干蚀刻清洗剥离防护液制造技术

本发明专利技术涉及干蚀刻清洗剥离防护液，主要由四烷基季胺、油酸、有机溶剂组成，其中，各组份之间的比例为四烷基季胺：油酸：有机溶剂=25～30：0.1～8：65～70。本发明专利技术所述干蚀刻清洗剥离防护液的有益效果主要有：在干蚀刻清洗剂或剥离液中可以很简单地消除或减少铝金属的腐蚀，而且不会对环境造成不良影响，同时配方简单，易混合，而且成本低廉，使用温度易控。经试验，该干蚀刻清洗剥离防护液安全无毒，即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀，又可以达到环保要求，同时配方简单，易混合，而且成本低廉，使用温度易控。

Dry etching, cleaning, peeling, protective liquid

The invention relates to a dry etching cleaning stripping protective liquid is mainly composed of four alkyl quaternary amine, oleic acid, organic solvent, in which the ratio between the four components of alkyl quaternary amine: oleic acid: organic solvent =25 ~ 30:0.1 ~ 8:65 ~ 70. The beneficial effect of the invention of the dry etching and cleaning off protective liquid are mainly in the dry etching cleaning agent or stripping liquid can easily eliminate or reduce the corrosion of aluminum metal, and will not cause adverse effects on the environment, at the same time, the formula is simple, easy to mix, and the cost is low, the use of easy temperature control. After testing, the dry etching and cleaning off protective liquid is safe and non-toxic, which can prevent and reduce the corrosion of aluminum metal in dry etching process, and can meet the requirements of environmental protection, at the same time, the formula is simple, easy to mix, and the cost is low, the use of easy temperature control.

【技术实现步骤摘要】
干蚀刻清洗剥离防护液
本专利技术涉及干蚀刻领域，具体是干蚀刻清洗剥离防护液。
技术介绍
金属蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。金属蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻(dryetching)两类。通常所指金属蚀刻也称光化学金属蚀刻（photochemicaletching），指通过曝光制版、显影后，将要金属蚀刻区域的保护膜去除，在金属蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(WeightReduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密金属蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，金属蚀刻更是不可或缺的技术。在铝金属干蚀刻的技术上，铝金属的表面损坏是一个严重的问题，工业上现在有几种方式防止或减少铝金属的腐蚀，一是用温和的材料做防护剂，但通常无法彻底清除残余物质，二是用反腐剂，但通常的反腐剂材料是有毒性的，三是在清洗剥离过程中加PH控制材料减少腐蚀程度，但这样处理程度就会比较复杂了。目前还没有一种天然的化学产品，即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀，又可以达到环保要求的干蚀刻清洗剥离专用的成分、生产工艺都比较简单的防护产品。
技术实现思路
本专利技术正是针对以上技术问题，提供一种天然的化学产品，即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀，又可以达到环保要求的干蚀刻清洗剥离专用的成分、生产工艺都比较简单的防护产品。干蚀刻清洗剥离防护液，主要由四烷基季胺、油酸、有机溶剂组成，其中，各组份之间的比例为四烷基季胺：油酸：有机溶剂=25～30：0.1～8：65～70。有机溶剂为两种有机溶剂混合组成。有机溶剂为二甲基亚砜与二乙二醇丁醚混合组成。干蚀刻清洗剥离防护液的使用温度为50℃～90℃。本专利技术还提供干蚀刻清洗剥离防护液的制备方法，包括以下步骤：1、制备混合溶液，将四烷基季胺加入器皿，边搅拌边加入有机溶剂；2、添加油酸，在步骤1中的混合溶液中加入油酸，然后通风搅拌30分钟；3、将步骤2中的混合溶液经过0.2μm过滤。本专利技术所述干蚀刻清洗剥离防护液的有益效果主要有：在干蚀刻清洗剂或剥离液中可以很简单地消除或减少铝金属的腐蚀，而且不会对环境造成不良影响，同时配方简单，易混合，而且成本低廉，使用温度易控。经试验证明，将某些具有-COOH功能基团的其他有机酸取代本专利技术所述的油酸，虽然也能达到部分要求，但由于其来源及与金属之间的结合等多方面原因，综合性能比采用本专利技术所述油酸要稍差，因此，本专利技术选用油酸作为防护液主要成分。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术作进一步说明。实施例将甲基亚砜：二乙二醇丁醚：四烷基季胺：油酸按50：20：28：2的比例准备好，先将甲基亚砜与二乙二醇丁醚制备成混合溶剂，充分混合后，在具有通风设备的非金属单一材质混合槽中倒入四烷基季胺，然后将混合溶液边搅拌边加入，最后将油酸在通风搅拌的情况下加入混合槽，继续通风搅拌30分钟后，经0.2μm过滤后包装待用。经试验，该干蚀刻清洗剥离防护液安全无毒，即可以达到防止或减少铝金属在干蚀刻过程中的腐蚀，又可以达到环保要求，同时配方简单，易混合，而且成本低廉，使用温度易控。本文档来自技高网...

【技术保护点】
干蚀刻清洗剥离防护液，主要由四烷基季胺、油酸、有机溶剂组成，其中，各组份之间的比例为乙醇胺：氨基酸：有机溶剂=25～30：0.1～8：65～70。

【技术特征摘要】
1.干蚀刻清洗剥离防护液，主要由四烷基季胺、油酸、有机溶剂组成，其中，各组份之间的比例为乙醇胺：氨基酸：有机溶剂=25～30：0.1～8：65～70。2.根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所述有机溶剂为两种有机溶剂混合组成。3.根据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所述有机溶剂为二甲基亚砜与二乙二醇丁醚混合而成。4.据权利要求1所述干蚀刻清洗剥离防护液，其特征在于所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建荣，
申请(专利权)人：昆山欣谷微电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32