DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘技术

本发明专利技术提供一种DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘，该方法包括以下步骤：将待沉膜的工件至于金属材质制作的调整底盘上并与该调整底盘相配合，且所述调整底盘暴漏的周侧面与所述工件的待沉膜表面之间形成连续的过渡；将所述工件及调整底盘放置于真空电场环境中；在所述工件的待沉膜表面及调整底盘暴漏的周侧面沉积DLC膜层；将沉积有DLC膜的工件从所述调整底盘上取下即完成了对所述工件的DLC沉膜。本发明专利技术通过在待沉膜工件的底部托起该调整底盘改变待沉膜工件下部边缘的电场，使得原来分布在其下边缘的不均匀电场变得均匀，从而改变沉积在整个工件外表面的DLC膜的均匀性，解决了现有技术中成品件下边缘脱膜的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘
本专利技术涉及一种DLC(DIAMOND-LIKECARBON)膜制备技术，尤其涉及一种DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法及调整底盘，属于DLC膜制备

技术介绍
DLC是一种由碳元素构成、在性质上和钻石类似，同时又具有石墨原子组成结构的物质，因此又称类金刚石薄膜，DLC是一种非晶态薄膜，由于具有高硬度和高弹性模量，低摩擦系数，耐磨损以及良好的真空摩擦学特性，很适合于作为耐磨涂层，从而引起了光学工程领域的重视。目前制备DLC薄膜的方法很多，不同的制备方法所用的碳源以及到达基体表面的离子能量不同，沉积的DLC膜的结构和性能存在很大差别，摩擦学性能也不相同。目前通常采用离子增强化学气相沉积(PECVD)制备DLC薄膜，类金刚石(DLC)薄膜具有一系列优异性能：红外区透明、硬度高、耐摩擦、化学性能稳定、耐热冲击、热膨胀系数小等；因此DLC薄膜的开发研究吸引了许多科技工作者的极大关注；DLC薄膜目前在光学方面的重要应用之一是利用其在红外区的透明性和良好的机械耐磨特性做红外光学零件的增透保护膜。现有技术中通常将待沉膜的工件放置在真空电场环境中，直接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，将待沉膜的工件置于金属材质的调整底盘上，所述调整底盘与工件相适配，且调整底盘暴漏的周侧面与所述工件的待沉膜表面之间形成连续的过渡；步骤2，将所述工件及调整底盘放置于真空电场环境中；步骤3，在所述工件的待沉膜表面及调整底盘暴漏的周侧面沉积DLC膜层；步骤4，将沉积有DLC膜的工件从所述调整底盘上取下即完成了对所述工件的DLC沉膜。

【技术特征摘要】
1.一种DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，将待沉膜的工件置于金属材质的调整底盘上，所述调整底盘与工件相适配，且调整底盘暴露的周侧面与所述工件的待沉膜表面之间形成连续的过渡；步骤2，将所述工件及调整底盘放置于真空电场环境中；步骤3，在所述工件的待沉膜表面及调整底盘暴露的周侧面沉积DLC膜层；步骤4，将沉积有DLC膜的工件从所述调整底盘上取下即完成了对所述工件的DLC沉膜；所述步骤1具体为：所述调整底盘由金属圆环和设在该金属圆环内的底架构成；将所述待沉膜工件置于该底架和金属圆环上，并使所述金属圆环暴露的周侧面与所述工件的待沉膜表面之间形成连续的过渡。2.根据权利要求1所述的DLC沉膜的膜厚均匀性控制方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：付秀华，李琳，刘冬梅，张静，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：发明
国别省市：