一种蚀刻装置，其设有一蚀刻组件、一输送组件及一载具组件，该蚀刻组件设有一蚀刻腔体、一上盖板及一升降装置，该上盖板可翻转地设于该蚀刻腔体顶面且设有一电极导入装置、两气孔板及一遮板，该输送组件设于该蚀刻组件内且于该蚀刻腔体内间隔设置有多个转动轴，该载具组件设于该输送组件上并设有数个载盘，各载盘与该输送组件的滚轮相贴靠且于顶面设有一极板，该极板贯穿设有两间隔设置并分别与该遮板两穿孔相对应的承载孔，提供一节省成本、缩短制造过程时间及提高产能的蚀刻装置。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种蚀刻装置，尤指一种蚀刻装置。
技术介绍
蚀刻为一种通过化学反应或物理撞击的方式对于材料进行移除的技术，现有蚀刻技术大致可分为湿蚀刻(wet etching)及干蚀刻(dryetching)两类,其中湿蚀刻是通过化学溶液进行化学反应而达到蚀刻的效果，而干蚀刻则是通过一种等离子体蚀刻(Plasmaetching)，等离子体蚀刻可能是等离子体中离子撞击晶片表面的物理作用或者可能是等离子体中活性自由基与晶片表面原子间的化学反应，也可能是两者的复合作用，随着科技的发展，蚀刻技术已广泛地应用于航空、机械、化学及半导体制造过程上；目前业界所使用的蚀刻机台80的配置如图8所示，其主要于中心处设置一机器手臂81，于该机器手臂81的周围依序环形间隔设置有数个传送室82、一定位室83、数个反应室84及一清洁室85，通过该机器手臂81将晶圆90于各室间进行移动、定位及蚀刻加工；然而，现有蚀刻机台80虽可通过机器手臂81进行移动、定位及蚀刻加工，但机器手臂81于各室间进行移动需花费不少的时间，且机器手臂81经长时间的使用后，容易因磨耗或磨损而影响其操作的准确性，使晶圆90可能于移动的过程中发生掉落而毁损的情形，有加以改进之处。
技术实现思路
为了改善上述现有蚀刻机台通过机器手臂进行移动、定位及蚀刻加工的缺失及不足，本专利技术的主要目的在于提供一种蚀刻装置，其可使晶圆在不需设置机器手臂的情况下进行移动及加工，从而提供一节省成本、缩短制造过程时间及提高产能的蚀刻装置。基于上述目的，本专利技术的蚀刻装置包含有一蚀刻组件、一输送组件及一载具组件，其中:该蚀刻组件设有一蚀刻腔体、一上盖板及一升降装置，该上盖板可翻转地设于该蚀刻腔体顶面且设有一电极导入装置、两气孔板及一遮板，该电极导入装置固设于该上盖板顶面且朝内设有一电极，两气孔板间隔地设于该上盖板底面，该遮板间隔地设于该上盖板底面且贯穿设有与该两气孔板相对应的穿孔，于两穿孔间贯穿一供该电极伸入该遮板的开孔，该升降装置固设于该蚀刻腔体底面且朝上设有一伸入该蚀刻腔体的升降杆；该输送组件设于该蚀刻组件内且于该蚀刻腔体内间隔设置有多个具有滚轮的转动轴；以及该载具组件于该输送组件上而可移动地设于该蚀刻腔体内并设有数个载盘，各载盘与该输送组件的滚轮相贴靠且于顶面设有一极板，该极板贯穿设有两间隔设置并分别与该遮板两穿孔相对应的承载孔。进一步，该蚀刻装置另设有一进料组件、一出料组件及一阀门组件，其中该进料组件设有一前、后端呈开口状且与该蚀刻腔体前端相结合的进料腔体，该出料组件设有一与该蚀刻腔体异于该进料腔体一端相结合的出料腔体，而该阀门组件设于该进料组件、该蚀刻组件及该出料组件之间且设有数个阀门装置，各阀门装置分别该设于各腔体之间，该输送组件于该进料组件及该出料组件的各腔体内间隔设置有多个具有滚轮的转动轴，该载具组件设于该输送组件上而可移动地设于各腔体之间。优选地，该进料腔体于内部两侧各设有一第一导轨，该蚀刻腔体于内部两侧各设有一与该进料腔体第一导轨直线相对的第二导轨，该升降装置的升降杆伸设于该蚀刻腔体内且介于两第二导轨间，而该出料腔体于内部两侧各设有一与该进料腔体第一导轨及该蚀刻腔体第二导轨直线相对的第三导轨，该输送组件的各滚动轴设于各腔体的两导轨内侧。优选地，该上盖板于该遮板周围的底面设有多个定位杆，各定位杆在异于该上盖板的底端设有一套设盖，而该载具组件的各载盘于该极板周围的顶面设有数个定位凸粒，当该载盘移动至该蚀刻腔体内时，各定位凸粒与该蚀刻组件各定位杆的套设盖直线相对。优选地，该上盖板于两相对侧边分别设有一与该蚀刻腔体顶面相固设结合的翻转压缸轴，使该上盖体可相对该蚀刻腔体翻转，且该上盖板于顶面固设有一与该电极导入装置相连接的输出功率单兀。优选地,该两气孔板分别于该上盖板顶面设有一用以输送气体的输送管，使气体可经由输送管及气孔板而进入该蚀刻腔体内。优选地，该遮板设有数个与该上盖板相固设结合的固定杆，使该遮板间隔地设于该上盖板的底面。