【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜生产线，特别是涉及一种连续立式双面镀膜生产线。
技术介绍
目前，随着电容式触摸屏的广泛应用，需通过真空溅射工艺并利用各种靶材在玻璃基片的正、反面镀上相应的膜层而制成双面镀膜玻璃，所述靶材包括ITO靶材(即纳米铟锡金属氧化物靶材)、硅靶材(如单晶硅靶材、多晶硅靶材、电子级硅片)等。现有的真空镀膜生产线为连续立式单面镀膜生产线。为了在玻璃基片的正、反面都镀上膜层，采取的是先在玻璃基片正面镀膜、再在玻璃基片反面镀膜的方法。这样，镀膜效率较低，且另外在玻璃基片的反面镀膜时，还容易损坏玻璃基片正面已镀好的相应膜层，使得双面镀膜玻璃的合格率较低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种连续立式双面镀膜生产线，采用本生产线，镀膜效率较高、双面镀膜玻璃的合格率较高。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种连续立式双面镀膜生产线，它包括移动式进片台、移动式出片台、至少七个回架装置、直线排列且依次首尾相连的至少十二个真空室，首端的那个真空室为进片室，尾端的那个真空室为出片室，进片室和出片室之间的真空室依次为首部的至少两个缓冲室、至少六个镀膜室、尾部的...
【技术保护点】
连续立式双面镀膜生产线，其特征在于：它包括移动式进片台、移动式出片台、至少七个回架装置、直线排列且依次首尾相连的至少十二个真空室，首端的那个真空室为进片室，尾端的那个真空室为出片室，进片室和出片室之间的真空室依次为首部的至少两个缓冲室、至少六个镀膜室、尾部的另外至少两个缓冲室；?进片室的进片口处设有真空插板阀，出片室的出片口处设有真空插板阀，进片室与首部的相邻那个缓冲室之间、首部的每两个相邻缓冲室之间、出片室与尾部的相邻那个缓冲室之间、尾部的每两个相邻缓冲室之间均设有真空插板阀，所述至少六个镀膜室和分别位于所述至少六个镀膜室首尾两侧且相邻的那两个缓冲室相连通；每个真空室内以...
【技术特征摘要】
1.连续立式双面镀膜生产线，其特征在于: 它包括移动式进片台、移动式出片台、至少七个回架装置、直线排列且依次首尾相连的至少十二个真空室，首端的那个真空室为进片室，尾端的那个真空室为出片室，进片室和出片室之间的真空室依次为首部的至少两个缓冲室、至少六个镀膜室、尾部的另外至少两个缓冲室； 进片室的进片口处设有真空插板阀，出片室的出片口处设有真空插板阀，进片室与首部的相邻那个缓冲室之间、首部的每两个相邻缓冲室之间、出片室与尾部的相邻那个缓冲室之间、尾部的每两个相邻缓冲室之间均设有真空插板阀，所述至少六个镀膜室和分别位于所述至少六个镀膜室首尾两侧且相邻的那两个缓冲室相连通； 每个真空室内以同一中心线排布方式设置玻璃基片装载架的第一独立传动装置，每个真空室的前侧或后侧室壁上设有一个室门，靠近首部缓冲室的至少两个相邻镀膜室的室门相对错开排列，靠近尾部缓冲室的至少两个相邻镀膜室的室门相对错开排列； 所述回架装置依次首尾直线间隔排列，每个回架装置内以同一中心线排布方式设置玻璃基片装载架的第二独立传动装置，所述回架装置的中心线的连线与所述真空室的中心线的连线相平行； 进片台设在进片室进片口处的真空插板阀之外且与该真空插板阀相间隔，进片台的移动轨迹线为分别垂直于所述两连线的直线，进片台的中心的移动距离等于所述两连线之间的距离； 出片台设在出片室出片口处的真空插板阀之外且与该真空插板阀相间隔，出片台的移动轨迹线为分别垂直于所述两连线的直线，出片台的中心的移动距离等于所述两连线之间的距离； 对于首部的至少两个缓冲室而言，每个缓冲室的室门的内侧、与所述室门相正对的另一侧室壁的内侧均装有 加热管； 对于靠近首部缓冲室的至少两个相邻镀膜室而言，每个镀膜室的室门的内侧、与所述室门相正对的另一侧室壁的内侧分别装有靶材、加热管； 对于靠近尾部缓冲室的至少三个镀膜室而言，每个镀膜室的室门的内侧、与所述室门相正对的另一侧室壁的内侧分别装有靶材、加热管； 对于剩余的那个镀膜室而言，该镀膜室的室门的内侧、与所述室门相正对的另一侧室壁的内侧均装有加...
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