总量中的垂直分量的磁场，并有效地贡献出水平分量的磁场。附图说明本技术的其他的特征及功效，将于参照图式的实施方式中清楚地呈现，其中：图1是一俯视示意图，说明美国第6,290,824核准公告号专利技术专利案所公开的一种连续型磁性薄膜镀膜系统；图2是一截面图，说明该连续型磁性薄膜镀膜系统的一制程腔体内所设置的一载盘装置；图3是一俯角立体图，说明该载盘装置及一设置于该载盘装置上的一基材；图4是沿图3的直线IV-IV所取得的一截面图，说明该载盘装置的一细部结构；图5是一俯视图，说明本技术镀膜用磁性承载装置的一第一实施例；图6是沿图5的直线VI-VI所取得的一剖面图，说明本技术该第一实施例的细部结构；图7是一磁力线分布图，说明本技术该第一实施例经一未具有一围壁的一导磁单元及一磁性单元的作用下所产生的磁力线分布；图8是一磁力线分布图，说明本技术该第一实施例经具有该围壁的导磁单元及该磁性单元的作用下所产生的磁力线分布；图9是自图7与图8所计算取得的一磁通密度(magneticfluxdensity；G)对距离(mm)曲线图，说明本技术该第一实施例的一设置区的平行于一参考面与垂直于该参考面的磁通密度分布；图10是一不完整的剖面图，说明本技术镀膜用磁性承载装置的一第二实施例；图11是一磁力线分布图，说明本技术该第二实施例经一导磁单元及一磁性单元的作用下所产生的磁力线分布；及图12是自图11所计算取得的一磁通密度(G)对距离(mm)曲线图，说明本技术该第二实施例的平行于一参考面与垂直于该参考面的磁通密度分布。具体实施方式如图5与图6所示，本技术镀膜用磁性承载装置的一第一实施例，是用来承载多个位于一连续型溅镀系统(in-linesput本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜用磁性承载装置，是用来承载至少一待镀物，其特征在于：其包含：一个基座，具有一个参考面；一个导磁单元，设置于该基座的该参考面并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱；及一个磁性单元，设置于该参考面；其中，该导磁单元的各凸柱的一顶面的一高度是大于该磁性单元的一顶面的一高度。

【技术特征摘要】
2016.01.06 TW 1051002351.一种镀膜用磁性承载装置，是用来承载至少一待镀物，其特征在于：其包含：一个基座，具有一个参考面；一个导磁单元，设置于该基座的该参考面并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱；及一个磁性单元，设置于该参考面；其中，该导磁单元的各凸柱的一顶面的一高度是大于该磁性单元的一顶面的一高度。2.根据权利要求1所述的镀膜用磁性承载装置，其特征在于：该导磁单元还具有一个位于所述凸柱下的基部。3.根据权利要求2所述的镀膜用磁性承载装置，其特征在于：各凸柱是于该参考面上呈一肋状沿一实质垂直于该第一方向的第二方向延伸。4.根据权利要求3所述的镀膜用磁性承载装置，其特征在于：该参考面是由该基座的一顶面所定义而成，且该导磁单元与该磁性单元是设置于该参考面上。5.根据权利要求4所述的镀膜用磁性承载装置，其特征在于：该磁性单元具有一对永久磁肋条，该对永久磁肋条是沿该第二方向延伸以分别位于所述凸柱的最外侧的两凸柱外，该导磁单元的该基部于所述凸柱的最内侧相邻凸柱间具有一个供放置该待镀物的设置区。6.根据权利要求5所述的镀膜用磁性承载装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶崇宇，苏晖家，叶承朋，颜嘉宏，黄琬瑜，卢木森，黄一原，
申请(专利权)人：凌嘉科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71