优选地，该蚀刻组件另设有一与该蚀刻腔体相结合的高真空泵浦，使该蚀刻腔体内部维持于一高真空的状态。优选地，各阀门装置设有一阀门及一阀门气压缸，通过阀门气压缸的作动，使两相邻腔体间呈现相通或封闭的状态，而该输送组件各转动轴的一端套设有一传动轮，该传动轮可为一链轮或一皮带轮。优选地，该蚀刻装置在异于该蚀刻腔体的出料腔体一侧设有一清洁腔体，从而对于蚀刻后的晶圆进行表面清洗。通过上述的技术手段，本专利技术蚀刻装置于操作时于各腔体内分别设置一载盘，让各腔体可于同一时段中对于各晶圆进行不同的加工步骤，即可于本专利技术的蚀刻装置上进行的晶圆加工流程，让各晶圆依序且连续地于各腔体内进行加工，而不需再通过机器手臂的夹持及移动，即可形成一条龙的的生产线，不仅可提高产能且缩短制造过程时间，且晶圆通过各载盘而于各腔体间上进行输送，可有效避免晶圆可能于移动的过程中发生掉落而毁损的现象，进而达到节省成本的效果，从而构成一节省成本、缩短制造过程时间及提高产能的蚀刻装置。附图说明图1是本专利技术蚀刻装置第一实施例的外观立体示意图。图2是本专利技术蚀刻装置第一实施例的另一外观立体示意图。图3是本专利技术蚀刻装置第一实施例的剖面侧视示意图。图4是本专利技术蚀刻装置第一实施例的局部放大剖面侧视示意图。图5是本专利技术蚀刻装置蚀刻组件的立体外观示意图。图6是本专利技术蚀刻装置第一实施例的操作剖面侧视示意图。图7是本专利技术蚀刻装置第二实施例的外观立体示意图。图8是现有蚀刻机台的俯视示意图。主要元件符号说明10进料组件11进料腔体111第一导轨20蚀刻组件21蚀刻腔体211第二导轨22上盖板221翻转压缸轴23升降装置231升降杆24电极导入装置241电极25气孔板251输送管26遮板261固定杆262穿孔263开孔27定位杆 271套设盖272定位孔28输出功率单元29高真空泵浦30出料组件31出料腔体311第三导轨32清洁腔体40阀门组件41阀门装置42阀门43阀门气压缸50输送组件51转动轴52滚轮53传动轮60载具组件61载盘62极板621承载孔63定位凸粒70晶圆80蚀刻机台81机器手臂82传送室83定位室84反应室85清洁室90晶圆。具体实施例方式为能详细了解本专利技术的技术特征及实用功效，并可依照说明书的内容来实施，现进一步以如图所示的优选实施例，详细说明如后:本专利技术主要提供一种蚀刻装置，请配合参看如图1至3所示，由图中可看出本专利技术蚀刻装置，其设有一进料组件10、一蚀刻组件20、一出料组件30、一阀门组件40、一输送组件50及一载具组件60，其中:该进料组件10设有一进料腔体11，该进料腔体11为一略呈长方形的中空腔体，该进料腔体11的前、后端各呈一开口状，该进料腔体11于内部两侧各设有一第一导轨111，进一步，该进料组件10与一真空泵浦(图未示)相连接，从而使该进料腔体11维持一真空状态；请进一步配合参看如图4及5所示,该蚀刻组件20与该进料组件10相结合且设有一蚀刻腔体21、一上盖板22及一升降装置23，其中该蚀刻腔体21呈一与该进料腔体11结构相符合的中空腔体，该蚀刻腔体21与该进料腔体11的后端相固设结合且于内部两侧各设有一与该进料腔体11第一导轨111直线相对的第二导轨211，该上盖板22可翻转地设于该蚀刻腔本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种蚀刻装置，其包含有一蚀刻组件、一输送组件及一载具组件，其中：该蚀刻组件设有一蚀刻腔体、一上盖板及一升降装置，该上盖板可翻转地设于该蚀刻腔体顶面且设有一电极导入装置、两气孔板及一遮板，该电极导入装置固设于该上盖板顶面且朝内设有一电极，两气孔板间隔地设于该上盖板底面，该遮板间隔地设于该上盖板底面且贯穿设有与该两气孔板相对应的穿孔，于两穿孔间贯穿一供该电极伸入该遮板的开孔，该升降装置固设于该蚀刻腔体底面且朝上设有一伸入该蚀刻腔体的升降杆；该输送组件设于该蚀刻组件内且于该蚀刻腔体内间隔设置有多个具有滚轮的转动轴；以及该载具组件设于该输送组件上而可移动地设于该蚀刻腔体内并设有数个载盘，各载盘与该输送组件的滚轮相贴靠且于顶面设有一极板，该极板贯穿设有两间隔设置并分别与该遮板两穿孔相对应的承载孔。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：余端仁，
申请(专利权)人：余端仁，
类型：发明
国别省市：
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