一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线制造技术

技术编号:12203670 阅读:118 留言:0更新日期:2015-10-14 17:00
本发明专利技术提出了一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线,其特征在于包括依次连接的进升降架、进初抽气室、进精抽室、进调气室、进过渡室、工艺室、出过渡室、出调气室、出精抽室、出初抽气室、出升降架、与工件架适配的工件回行轨道组成连续循环生产的运行回路,所述进初抽气室连接第一抽气系统;所述进精抽室第二抽气系统;所述进调气室连接第三抽气系统;进过渡室、工艺室以及出过渡室均与第四抽气系统连接;所述出调气室与第五抽气系统连接、出精抽室与第六抽气系统连接、所述出初抽气室与第七抽气系统连接。本发明专利技术的大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线,结构设计简单、紧凑,产品产量大、生产成本低、膜层均匀性好、工艺可开发性强。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种大面积化学气相沉积真空镀膜生产线,尤其涉及用于大面积类金刚石薄膜连续沉积,并能实现基片装载连续循环和不间断生产大面积类金刚石薄膜的连续镀膜生产线。
技术介绍
类金刚石薄膜已经广泛的在国民的各个工业和生活领域应用,尤其在合金刀具、半导体、激光光学和表面视窗等领域。在应用中大部分都集中在对工业尤其是军事工业的应用,而很少涉及日常生活的民用产品领域。随着手机、电视、平板电脑和触摸屏等电子产品的大量应用,在这个消费电子产品的显示表面采用类金刚石薄膜进行强化和处理就有着巨大的应用前景。本专利技术技术就是要解决这个问题。现有传统的类金刚石薄膜的沉积方法有热丝法等离子化学气相沉积、直流等离子增强化学气相沉积、射频等离子增强化学气相沉积、微波等离子增强化学气相沉积、电子回旋微波等离子增强化学气相沉积和热喷法等离子化学气相沉积等。在现有的消费电子领域,由于消费电子产品的量大、易损和标准高,对生产设备的连续运行提出了很高的要求,因此并不是左右的类金刚石薄膜的沉积方法都适合大面积连续化的工业生产。热丝法是最主流的金刚石化学气相沉积的方法,这种方法采用灯丝加热分解工艺气体(甲烷、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大面积类金刚石化学气相沉积镀膜生产线,其特征在于包括依次连接的进升降架、进初抽气室、进精抽室、进调气室、进过渡室、工艺室、出过渡室、出调气室、出精抽室、出初抽气室、出升降架、与工件架适配的工件回行轨道组成连续循环生产的运行回路,所述进初抽气室连接第一抽气系统;所述进精抽室第二抽气系统;所述进调气室连接第三抽气系统;进过渡室、工艺室以及出过渡室均与第四抽气系统连接;所述出调气室与第五抽气系统连接、出精抽室与第六抽气系统连接、所述出初抽气室与第七抽气系统连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭爱云周学卿赵灿东黄定平
申请(专利权)人:河源市璐悦自动化设备有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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